• 한국진공학회지
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• 제6권S1호
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• pp.47-52
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• 1997

Metastable pseudomorphic GeSi layers grown by vapor phase epitaxy on Si(100) substrates were implanted at room temperature. The implantations were performed with 90 KeV As ions to a dose of $1\times 10^{13}\;\textrm{cm}^2$ for $Ge_{0.08}Si_{0.92}$ layers and 709 keV $BF_2^+$ ions to a dose of $3\times 10^{13}\;\textrm{cm}^2$ for $Ge_{0.06}Si_{0.94}$layers. The samples were subsequently annealed for short 10-40 s durations in a lamp furnace with a nitrogen ambient or for a long 30 min period in a vacuum tube furnace. For $Ge_{0.08}Si_{0.92}$samples annealed for a 30 min-longt duration at $700^{\circ}C$ the dopant activation can only reach 50% without introducing significant strain relaxaion whereas samples annealed for short 40s periods (at $850^{\circ}C$) can achieve more than 90% activation without a loss of strain, For $Ge_{0.06}Si_{0.94}$samples annealed for either 40s or 30min at $800^{\circ}C$ full electrical activation of the boron is exhibited in the GeSi epilayer without losing their strain. However when annealed at $900^{\circ}C$ the strain in both implanted and unimplanted layers is partly relaxed after 30min whereas it is not visibly relaxed after 40s.

• 한국진공학회지
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• 제6권4호
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• pp.293-297
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• 1997

점성진공계(spinning rotor gauge, SRG)는 고진공영역인 1${\times}$10-5∼100Pa에서 전달표 준기(transfer standard gauge)로 사용되고 있는 진공게이지이다. 제조회사가 각각 Leybold-Heraeus와 MKS회사인 두 개의 SRG에 대해서 질소가스를 사용하여 장기안정성과 적응계수(accommodation coefficient, $sigma$)결정에 영향을 미치는 변수들인 측정압력, 온도, 최 대도달압력(base pressure), 신호분산(signal scattering), 영점(offset)변화에 대한 특성을 10 개월에 걸쳐 조사하였다. 이 결과 장기안정특성 및 입력변수들에 의한 영향이 SRG 고유오 차인 $pm$1.0% 이내에 있음을 확인하였다.

• 한국전산유체공학회:학술대회논문집
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• 한국전산유체공학회 2008년도 춘계학술대회논문집
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• pp.711-714
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• 2008

The objective of this paper is to know the characteristics of pressure through a simplified typical carburetor used in small engines at the different throttle opening conditions. The carburetor is the device responsible for creating the right air-fuel mixture according to the different engine operating conditions. It is activated by the static or the dynamic pressure. The carburetor dummy is geometrically similar of LPG brush-cutter engine's diaphragm carburetor and is made of acrylic. Suction system gives body to crankcase vacuum using the vacuum pump and throttle opening conditions are controled by transfer device. Carburetor venturi throat and fuel charging tube diameter is each 20mm, 4.1mm. The result of the work presents an unprecedented phenomenon of suction pressure variation inside the carburetor venturi. It is predicted that these unprecedented pressure variation be caused by minor losses; sudden contraction or expansion, open or partially closed and so on.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2002년도 추계학술대회논문초록집
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• pp.369.2-369
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• 2002

For the evaluation of the plasma display panel (PDP)'s noise, vibration and sound characteristics of fanless PDP are measured and investigated. PDP is a type of two-electrode vacuum tube which operatres on the same principle as a household fluorescent light. An inert gas such as argon or neon is injected between two glass plates on which transparent electrodes have been formed, and the glass is illuminated by generating discharge. (omitted)

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.276-277
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• 2012

플라즈마 아킹은 PECVD, 플라즈마 식각 그리고 토카막과 같은 플라즈마를 이용하는 여러 공정과 연구 분야에서 문제가 되어왔다. 하지만, 문제의 중요성과 다르게 아킹에 대한 본질적인 연구는 아직 미비한 상태이다. 플라즈마 아킹은 집단전자방출(collective electron emission)에 의한 스파크 방전(spark discharge) 현상이다. 집단전자방출은 전계방출(field emission)이나 플라즈마와 쉬스를 두고 인접한 표면위에서의 유전분극(dielec emission)에 의해 발생한다. 우리는 CCP 플라즈마를 이용해 micro-arcing(MA)을 일으키고 랑뮈르 프로브를 이용해 MA 동안의 플로팅 포텐셜의 변화를 측정한다. MA시 PM-tube를 이용해 광량의 변화를 측정하고 플로팅 포텐셜을 fast-imaging과 동기화 시켜 MA 발생 메커니즘을 유추한다. 우리는 $30{\times}20$ cm 크기의 사각 전극을 위 아래로 가진 챔버에서 Ar 가스를 RF (13.56 MHz) 파워를 이용해 방전시켰다. 방전 전압과 전류는 파워 전극 앞단에서 High voltage probe (Tektronix P6015A)와 Current probe (TCPA300 + TCP312)를 이용해 측정했다. 플라즈마 아킹시 변하는 플라즈마 플로팅 포텐셜은 챔버 중앙에 위치한 랑뮈프 프로브에 의해 측정되고 챔버 옆의 뷰포트 앞에 위치한 PM-tube를 이용해 아킹시 변하는 광량을 측정하고 Intensified CCD를 이용해 fast-imaging을 한다. 또한 CCD 앞에 band pass filter를 부착하여 MA의 발생 메커니즘을 유추한다. RF 방전에서의 플라즈마 아킹은 아킹시 플로팅 포텐셜의 변화에 의해 크게 세부분으로 나눌 수 있다. 아킹 발생과 동시에 급격히 감소하는 감소부분(약 2 us) 그리고 감소한 포텐셜이 유지되는 유지부분(약 0~10 ms) 그리고 감소했던 포텐셜이 서서히 원래 상태로 회복되는 회복부분(약 100 us)이다. 아킹 초기시 방출된 집단 전자들은 쉬스를 단락시키게 되고 이로 인해 플로팅 포텐셜은 급격히 감소하게 된다. 이렇게 감소한 플로팅 포텐셜은 아킹 스트리머가 유지되는 한 계속 감소한 상태를 유지하게 된다. 그리고 플라즈마를 섭동했던 집단전자방출이 중단되면 플라즈마는 섭동전의 원래 상태로 회복된다. 플라즈마 아킹 발생시 생성되는 순간적으로 많은 전자들을 국소적으로 생성하게 되고 이 전자들에 의해 광량이 순간적으로 증가하게 된다. PM-tube (750.4 nm)에 의해 측정된 아킹시 광량은 정상방전 상태의 두배 가량이 된다. 그리고 이 순간적으로 증가된 광량은 시간이 지남에 따라 감소하게 되고 정상방전 일때의 광량이 된다. 광량이 증가한 후 정상방전상태의 광량에 이르는 부분은 플로팅 포텐셜이 감소한 상태에서 유지되는 부분과 일치하고 이는 플로팅 포텐셜의 유지부분동안 집단전자방출이 있다는 간접적인 증거가 된다. 그리고 정상 방전 상태 일때의 광량이 되면 집단전자방출이 중단되었다는 것이므로 그 시점부터 플로팅 포텐셜은 정산 방전상태 일때의 포텐셜로 복구되기 시작한다. 이처럼 PM-tube를 이용한 아킹 광량 측정은 아킹 스트리머를 간접적으로 측정하게 하고 집단전자방출을 이용해 아킹 시의 플로팅 포텐셜의 변화를 설명하게 해 준다.

• 한국진공학회지
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• 제14권4호
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• pp.252-257
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• 2005

고휘도 마이크로빔 X-선원에 사용할 고휘도 전자빔원을 탄소나노튜브를 이용하여 설계, 제작하였다. 전자빔원은 탄소나노튜브 팁을 이용한 음극, 전자빔 인출용 그리드, 전자빔 가속용 양극으로 이루어진 삼극관 형태의 구조를 가진다. 설계된 휘도 값을 얻기 위하여 X-선 발생부에서의 전자빔 직경이 5 $\mu$m 이하, 빔전류가 약 30 $\mu$A 이상이 요구된다 이러한 요구조건을 만족시키기 위하여, EGUN Code를 이용하여 전자빔의 궤적 및 공간분포 등을 계산함으로써, 탄소나노튜브 팁 및 전자빔원의 구조 등을 최적화 하였다. 제작된 탄소나노튜브 팁은 직경 200 $\mu$m 의 텅스텐 와이어를 전기화학적으로 에칭하여 그 끝을 뽀족하게 만든 뒤 텅스텐의 끝 부분에 탄소나 노튜브를 화학기상법으로 증착하여 제작하였다. 제작된 탄소나노튜브를 이용하여 전자빔 인출실험을 수행하였다. 개발 중인 탄소나노튜브 팁을 이용한 고휘도 전자빔원의 설계 특성 및 기초 실험결과를 보고한다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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• pp.125-126
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• 2010

플라즈마 아킹은 PECVD, 플라즈마 식각 그리고 토카막과 같은 플라즈마를 이용하는 여러 공정과 연구 분야에서 문제점을 야기시켜왔다. 하지만, 이에 대한 연구는 아킹 현상의 불규칙성과 과도적인 행동으로 인해 미비한 상태이다. 특히, RF 방전에서의 아킹 연구는 DC 방전에서의 아킹 연구에 비해 많이 부족한 것이 현실이다. 플라즈마 아킹은 집단전자방출(collective electron emission)에 의한 스파크 방전(spark discharge)현상이다. 집단전자방출은 전계방출(field emission)이나 플라즈마와 쉬스를 두고 인접한 표면위에서의 유전분극(dielec emission)에 의해 발생한다. 이렇게 방출된 집단 전자들은 쉬스에서 가속되어 에너지를 얻게 되고 원자와의 충돌로 전자 아발란체를 일으킨다. 이렇게 배가된 전자들은 아킹 스트리머(arcing streamer)를 형성하게 되고 아킹 발생 시 높은 전류와 공정 실패의 원인이 된다. 우리는 $30cm{\times}20cm$ 크기의 사각 전극을 위 아래로 가진 챔버에서 Ar 가스를 RF(13.56 MHz)파워를 이용해 방전시켰다. 방전 전압과 전류는 파워 전극 압단에서 High voltage probe (Tektronix P6015A)와 Current probe (TCPA300 + TCP312)를 이용해 측정했다. 플라즈마 아킹시 변하는 플라즈마 플로팅 포텐셜은 챔버 중앙에 위치한 랑뮈프 프로브에 의해 측정되고 챔버 옆의 뷰포트 앞에 위치한 PM-tube를 이용해 아킹시 변하는 광량을 측정한다. RF 방전에서의 플라즈마 아킹은 아킹시 플로팅 포텐셜의 변화에 의해 크게 세부분으로 나눌 수 있다. 아킹 발생과 동시에 급격히 감소하는 감소부분 (약 2us) 그리고 감소한 포텐셜이 유지되는 유지부분 (약 0~10ms) 그리고 감소했던 포텐셜이 서서히 원래 상태로 회복되는 회복부분(약 100 us)이다. 아킹 초기시 방출된 집단 전자들과 원자들간의 충돌에 의해 형성된 아킹 스트리머는 플라즈마 전체를 단락시키게 되고 이로 인해 플로팅 포텐셜은 급격히 감소하게 된다. 이렇게 감소한 플로팅 포텐셜은 아킹 스트리머가 유지되는 한 계속 감소한 상태를 유지하게 된다. 그리고 플라즈마를 섭동했던 아킹 스트리머가 중단되면 플라즈마는 섭동전의 원래 상태로 돌아가려 하기 때문에 플로팅 포텐셜은 서서히 증가하면서 원래 상태로 회복된다. 플라즈마 아킹 발생시 생성되는 아킹 스트리머는 순간적으로 많은 전자들을 국소적으로 생성하게 되고 이 전자들에 의해 광량이 순간적으로 증가하게 된다. PM-tube (750.4 nm)에 의해 측정된 아킹시 광량은 정상방전 상태의 두배 가량이 된다. 그리고 이 순간적으로 증가된 광량은 시간이 지남에 따라 감소하게 되고 정상방전 일때의 광량이 된다. 광량이 증가한 후 정상방전 상태의 광량에 이르는 부분은 플로팅 포텐셜이 감소한 상태에서 유지되는 부분과 일치하고 이는 플로팅 포텐셜의 유지부분동안 아킹 스트리머가 발생하고 있다는 간접적인 증거가 된다. 그리고 정상 방전 상태 일때의 광량이 되면 아킹 스트리머가 중단되었다는 것이므로 그 시점부터 플로팅 포텐셜은 정산 방전상태 일 때의 포텐셜로 복구되기 시작한다. 이처럼 PM-tube를 이용한 아킹 광량 측정은 아킹 스트리머를 간접적으로 측정하게 하고 아킹 스트리머를 이용해 아킹시의 플로팅 포텐셜의 변화를 설명하게 해 준다. 응용적인 측면에서 아킹 광량 측정을 이용한 아킹 판독은 방전 전류와 방전 전압과 같은 전기적 신호를 이용한 아킹 판독에 비해 여러가지 장점을 가진다. 우선, 전기적 신호를 이용한 아킹 판독처럼 매칭 회로나 플라즈마를 섭동시키지 않는다. 그리고 원하는 부분의 아킹만을 판독하는 것도 가능하며 photo-diode를 이용할 경우 전기적 신호를 이용하는 것에 비해 경제적으로 유리하다.

• Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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• 제32권6호
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• pp.893-900
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• 2008

The heat exchangers in the ships have been changed from the conventional shell & tube type to the plate type due to some merits as a compactness, a high thermal efficiency and a light-weight. In recent. it is reported that the vacuum phenomena were occurred in the seawater outlet piping of a main central cooler (MCC) on the ships. From the viewpoints of a common sense, the vacuum pressure in the seawater piping is rare event and difficult to be convinced because the seawater is pumped into the piping by a seawater pump with a high discharge head. However, the occurrence of a vacuum pressure in the seawater line of an MCC is real situation and often gives a severe damage to a rubber gasket of an MCC with a plate type heat transfer area. In this study, we analyzed the vacuum pressure in the seawater line of an MCC by using the simpl Bernoulli's equation and found that the vacuum pressure in the seawater line of an MCC is inevitable untill the installation postion of an MCC is not lowered.

• 자원리싸이클링
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• 제9권4호
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• pp.28-36
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• 2000

본 연구는 입자가 혼합된 용제를 이중판형 열교환기 내에서 가열 및 증발과정을 통해 건조이자와 용제로 분리하여 회수하기 위한 연속식 순간 진공건조 시스템 해석에관한 것이다. 진공건조시스템은 용제 공급펌프, 이중관형 열교환기, 진공 스프레이 챔버 및 응축기로 구성된다. 연속적으로 공급되는 용제는 이중관형 열교환기 내에서 가열, 팽창 및 증발되며 관 출구부에서 팽창된 증기가 진공 스프레이 챔버 내로 분사되고 증기는 응축기로 수송되어 용제로 회수되고 입자는 관성력에 의해 증기로부터 분리되어 건조된다ㅣ. 안료입자가 함유된 벤젠 및 알킬벤젠의 분리 및 회수성능 실험을 수행한 결과, 습분양 1.1%로 건조된 안료입자를 94% 회수하였고, 99.9 wt%의 고순도 벤젠을 88% 회수하였다. 평균직경이 $6.5\mu\textrm{m}$인 안료입자를 진공건조시스템의 이중관형 열교환기에서 관출구부의 고속 분사에 의한 폭발적 분산력에 의해 입경이 14%감소된 $5.6\mu\textrm{m}$ 크기의 건조 안료입자를 회수하였다. 따라서 진공건조시스템은 용제에 함유된 입자를 건조 및 분리하여 미분제 제품으로 히수하는데 효율적이며 폐용제 정제용으로 적용이 가능하다.

• 한국가스학회지
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• 제9권3호
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• pp.49-54
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• 2005

본 연구에서는 넓은 범위의 온도(420 K), 압력(70 MPa)에서 밀도를 측정할 수 있는 Anton Paar DMA 512P vibrating tube densimeter를 보정하고, 장치의 건전성을 확인하였다. 보정을 위해서 기준물질로 물과 질소 그리고 물과 진공의 period를 측정하여 각각을 비교해보았다. 온도는 313.15부터 353.15 K까지 10 K 간격으로 5 isotherms를 측정하였고, 압력은 5부터 30 MPa까지 대략 5 MPa 간격으로 측정하였다. 또한 이산화탄소의 밀도를 측정하여 NIST에 보고된 밀도값과 비교해 보았다. 기준물질로 물과 진공보다 물과 질소를 사용하였을 때 더 좋은 결과를 보였고, 이산화탄소의 경우 측정범위 내에서는 오차가 대략 $0.3\%$로 비교적 낮은 결과를 보였으며 이로써 장치의 건전성을 확인하였다.