Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical Engineers (대한전기학회)
권호 표지

Surface treatment effect of the $Si_3N_4$ gate pH-ISFET

$Si_3N_4$ 게이트 pH-ISFET의 표면 처리 효과

  • 권대혁 (경북대학교 전자공학과) ;
  • 이종현 (경북대학교 전자공학과) ;
  • 손병기 (경북대학교 전자공학과)
  • Published : 1987.07.03
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Abstract

For longterm conservation of the $Si_3N_4$ gate pH-ISFET, characteristics of ISFET surface treatment with HF and surface coating with paraffin wax were investigated.

Keywords