A Study on the Energy Level and Concentration Profile of Gold Diffused into Silicon Wafer by Rapid Thermal Processing

RTP에 의해 Si내로 확산된 Au의 에너지준위 및 그 농도분포에 관한 연구

  • 서진욱 (울산대학교 공과대학 재료공학과) ;
  • 천희곤 (울산대학교 공과대학 재료공학과) ;
  • 권영규 (산업과학기술연구소 자동화부품연구실)
  • Published : 1995.02.01