Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.156.2-156.2
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2016
The variation of the surface structure of the Al adsorbed W(110) planes according to the coverage and the substrate temperature has been investigated using LEED and ISS When the Al atoms were adsorbed on the W(110) surface at room temperature, a p($1{\times}1$) of the fcc (111) face were found at the coverage higher than 4 ML. When the substrate temperature was kept at 900 K during Al adsorption and the coverage was 1.0 ML, the surface revealed a p($1{\times}1$) of the bcc(110) face and when the coverage is 1.5 ML, the surface showed a p($1{\times}1$) of the bcc (110) face together with a p($1{\times}1$) double domain structure (fcc (111) face) rotated ${\pm}3^{\circ}$ from the [100] direction of the W(110) surface. When Al atoms were adsorbed on the W(110) surface at the substrate temperature of 1000 K and the coverage was higher than 1.0 ML, the surface revealed a p($1{\times}1$) of the bcc(110) face together with p($1{\times}1$) double domain structure(fcc(111) face) rotated ${\pm}3^{\circ}{\sim}5^{\circ}$ from the [100] direction of the W(110) surface. When Al atoms were adsorbed on the W(110) surface at the substrate temperature of 1100 K and the coverage was 0.5 ML, Al atoms formed a p($2{\times}1$) double domain structure When the coverage was 1.0 ML, the double domain hexagonal structure (fcc(111) face) rotated ${\pm}5^{\circ}$ from the [100] direction of the W(110) surface and another distorted hexagonal structure was found. Low-energy electron diffraction results along with ion scattering spectroscopy results showed that the Al atoms followed the Volmer-Weber growth mode at high temperature.
The CO molecules adsorbed on Ni(111) surface is studied in the cluster approximation employing EH method with self-consistent charge iteration. The effect of CO coverage is simulated by allowing the variation of valence state ionization potentials of each Ni atom in model cluster according to the self-consistent charge iteration method. The CO coverage dependent C-O stretching frequency shift, adsorption site conversion, and metal work function change are attributed to the charge transfer between metal surface and adsorbate. For CO/Ni(111) system, net charge transfer from Ni surface to chemisorbed CO molecules makes surface Ni atoms be more positive with increasing coverage, and lowers Ni surface valence band. This leads to a weaker interaction between metal surface valence band and Co $2{\pi}^{\ast}$ MO, less charge transfer to a single CO molecule, and the bule shift of C-O stretching frequency. Further increase of coverage induces the conversion of 3-fold site CO to lower coordination site CO as well as the blue shift of C-O stretching frequency. This whole process is accompanied by the continuous increase of metal work function.
Oh, Seung-Chul;Kim, Ki-Wan;Mamun, Abdulla H.;Lee, Ha-Jin;Hahn, Jae-Rayng
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.31
no.1
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pp.162-167
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2010
We investigated the adsorption and desorption characteristics of benzene molecules on $Si(001)-2{\times}n$ surfaces using a variable-low temperature scanning tunneling microscopy. When benzene was adsorbed on a $Si(001)-2{\times}n$ surface at a low coverage, five distinct adsorption configurations were found: tight-binding (TB), standard-butterfly (SB), twisted-bridge, diagonal-bridge, and pedestal. The TB and SB configurations were the most dominant ones and could be reversibly interconverted, diffused, and desorbed by applying an electric field between the tip and the surface. The population ratios of the TB and SB configurations were affected by the benzene coverage: at high coverage, the population ratio of SB increased over that of TB, which was favored at low coverage. The desorption yield decreased with increasing benzene coverage and/or density of vacancy defect. These results suggest that the interaction between the benzene molecules is important at a high coverage, and that the vacancy defects modify the adsorption and desorption energies of the benzene molecules on Si(001) surface.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.136-136
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2013
High-resolution photoemission spectroscopy (HRPES) measurements were collected and density functional theory (DFT) calculations were conducted to track the coverage dependent variation of the absorption structure of 2-thiophenecarboxaldehyde (C4H3SCHO: TPCA) on the Ge(100) surface at room temperature. In an effort to identify the most probably adsorption structures on the Ge(100) surface, we deposited TPCA molecules at a low coverage and at a high coverage and compared the differences between the electronic features measured using HRPES. The HRPES data provided three possible adsorption structures of TPCA on the Ge(100) surfaces, and DFT calculations were used to determine the plausibility of the structures. HRPES analysis, corroborated by DFT calculations, indicated that an S-dative bonded structure was the most probable adsorption structure at relatively lower coverage levels, the [4+2] cycloaddition structure was the second most probable structure, and the [2+2]-C=O cycloaddition structure was the last probable structure on the Ge(100) surfaces at relatively higher coverage levels.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.212-212
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2012
The Coverage dependent attachment of multifunctional groups included in threonine molecules adsorbed to Ge (100)$-2{\times}1$ surface was investigated using core-level photoemission spectroscopy (CLPES) and density functional theory (DFT) calculations. The core-level spectra at a low coverage indicated that the both carboxyl and amine groups participated in the bonding with the Ge (100) surface by "O-H dissociated and N-dative bonded structure". However, at high coverage level, additional adsorption geometry of "O-H dissociation bonded structure" appeared possibly to minimize the steric hindrance between adsorbed molecules. Moreover, the C 1s, N 1s, and O 1s core level spectra confirmed that the carboxyl oxygen is more competitive against the hydroxymethyl oxygen in the adsorption reaction. The adsorption energies calculated using DFT methods suggested that four of six adsorption structures were plausible. These structures were the "O-H dissociated-N dative bonded structure", the "O-H dissociation bonded structure", the "Om-H dissociated-N dative bonded structure", and the "Om-H dissociation bonded structure" (where Om indicates the hydroxymethyl oxygen). These structures are equally likely, according to the adsorption energies alone. Conclusively, we investigate in threonine on Ge (100) surface system that the "O-H dissociated-N dative bonded structure" and the "O-H dissociation bonded structure" are preferred at low coverage and high coverage.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.78-78
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2010
The Adsorption structures of phenylalanine on Ge(100) surface have been investigated as a function of coverage using high-resolution photoemission spectroscopy (HRPES) and density functional (DFT) calculation. To converge these experimental and theoretical conclusion, we systematically performed HRCLPES measurements and DFT calculation for various coverage in the adsorption structures of phenylalanine molecules on the Ge(100) surface. In this study, we found two different adsorption structure as a function of coverage in phenylalanine on Ge(100), monitoring three core level spectra (Ge 3d, C 1s, N 1s, and O 1s) using HRPES Through analysis of the binding energies, we confirmed that O-H dissociated and N dative-bonded structure emerges at low coverage (0.10 ML), which is the same to the result of glycine and alanine on Ge(100) system, whereas O-H dissociation structure also appears at higher coverage. Moreover, we observed the shape of phenyl group being included in phenylalanine is changed from flat to tilting structure at final state using DFT calculation. Through the spectral analysis for phenylalanine, we will demonstrate variation of coverage dependent structural change for phenylalanine on Ge(100) surface using experimental (HRPES) and theoretical studies (DFT calculation).
Korean Journal of Computational Design and Engineering
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v.19
no.1
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pp.12-18
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2014
Shot-peening is frequently used on various mechanical parts because it can improve the fatigue life of components by generating compressive residual stresses on the surface. This can be done by repeatedly hitting the work-piece surface with small balls and making indentations on it. In fact, finding optimal peening time among various peening parameters is the most important. Under-peening can not improve the fatigue life sufficiently while over-peening causes cracks and reduces fatigue life in contrast. In general, optimal peening time is experimentally determined by measuring arc-height using Almen-strip in accordance with SAE J442 standard. To save the time and efforts spent in carrying out experiments to find optimal peening time, this paper presents a computer simulation algorithm for the estimation of surface coverage made by impeller type shot-peening machines (PMI-0608). Surface coverage is defined as the proportion of the work-piece surface that has been indented in a given time of shot-peening. An example (standard tensile test specimen) is presented to validate the proposed method.
The effects of plating process on the surface coverage of the accelerator were investigated in terms of Cu superfilling for device metallization. When a substrate having 500 nm-wide trench patterns on it was immersed in an electrolyte containing poly (ethylene glycol) (PEG)-chloride ion ($Cl^-$)-bis(3-sulfopropyl) disulfide (SPS) additives without applying deposition potential for such a time of about 100s, voids were generated inside of the electrodeposit. In time-evolved electrochemical analyses, it was observed that the process (immersion without applying potential) in the electrolyte led to the build-up of high initial coverage of SPS-Cl on the surface, resulting in the fast saturation of the coverage. Repeated experiments suggested that the fast saturation of SPS-Cl failed in superfilling while a gradual increase in the SPS-Cl coverage through competition with initially adsorbed PEG-Cl enabled it. Consequently, superfilling was achievable only in the case of applying the plating potential as soon as the substrate is dipped in an electrolyte to prevent rapid accumulation of SPS-Cl on the surface.
This study assessed the contribution of emergent vegetation (Phragmites australis, Typha latifolia, and Nelumbo nucifera) to the submerged surface area, the amount of biofilms attached to the submerged portions of the plants, and the treatment performance of a free water surface (FWS) constructed wetland. Results showed that a 1% increase ($31m^2$) in the vegetative area resulted in an increase of $220m^2$ of submerged surface area, and 0.48 kg Volatile Suspended Solids (VSS) of attached biofilm. As the vegetation coverage increased, effluent organic matter and total Kjeldahl nitrogen decreased. Conversely, a higher nitrate concentration was found in the effluent as a result of increased nitrification and incomplete denitrification, which was limited by the availability of a carbon source. In addition, a larger vegetation coverage resulted in a higher phosphorus in the effluent, most likely released from senescent biofilms and sediments, which resulted from the partial suppression of algal growth. Based on the results, it was recommended that constructed wetlands should be operated with a vegetation coverage of just under 50% to maximize pollutant removal.
Myung-Gyun Baek;Sang-Seok Yun;Jin-Sa Kim;Hong-Gyu Park;Sang-Geon Park
Journal of Ceramic Processing Research
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v.23
no.3
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pp.320-325
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2022
In this study, we investigated the deposition of trimethoxy(propyl)silane as a self-assembled monolayer (SAM) on the surface of an indium tin oxide (ITO) substrate in organic light-emitting diodes (OLEDs) by examining the changes in surface characteristics of the modified substrate with variations in deposition time and temperature. The highest contact angle was obtained at 160 ℃, and for each deposition time, the contact angles were 63°, 66°, 80°, 96°, 103°, 103°, 103°, and 104°, respectively, indicating the contact angle, and thus the hydrophobicity, increased with increasing deposition time and temperature. In addition, after 90 min of deposition, adequate SAM coverage was achieved on the ITO surface. When the coverage ratio was calculated, ≥ 99% coverage was obtained after 90 min of deposition at 160 ℃. Atomic force microscopy of samples with SAM coverage obtained after 90 min at different deposition tem-peratures revealed improvement in the surface roughness of the fabricated samples. The work function, measured using a photoelectron spectrometer, demonstrated a characteristic increase with increasing temperature. Thus, SAM deposition can improve the ITO surface properties depending on the time and temperature of deposition.
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