Study on the Passivation of Si Surface by Incorporation of Nitrogen in Al2O3 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition (원자층 증착법으로 형성된 Al2O3 박막의 질소 도핑에 따른 실리콘 표면의 부동화 특성 연구)
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- Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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- v.22 no.4
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- pp.111-115
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- 2015