• 제목/요약/키워드: thermal treatment.

검색결과 2,717건 처리시간 0.033초

Display 제조공정 배출가스 처리를 위한 휘발성 유기화합물 전처리 장치 개발 (Development of Volatile Organic Compound Pretreatment Device for Removing Exhaust Gas from Display Manufacturing Process)

  • 문기학;김재용
    • 공업화학
    • /
    • 제30권5호
    • /
    • pp.523-529
    • /
    • 2019
  • 본 연구에서는 최근 반도체 및 display 산업이 발달함에 따라 문제가 되고 있는 휘발성 유기화합물의 전처리에 관해 조사하였다. 일반적인 VOCs 처리 설비인 직접연소장치에 사용되는 농축기는 display 제조 공정 내 배출가스에 의해 쉽게 오염되어 성능저하를 일으키며 결과적으로 VOCs의 처리 효율을 떨어뜨린다. 배출가스 성분 분석 결과 고비점, 고점도, 고분자량의 Alcohol류 및 Oil 성분이 다량 검출되었다. 이에 전처리 설비 내 열교환기를 이용하여 농축기 성능저하 물질을 응축시켜 처리하고자 하였고, 대부분의 물질을 90% 이상 처리하였다. 또한 열교환기에서 재 비산되는 고분자 Oil 등은 후처리 설비로 Grease Filter를 장착하여 대부분 처리할 수 있는 것으로 확인되었다.

폴리스티렌 구형입자를 주형으로 이용한 할로우 메조포러스 질화탄소 구형입자의 합성 (Synthesis of Hollow Mesoporous Carbon Nitride Spheres Using Polystyrene Spheres as Template)

  • 박성수;하창식
    • 접착 및 계면
    • /
    • 제15권2호
    • /
    • pp.63-68
    • /
    • 2014
  • 주형으로 구형의 폴리스티렌을 사용하고 질소와 탄소원으로 시안아미드를 사용하여 열처리 과정을 거친 후 구형의 할로우 메조포러스 질화탄소 물질을 합성하였다. 이때 할로우 메조포러스 질화탄소 물질을 합성하는 과정에서 실리카와 같은 무기물 주형을 사용하지 않기 때문에 이차적인 실리카 제거 공정이 필요 없고 용매를 전혀 사용하지 않는다. 구형의 폴리스티렌 입자는 약 170 nm 크기였고 그리고 할로우 메조포러스 질화탄소 구형입자의 할로우 직경은 약 82 nm, 벽 두께는 약 13 nm이었다. 또한 할로우 메조포러스 질화탄소 물질의 표면적, 나노세공 크기, 세공부피는 각각 $188m^2g^{-1}$, 3.8 nm, $0.35cm^3g^{-1}$이었다. 한편, 할로우 벽은 흑연구조와 유사한 박막층의 쌓임 구조를 가졌으며 이러한 할로우 메조포러스 질화탄소 물질은 연료전지, 촉매, 광촉매, 전자방출 소자 등과 같은 분야에 매우 높은 응용 가능성을 가질 것으로 기대된다.

POINTWISE CROSS-SECTION-BASED ON-THE-FLY RESONANCE INTERFERENCE TREATMENT WITH INTERMEDIATE RESONANCE APPROXIMATION

  • BACHA, MEER;JOO, HAN GYU
    • Nuclear Engineering and Technology
    • /
    • 제47권7호
    • /
    • pp.791-803
    • /
    • 2015
  • The effective cross sections (XSs) in the direct whole core calculation code nTRACER are evaluated by the equivalence theory-based resonance-integral-table method using the WIMS-based library as an alternative to the subgroup method. The background XSs, as well as the Dancoff correction factors, were evaluated by the enhanced neutron-current method. A method, with pointwise microscopic XSs on a union-lethargy grid, was used for the generation of resonance-interference factors (RIFs) for mixed resonant absorbers. This method was modified by the intermediate-resonance approximation by replacing the potential XSs for the non-absorbing moderator nuclides with the background XSs and neglecting the resonance-elastic scattering. The resonance-escape probability was implemented to incorporate the energy self-shielding effect in the spectrum. The XSs were improved using the proposed method as compared to the narrow resonance infinite massbased method. The RIFs were improved by 1% in $^{235}U$, 7% in $^{239}Pu$, and >2% in $^{240}Pu$. To account for thermal feedback, a new feature was incorporated with the interpolation of pre-generated RIFs at the multigroup level and the results compared with the conventional resonance-interference model. This method provided adequate results in terms of XSs and k-eff. The results were verified first by the comparison of RIFs with the exact RIFs, and then comparing the XSs with the McCARD calculations for the homogeneous configurations, with burned fuel containing a mixture of resonant nuclides at different burnups and temperatures. The RIFs and XSs for the mixture showed good agreement, which verified the accuracy of the RIF evaluation using the proposed method. The method was then verified by comparing the XSs for the virtual environment for reactor applicationbenchmark pin-cell problem, as well as the heterogeneous pin cell containing burned fuel with McCARD. The method works well for homogeneous, as well as heterogeneous configurations.

벌크흑연 제조를 위한 결합재로 이용되는 콜타르 핏치 및 페놀수지의 열처리에 의한 결정성 변화 (Crystallinity Changes Heat Treatment of Coal Tar Pitch and Phenol Resin used as a Binder for Bulk Graphite Manufacturing)

  • 이상민;이현용;이상혜;노재승
    • 공업화학
    • /
    • 제32권2호
    • /
    • pp.174-179
    • /
    • 2021
  • 인조흑연 제조용 바인더로 주로 이용되는 콜타르 핏치와 페놀 레진은 soft carbon 및 hard carbon의 초기 탄소화합물 구조에 차이가 있다. 따라서 탄화 온도에 따른 열분해 거동, 미세조직, 결정성의 변화 과정도 다를 것으로 예상할 수 있다. 본 연구에서는 콜타르 핏치 및 페놀 레진의 열분해 거동, 미세조직, 결정성 변화에 관하여 비교 분석하였다. 콜타르 핏치는 액상을 경유한 탄화 과정을 거치며, 탄화 온도가 증가함에 따라 미세조직이 점차 변화되는 것을 확인할 수 있었다. 탄화 온도가 증가함에 따라 콜타르 핏치 및 페놀 레진 모두 결정성은 증가하는 경향을 나타냈지만, 콜타르 핏치는 미세조직이 급변하는 500 및 600 ℃ 구간에서 결정성도 급격히 변화는 것을 확인할 수 있었다. 또한 미세조직과 결정성은 서로 밀접한 연관성이 있었다.

GS-KG9 ameliorates diabetic neuropathic pain induced by streptozotocin in rats

  • Lee, Jee Youn;Choi, Hae Young;Park, Chan Sol;Pyo, Mi Kyung;Yune, Tae Young;Kim, Go Woon;Chung, Sung Hyun
    • Journal of Ginseng Research
    • /
    • 제43권1호
    • /
    • pp.58-67
    • /
    • 2019
  • Background: Diabetic neuropathy is one of the most devastating ailments of the peripheral nervous system. Neuropathic pain develops in ~30% of diabetics. Here, we examined the suppressive effect of GS-KG9 on neuropathic pain induced by streptozotocin (STZ). Methods: Hyperglycemia was induced by intraperitoneal injection of STZ. Rats showing blood glucose level > 250 mg/dL were divided into five groups, and treatment groups received oral saline containing GS-KG9 (50 mg/kg, 150 mg/kg, or 300 mg/kg) twice daily for 4 wk. The effects of GS-KG9 on pain behavior, microglia activation in the lumbar spinal cord and ventral posterolateral (VPL) nucleus of the thalamus, and c-Fos expression in the dorsal horn of the lumbar spinal cord were examined. Results: The development of neuropathic pain began at Day 5 and peaked at Week 4 after STZ injection. Mechanical and thermal pains were both significantly attenuated in GS-KG9-treated groups from 10 d after STZ injection as compared to those in the STZ control. GS-KG9 also repressed microglia activation in L4 dorsal horn and VPL region of the thalamus. In addition, increase in c-Fos-positive cells within L4 dorsal horn lamina I and II of the STZ control group was markedly alleviated by GS-KG9. Conclusion: These results suggest that GS-KG9 effectively relieves STZ-induced neuropathic pain by inhibiting microglial activation in the spinal cord dorsal horn and VPL region of the thalamus.

3원계 금속산화물로 제조한 마이크로웨이브 발열소재상 Li5Fe5O8 종이 발열성능에 미치는 영향 연구 (A Study on the Li5Fe5O8 Species Affecting the Microwave Heating Performance on the Ternary Li-Fe-Zn Material)

  • 장영희;이상문;김성수
    • 공업화학
    • /
    • 제29권6호
    • /
    • pp.703-709
    • /
    • 2018
  • 마이크로웨이브에 감응하는 주요물질인 Li와 Zn계 전구체를 다양한 조건별로 혼합 및 열처리하여 유전발열소재(dielectric heating materials)를 제조하였다. 제조된 발열소재의 표면 형태 등의 변화를 SEM 분석으로 확인하였으며 기공구조, 열처리 단계 그리고 표면에 형성되어 있는 $Li_5Fe_5O_8$ 물질이 발열성능에 주요한 영향인자임을 확인하였다. 또한 슬러지 건조 장치에 발열소재가 적용되었을 경우와 그렇지 않은 경우 25%의 함수율을 갖는 슬러지가 각각 6.34%, 15.22%로 건조되어 슬러지 수분 제거효율이 58.34% 상승하였음을 확인하였다. 이에 따라 발열소재가 마이크로웨이브 건조 공정의 성능 및 효율에 직접적인 영향을 미칠 수 있음을 확인하였다.

비정질 인듐-갈륨-아연 산화물 기반 박막 트랜지스터의 NBIS 불안정성 개선을 위한 연구동향 (Research Trends for Improvement of NBIS Instability in Amorphous In-Ga-ZnO Based Thin-Film Transistors)

  • 윤건주;박진수;김재민;조재현;배상우;김진석;김현후;이준신
    • 한국전기전자재료학회논문지
    • /
    • 제32권5호
    • /
    • pp.371-375
    • /
    • 2019
  • Developing a thin-film transistor with characteristics such as a large area, high mobility, and high reliability are key elements required for the next generation on displays. In this paper, we have investigated the research trends related to improving the reliability of oxide-semiconductor-based thin-film transistors, which are the primary focus of study in the field of optical displays. It has been reported that thermal treatment in a high-pressure oxygen atmosphere reduces the threshold voltage shift from -7.1 V to -1.9 V under NBIS. Additionally, a device with a $SiO_2/Si_3N_4$ dual-structure has a lower threshold voltage (-0.82 V) under NBIS than a single-gate-insulator-based device (-11.6 V). The dual channel structure with different oxygen partial pressures was also confirmed to have a stable threshold voltage under NBIS. These can be considered for further study to improve the NBIS problem.

Monochromatic Amber Light Emitting Diode with YAG and CaAlSiN3 Phosphor in Glass for Automotive Applications

  • Lee, Jeong Woo;Cha, Jae Min;Kim, Jinmo;Lee, Hee Chul;Yoon, Chang-Bun
    • 한국세라믹학회지
    • /
    • 제56권1호
    • /
    • pp.71-76
    • /
    • 2019
  • Monochromatic amber phosphor in glasses (PiGs) for automotive LED applications were fabricated with $YAG:Ce^{3+}$, $CaAlSiN_3:Eu^{2+}$ phosphors and Pb-free silicate glass. After synthesis and thickness-thinning process, PiGs were mounted on high-power blue LED to make monochromatic amber LEDs. PiGs were simple mixtures of 566 nm yellow YAG, 615 nm red $CaAlSiN_3:Eu^{2+}$ phosphor and transparent glass frit. The powders were uniaxially pressed and treated again through CIP (cold isostatic pressing) at 200 MPa for 20 min to increase packing density. After conventional thermal treatment at $550^{\circ}C$ for 30 min, PiGs were applied by using GPS (gas pressure sintering) to obtain a fully dense PiG plate. As the phosphor content increased, the density of the sintered body decreased and PiGs containing 30 wt% phosphor had full sintered density. Changes in photoluminescence spectra and color coordination were investigated by varying the ratio of $YAG/CaAlSiN_3$ and the thickness of the plates. Considering the optical spectrum and color coordinates, PiG plates with $240{\mu}m$ thickness showed a color purity of 98% and a wavelength of about 605 nm. Plates exhibit suitable optical characteristics as amber light-converting material for automotive LED applications.

냉동 비빔밥 제조 공정 중 콩나물, 무채 및 돈육의 품질 변화 (Changes in the Quality Characteristics of Bean Sprout, Radish, and Pork During the Unit Processing in Frozen Bibimbab Production)

  • 김이슬;선민지;홍근표
    • 산업식품공학
    • /
    • 제21권4호
    • /
    • pp.332-340
    • /
    • 2017
  • 본 연구에서는 냉동비빔밥 제조 공정 중 주요 식재료인 콩나물, 무채 및 돈육의 이화학적 특성 변화를 평가하였다. 콩나물의 품질은 원료의 데치기 공정, 해동 공정 및 최종조리 단계에서 변화가 야기되었으며, 특히 데치기 공정이 이후 단위 공정에 따른 품질에 영향을 미치는 중요한 공정 단계로 평가되었다. 무채는 해동 및 최종 조리 단계에서 높은 중량 감소를 보였지만, 다른 식재료에 비하여 감소 폭이 현저하지 않았다. 반면 취반미 혼합 공정에서 조직이 물러지는 현상이 야기되었다. 돈육은 취반미 혼합 및 최종조리 등 열처리에 의하여 중량 감소 및 연도 저하가 현저하게 발생하는 것으로 평가되었다. 이상의 결과에 의하면, 원료 단계에서 콩나물의 데치기 온도 및 시간에 대한 최적화 공정이 요구되며, 특히 모든 식재료에서 공통적으로 발생하는 취반미 혼합 공정에서의 품질 변화 억제를 위하여 냉동밥과 식재료를 분리하여 개별 냉동 후 포장할 수 있는 공정의 개선이 요구되었다.

불소화 에틸렌 프로필렌 나노 입자 분산액을 이용한 3차원 다층 미세유체 채널 제작 (Fabrication of 3D Multilayered Microfluidic Channel Using Fluorinated Ethylene Propylene Nanoparticle Dispersion)

  • 민경익
    • Korean Chemical Engineering Research
    • /
    • 제59권4호
    • /
    • pp.639-643
    • /
    • 2021
  • 본 연구에서는 3차원 다층 미세유체 디바이스를 제작하기 위한 접착제로서 불소화 에틸렌 프로필렌(fluorinated ethylene propylene, FEP) 나노입자를 연구하였다. FEP 분산 용액을 1500 rpm에서 30초 동안 단순 스핀 코팅하여 기판에 3 ㎛ 두께의 균일하게 분포된 FEP 나노 입자 층을 형성하였다. FEP 나노입자는 300 ℃에서 1시간 동안 열처리 후 소수성 박막으로 변형되었으며, FEP 나노입자를 이용하여 제작된 폴리이미드 필름 기반 미세유체 디바이스는 최대 2250 psi의 압력을 견디는 것을 확인하였다. 마지막으로 기존의 포토리소그래피로 제작하기 어려운 16개의 마이크로 반응기로 구성된 3차원 다층 미세유체 디바이스를 FEP가 코팅된 9개의 폴리이미드 필름을 간단한 1단계 정렬로 성공적으로 구현하였다. 개발된 3차원 다층 미세유체 디바이스는 화학 및 생물학의 다양한 응용을 위한 고속대량 스크리닝, 대량 생산, 병렬화 및 대규모 미세유체 통합과 같은 강력한 도구가 될 가능성이 있습니다.