목적: 본 연구는 glycerin과 PVP(polyvinylpyrrolidone)을 각각 첨가제로 사용하였을 때 친수성 콘택트렌즈의 물성 변화를 평가하였다. 방법: Glycerin과 PVP(polyvinylpyrrolidone)를 각각 첨가제로 사용하여 교차결합제인 EGDMA (ethylene glycol dimethacrylate) 기본적인 모노머인 HEMA(2-hydroxyethyl methacrylate)와 그리고 개시제인 AIBN(azobisisobutyronitrile)을 기본 조합으로 하여 공중합하였다. 결과: 생성된 고분자의 물리적 특성을 측정한 결과 PVP(polyvinylpyrrolidone)의 경우, 굴절률은 1.4382~1.4288로, 인장강도는 0.3446~0.2542 kgf로 각각 감소하였으며, 접촉각은 21.44% 감소되고 함수율은 13.49% 증가하였다. 또한 glycerin의 경우, 굴절률 1.4330~1.4328로, 인장강도는 0.2974~0.2854 kgf로, 함수율은 35.58~36.53%로 큰 변화를 보이지 않았으며, 접촉각의 경우 37.64%가 감소되었다. 결론: 본 실험결과로 볼 때, 생성된 공중합체는 고 습윤성 안 의료용 렌즈 재료로 사용이 가능하며, 또한 glycerin을 첨가제로 사용하였을 때, 함수율과 굴절률의 변화를 최소화시킴과 동시에 친수성 렌즈의 습윤성을 증가시켰다.
표면 에너지가 낮아 접착이 어려운 EVA foam을 용해도 파라미터와 표면장력이 다른 용매로 표면처리하여 표면의 상태 변화를 SEM, 접촉각 측정 등으로 조사하였으며 표면의 변화가 접착력에 미치는 영향을 고찰하였다. Zismann plot에 의해 계산된 EVA foam의 임계표면장력 (${\gamma}_{c,0}$)은 27.08 dyne/cm이었다. 용매 처리에 의해 EVA foam 표면의 형태 및 임계포면장력이 변화하였으며 EVA foam의 팽윤도가 용해도 파라미터에 의해 영향을 받는 것에 비해 표면의 변화 정도는 용매의 표면장력에 더 크게 의존하였다. 표면의 변화는 용매의 표면장력 (${\gamma}_L$)이 EVA foam의 임계표면장력 보다 낮아 wetting이 잘될수록 커지는 것으로 나타났다. 용매 처리된 EVA foam을 접착한 결과 처리하지 않은 것에 비해 접착력이 600% 이상 크게 향상되었으며, ${\gamma}_c$가 프라이머의 ${\gamma}_{L,p}$에 근접하여 ${\gamma}_c/{\gamma}_{L,p}$가 1에 가까워질수록 접착력이 증가하였다.
본 연구에서는 기존 외국제품들과의 물성 비교를 통해 부가중합형 실리콘 인상재를 개발하기 위한 기초연구를 수행하였다. IR과 EDX를 이용한 인상재들의 화학적 분석, DSC와 TGA를 이용한 열적거동분석, 접촉각, 점도, 가교특성 및 기계적특성 등의 분석을 수행하여 본 연구에서 개발된 제품의 고무인상재로의 응용 가능성을 평가하였다. 기초연구 결과에 따르면 인상재에 요구되는 모든 물성을 만족하는 제품은 없었지만, 본 연구에서 개발된 인상재의 경우 인장물성 및 가교밀도 특성이 상대적으로 우수하여 인상 채득시 요구되는 기계적 특성에는 가장 잘 부합하였다. 그러나 향후 친수성 계면활성제 도입을 통한 젖음성 향상, 온도와 경화시간과의 상관관계 확립, 정확한 체적변화 및 인열강도 개선 둥의 추가적인 물성 향상이 필요한 것으로 판단되었다.
We designed new compositions for lead free and low temperature sealing glass frit of $ZnO-V_2O_5-P_2O_5$ system, which can be used for PDP (Plasma Display Panel) or other electronic devices. The $ZnO-V_2O_5-P_2O_5$ system can be used as a sealing material at temperatures even lower than 430$^{\circ}C$. This system, however, showed lower bonding strength with glass substrate compared to commercialized Pb based sealing materials. So, we added $TiO_2$ as a promoter for bonding strength. We examined the effect of $TiO_2$ addition on sealing behaviors of $ZnO-V_2O_5-P_2O_5$ glasses with the data for flow button, wetting angle, temporary & permanent residual stress of glass substrate, EPMA analysis of interface between sealing materials and glass substrate, and bonding strength. As a result, sealing characteristics of $ZnO-V_2O_5-P_2O_5$ system glasses were improved with $TiO_2$ addition, but showed a maximum value at 5 mol% $TiO_2$ addition. The reason for improved bonding characteristics was considered to be the chemical interaction between glass substrate and sealing glass, and structural densification of sealing glass itself.
para-aramid fibers were treated by atmosphere air plasma to improve the interfacial adhesion. The wettability of plasma-treated aramid fiber was observed by means of dynamic contact angle surface free energy measurement. Surface roughness were investigated with the help of scanning electron microscopy and atomic force microscopy. The tensile test of aramid fiber roving was carried out to determine the effect of plasma surface treatments on the mechanical properties of the fibers. A pull-out force test was carried out to observe the interfacial adhesion effect with matrix material. It was found that surface modification and a chemical component ratio of the aramid fibers improved wettability and adhesion characterization. After oxygen plasma, it was indicated that modified the surface roughness of aramid fiber increased mechanical interlocking between the fiber surface and vinylester resin. Consequently the oxygen plasma treatment is able to improve fiber-matrix adhesion through excited functional group and etching effect on fiber surface.
Nano adhesion between SPM (scanning probe microscope) tips and $DDPO_{4}$ (dodecylphosphoric acid ester) and $ODPO_{4}$ (octadecylphosphoric acid ester) SAM (self-assembled monolayer) was experimentally studied. Tests were performed to measure the nano adhesion and friction in both AFM(atomic force microscope) and LFM(lateral force microscope) modes with the applied normal load. $DDPO_{4}$ and $ODPO_{4}$ SAM were formed on TiMe and TiOx surfaces. TiMe and TiOx were coated on the Si wafer by ion sputtering. Adhesion and friction of $DDPO_{4}$ and $ODPO_{4}$ SAM surfaces were compared with those of OTS (octadecyltrichlorosilane) SAM and DLC surfaces. $DDPO_{4}$ and $ODPO_{4}$ SAM converted the TiMe and TiOx surfaces to be hydrophobic. When the surface was hydrophobic, the adhesion and friction forces were found lower than those of bare surfaces. Work of adhesion was also discussed to explain how the surface was converted into hydrophobic. Results also showed that tribological characteristics of $DDPO_{4}$ and $ODPO_{4}$ had good properties in the adhesion, friction, wetting angle and work of adhesion. $DDPO_{4}$ and $ODPO_{4}$ SAM could be one of the candidates for the bio-MEMS elements.
고강도 PAN계 탄소섬유를 양극산화하여 섬유의 표면 관능기와 표면 자유에너지, 그리고 최종 복합재료의 기계적 특성 향상에 미치는 영향을 고찰하였다. FT-IR과 XPS 측정 결과, 양극산화에 의해 형성된 섬유 표면의 산소 관능기는 섬유의 표면 에너지와 복합재료의 층간 전단강도 (ILSS)에 큰 영향을 주는 것으로 나타났다. 그리고 젖음액의 wicking rate에 근거한 접촉각 측정에서 탄소섬유의 양극산화는 표면 자유에너지의 극성 요소를 크게 증가시키며, 이것은 표면 에너지 관점에서 살펴볼 때 좋은 젖음성이 최종 복합재료의 섬유와 에폭시 수지 매트릭스사이의 계면결합력 향상에 중요한 역할을 하는 것으로 나타났다. 또한 본 연구에서는 섬유 표면의 $O_{1s}$$C_{11}$ ratio 또는 극성 요소와 복합재료의 ILSS사이에서 직선적인 상관관계를 나타낼 수 있었다.다.
높은 소수반송자 수명(life-time)을 가지는 고품위 실리콘 기판은 고효율 실리콘 이종접합 태양전지 제작을 위한 중요 요소 기술 중 하나이다. 본 연구에서는 n-type c-Si 기판을 이용한 고효율 실리콘 이종접합 태양전지제작을 위해 hot water oxidation(HWO) 공정을 이용하여 고품위 실리콘 기판을 제작하였다. 실리콘 기판의 특성 분석은 Qusi-steady state photoconductance (QSSPC)를 이용하여 소수반송자 수명을 측정하였으며, 기판의 면저항 및 wetting angle을 측정하여 공정에 따른 특성변화를 분석하였다. Saw damage etching 된 기판을 웨이퍼 표면으로부터 particle, 금속 불순물, 유기물 등의 오염을 제거하기 위해 $60{\sim}85^{\circ}C$로 가열된 Ammonia수, 과산화수소수($NH_4OH/H_2O_2/H_2O$), 염산 과산화수소수($HCL/H_2O_2/H_2O$) 및 실온 희석불산(DHF) 중에 기판을 각각 10분 정도씩 침적하여, 각각의 약액 처리 후에 매회 10분 정도씩 순수(DI water)에서 rinse하여 RCA 세정을 진행한 후 HWO 공정을 통해 기판 표면에 얇은 산화막 을 형성시켜 패시베이션 해주었다. HF를 이용하여 자연산화막을 제거시 HWO 공정을 거친 기판은 매끄러운 표면과 패시베이션 영향으로 기판의 소수 반송자 수명이 증가하며, 태양전지 제작시 접촉저항을 감소시켜 효율을 증가 시킬수 있다. HWO 공정은 반응조 안의 DI water 온도와 반응 시간에 따라 life-time을 측정하여 진행하였으며, 이후 PE-CVD법으로 증착된 a-Si:H layer 및 투명전도 산화막, 금속전극을 증착하여 실리콘 이종접합 태양전지를 제작하였다.
Nitride films such as TiN, CrN etc. deposited on glass by PVD processes have been developed for many industrial applications. These nitride films deposited on glass were widely used for not only decorative and optical coatings but also wear and corrosion resistance coatings employed as dies and molds made of glass for the example of lens forming molds. However, the major problem of nitride coatings on glass by PVD process is non-uniform film owing to pin-hole and micro crack. It is estimated that nonuniform coating is influenced by a different surface energy between metal nitrides and glass due to binding states. In this work, therefore, for the evaluation of nucleation and growth mechanism of nitride films on glass TiN and CrN film were synthesized on glass with various nitrogen partial pressure by unbalanced magnetron sputtering. Prior to deposition, for the examination of relationship between surface energy and film microstructure plasma pre-treatment process was carried out with various argon to hydrogen flow rate and substrate bias voltage, duty cycle and frequency by using pulsed DC power supply. Surface energy owing to the different plasma pre-treatment was calculated by the measurement of wetting angle and surface conditions of glass were investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Atomic Force Microscope(AFM). The microstructure change of nitride films on glass with increase of film thickness were analyzed by X-Ray Diffraction(XRD) and Scanning Electron Microscopy(SEM).
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.913-918
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2005
It is expected that the inkjet technology offers prospect for reliable and low cost manufacturing of FPD (Flat Panel Display). This inkjet technology also offers a more simplified manufacturing process for various part of the FPD than conventional process. For example, recently the novel manufacturing processes of color filter (C/F) in LCD, or RGB patterning in OLED by inkjet printing method have been developed. This elaborates will be considered as the precious point of manufacturing process for the mass production of enlarged-display panel with a low price. On this point of view, we would like to review the status of inkjet technology in FPD, with some results on forming micro line by inkjet patterning of suspension type silver nano ink as below. We have studied the inkjet patterning of synthesized aqueous silver nano-sol on interface-controlled ITO glass substrate. Furthermore, we designed the conductive ink for direct inkjet patterning on bare ITO glass substrate. The first, the highly concentrated polymeric dispersant-assisted silver nano sol was prepared. The high concentration of batch-synthesized silver nano sol was possible to 40 wt%. At the same time the particle size of silver nanoparticles was below $10{\sim}20nm$. The second, the synthesized silver nano sol was inkjet - patterned on ITO glass substrate. The connectivity and width of fine line depended largely on the wettability of silver nano sol on ITO glass substrate, which was controlled by surfactant. The relationship was understood by wetting angle. The line of silver electrode as fine as $50{\sim}100\;{\mu}m$ was successfully formed on ITO glass substrate. The last, the direct inkjet-patternable silver nano sol on bare ITO glass substrate was designed also.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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