• 제목/요약/키워드: short dental implants

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양극산화 아크방전 처리한 티타늄 임플란트의 불소방출 특성 (Characteristics of Fluoride Releasing of Anodized Titanium Implant)

  • 김하영;송광엽;배태성
    • 구강회복응용과학지
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    • 제24권4호
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    • pp.361-369
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    • 2008
  • 본 연구의 목적은 다공성의 티타늄 산화막에 불소를 처리한 결과를 평가하는 것이다. 디스크에 양극산화법을 통하여 다공성의 티타늄산화막표면을 얻은 후 불소를 처리하고 일정시간동안 Hank액에 침전을 시켰다. 양극산화를 통해 일정거칠기의 표면을 얻었으며 SEM과 XRD를 통하여 표면의 형상과 성분을 분석하였다. 생성된 표면은 빠른 표면 활성도를 보였으며, 적절한 거칠기와 좋은 골반응으로 골유착에 기여할 수 있을 것으로 여겨진다.