Proceedings of the IEEK Conference (대한전자공학회:학술대회논문집)
- 2002.06b
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- Pages.9-12
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- 2002
A Study on the Improvement of$0.1\mu\textrm{m}$ CMOSFET's Electrical Quality Using Self Aligned Silicide Process
티타늄샐리사이드 공정을 이용한 $0.1\mu\textrm{m}$ CMOSFET의 전기적 특성 개선
Abstract
Keywords