The Properties and Low temperature Preparation of The Backlayer of Co-Cr thin layer by Ferrite Plating Method

페라이트 플레이팅법에 의한 CO-Cr박막 하지층의 저온제작과 그 특성

  • Kim, M.H. (Dept. Architectural Equipment, Kyungwon College) ;
  • Kim, T.Y. (Dept. Architectural Equipment, Kyungwon College) ;
  • Son, I.H. (Dept. Electrical Engineering, Kwangwoon Univ.) ;
  • Park, C.O. (Dept. Electrical Engineering, Sangji College) ;
  • Kim, J.H. (Dept. Electrical Engineering, Kwangwoon Univ.) ;
  • Kim, K.H. (Dept. Electrical Eng., Kyungwon Univ.)
  • 김명호 (경원전문대학 건축설비과) ;
  • 김탁용 (경원전문대학 건축설비과) ;
  • 손인환 (광운대학교 전기공학과) ;
  • 박창옥 (안동상지전문대학 전기공학과) ;
  • 김재환 (광운대학교 전기공학과) ;
  • 김경환 (경원대학교 전기공학부)
  • Published : 1997.11.29

Abstract

CO-Cr 수직자기기록 매체의 우수한 하지층을 개발하기 위하여, 스피넬 결점막$(Fe,M)_3O_4$ (M=Ni,Zn)이 스핀스프레이 페라이트 플레이팅 방법으로 유리 기판 위에 제작되었다. 반응액과 산화액은 기판이 회전하는 반응용기로 분사되었다. 반응은 기판의 회전소독, 반응온도, 반응액과 산화액의 유속 그리고 반응액과 산화액의 농도에 의해 영향받았다. 반응액과 산화액의 유속은 60(ml/min)으로 하고, 반응온도는 90[$^{\circ}C$] 그리고 기판의 회전속도는 150[rpm]의 조건하에서, 페라이트 플레이팅 반응에 미치는 반응액과 산화액 농도의 영향이 화학적 조성, 결정학적 및 자기적 특성의 관점에서 연구되었다. $Ni_{0.34}Zn_{0.66}Fe_2O_4$의 조성에서, 우리는 가장 안정한 결정학적 및 자기적 특성을 얻었다.

Keywords