Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.82.1-82.1
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2013
SPOES(Self Plasma Optical Emission Spectroscopy)는 반도체 및 LCD 제조 장비의 Foreline에 장착되는 센서로써, Foreline에 흐르는 Gas를 이온화시켜 이때 발생되는 빛을 분광시켜 공정의 상태 및 장비의 상태등을 종합적으로 점검할 수 있는 센서입니다. SPOES의 최대 장점은 공정 장비에 영향을 주기 않으면서 공정을 진단할 수 있고, 장비의 메인챔버에서 플라즈마 방전이 발생하지 않는 RPS (Remote Plasma System)등에 적용이 가능하며, 설치 및 분해이동과 운용이 용이한 장점이 있습니다. 하지만, SPOES는 오염성 가스 및 물질에 의한 오염에 취약한 단점이 있습니다. 예컨대, 플라즈마 방전에 의한 부산물들이 SPOES의 내부에 있는 윈도우의 렌즈에 부착되어 감도를 저하시켜, SEOES의 수명을 단축시킵니다. 또한 오염 물질이 SPOES 내부의 방전 CHAMBER에 증착되어 플라즈마 방전 효울을 저하시켜 센서의 효율을 저하시킵니다. 예를들면, 장비의 공정 챔버에서 배출되는 탄소와 같은 비금속성 오염물질과 텅스텐과 같은 금속성 오염물질이 SPOES의 방전 CHAMBER 내벽과 윈도우에 증착되어 오염을 유발합니다. 오염이 진행된 SPOES는 방전 CHAMBER의 오염으로 CHAMBER의 유전율을 변화시켜, 플라즈마 방전 효율의 저하를 가져오고, 윈도우의 오염은 빛의 투과율을 저하시켜, OES 신호의 감도를 저하시켜, SPOES 감도를 저하시키는 요인으로 작용합니다. 이러한 문제를 해결하기위한 방법으로 능동형 오염 방지 기술을 채용 하였습니다. 능동형 오염 방지 기법은 SPEOS의 방전 챔버에서 플라즈마 방전시 발생하는 진공의 밀도차를 이용하는 기술과 방전 챔버와 연결된 BYPASS LINE에 의해 발생되는 오염물질 자체 배기 시스템, 그리고 고밀도 플라즈마 방전을 일으키는 멀티 RF 기술 및 고밀도 방전을 일으키는 챔버 구조로 구성 되어 있습니다. 능동형 오염 방지 기법으로 반도체 공정에서 6개월 이상의 LIFETIME을 확보 할 수 있고, 고밀도 플라즈마로 인한 UV~NIR 영역의 감도 향상등을 확보 할 수 있습니다.
We will introduce our new concept deposition system for SMOLED manufacturing in this conference. This system is designed to deposit organic and metal material to downward to overcome the limit of substrate size and process tact time hurdle for OLED mass production, and is organized with organic deposition chamber, substrate pre-cleaning chamber, metal deposition chamber and encapsulation system. These entire process chambers are integrated with linear type substrate transfer system. We also compare our new SMOLED manufacturing system with conventional vacuum deposition systems, and show basic organic thin film property data, organic material deposition property data, and basic device property.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.14
no.6
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pp.334-338
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2013
In this study, the outgassing effects of selected vacuum materials on the vacuum characteristics were simulated by the $VacSim^{Multi}$ simulation tool. This investigation examined the feasibility of reliably simulating the outgassing characteristics of common vacuum chamber materials (aluminum, copper, stainless steel, nickel plated steel, Viton A). The optimum design factors for these vacuum systems were suggested based on the simulation results. The baking-out effects of the modeled systems and materials on the performance of the vacuum system were also analyzed. The simulation predicted that the overall outgassing effect was more significant in the turbomolecular pump system than in the diffusion pump system and that the utilization of a booster pump has a greater effect on the evacuation time than on the ultimate pressure.
The outgassing effects of selected vacuum materials on the vacuum characteristics were simulated by the $VacSim^{Multi}$ simulation tool. This investigation examined the feasibility of reliably simulating the outgassing characteristics of common vacuum chamber materials (aluminum, copper, stainless steel, nickel plated steel, Viton A). The optimum design factors for these vacuum systems were suggested based on the simulation results. The baking-out effects of the modeled systems and materials on the performance of the vacuum system were also analyzed. The simulation predicted that the overall outgassing effect was more significant in the TMP system than in the DP system and that the utilization of a booster pump has a greater effect on the evacuation time than on the ultimate pressure.
Cleaning effect of RF/DC discharge to clean the surface of vacuum chamber was studied for various discharge conditions. Glow discharge cleaning without baking reduced the outgassing rate to 1/2, which was similar to that after the only baking treatment alone. Glow discharge cleaning treatment with baking improved the cleaning efficiency and then the outgassing rate was remarkably reduced to 1/20. It was found that the ion energy and the ion density were important factors in cleaning the surface. RF discharge cleaning was more effective than BC discharge cleaning.
Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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2005.05a
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pp.949-952
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2005
According to the national space program in Korea, is satellites will be launch into space up to 2015. Especially, KARI is going to develope of its own a high resolution camera of less than 1m to be mounted on next Multipurpose Satellite. When performing testing of large spacecraft or hardware that will be launched into orbit, it is necessary to conduct a testing with space-simulated environment. To achieve this requirement, thermal vacuum chamber is generally used. KARI has been developed a very Large Thermal Vacuum Chamber(LTVC) from 2003 to accomodate future space program, such as KOMPSAT, COMS, and Launch vehicles. This new facility will be used to qualify the first self developed High Resolution Camera, which will be loaded on KOMPSAT-3. To perform an optical test for space camera, it is necessary to provide vibration free environment. Thus the vibration responses on the optical table due to external vibration should be minimized by using a special isolation system. In this paper, we propose the concept design of vibration isolation system for the development of the high resolution camera.
We measured the pumpdown curves of an A5083 vacuum chamber and analyzed the outgassing in terms of desorption energies of water. The outgassing curves follow a ~$t^{-1.15}$ behavior before bakeout, which can be described by the first-order desorption of water molecules in the oxide layer. Analysis of the curves reveals that there exist several adsorption sites on the surface for water in the pressure range of ~$10^{-5}\;-\;10^{ -8}$Torr. Measurements utilizing the throughput method show that the room temperature outgassing rate is ~1{\times}10^{-13}$ Torr $\ell$/s $\textrm{cm}^2$ after 24 - h bakeout at $100^{\circ}C$.
UHV-LCVD system was constructed for high quality silicon nitride thin film fabrication. This system consisted of a reaction chamber, an introduction chamber with sample load lock entry, a carbinet for gas manipulation controlling gas flow, a $CO_2$ laser and a Fourier transform mass spectrometer. Although the UHV-LCVD system construction was more sophisticated than low pressure CVD, highly pure thin films were fabricated by controlling gas mixing ratio and flow rate in ultra high vacuum surroundings.
Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing
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v.13
no.3
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pp.31-38
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1993
The storage ring vacuum system for the Pohang Light Source (PLS) has been designed to maintain the vacuum pressure of $10^{-10}Torr$ which requires UHV welding to have helium leak rate less than $1{\times}10^{-10}Torr{\cdot}{\ell}/sec$. In order to develop new technique (PLS) welding technique), a prototype vacuum chamber has been welded by using Tungsten Inert Gas welding method and all the welded joints have been tested with a non-destructive method, so called helium leak detection, to investigate the vacuum tightness of the weld joints. The test was performed with a detection limit of $1{\times}10^{-10}Torr{\cdot}{\ell}/sec$ for helium and no detectable leaks were found for all the welded joints. Thus the performance of welding technique is proven to meet the criteria of helium leak rate required in the PLS Storage Ring. Both the principle and the procedure for the helium leak detection are also discussed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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