In situ growth of an epitaxial $CoSi_2$ layer on a Si(100) substrate by reactive chemical vapor deposition using a cobalt metallorganic source

반응성 금속유기화학증착법에 의한 Si(100)기판 위에서 epitaxial $CoSi_2$ layer의 in situ 성장

  • 이화성 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 이희승 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 박종호 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 안병태 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 1999.11.01