• 제목/요약/키워드: secondary substrate

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이차이온 질량분석기를 이용한 탄탈 박막내의 불순물 분석 (Impurity analysis of Ta films using secondary ion mass spectrometry)

  • 임재원;배준우
    • 한국진공학회지
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    • 제13권1호
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    • pp.22-28
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    • 2004
  • 본 논문은 탄탈 박막의 증착시 음의 기판 바이어스에 의한 탄탈 박막내의 불순물 농도변화에 대해서 고찰하였다. 탄탈 박막은 실리콘 기판 위에 이온빔 증착장비를 이용하여 기판 바이어스를 걸지 않은 경우와 -125 V의 기판 바이어스를 건 상태에서 증착하였다. 탄탈 박막내의 불순물 농도를 관찰하기 위해서 이차이온 질량분석기(secondary ion mass spectrometry)를 이용하였다. 세슘 클러스터 이온에 의한 깊이분석에서, -125 V의 기판 바이어스를 걸어줌으로써 산소, 탄소, 그리고 실리콘 불순물의 농도가 기판 바이어스를 걸지 않은 경우에 비해 상당히 감소한 것을 알 수 있었다. 또한, 세슘 이온빔과 산소 이온빔을 이용한 전체 불순물의 농도분포에서도, 음의 기판 바이어스가 박막 증착시 각각의 불순물 농도에 영향을 준다는 결과를 얻었고 이에 대한 고찰을 하였다.

Secondary Electron Emission of ZnO Films

  • Choi, Jinsung;Lee, Sung Kwang;Choi, Joon Ho;Choi, Eun Ha;Jung, Ranju;Kim, Yunki
    • Applied Science and Convergence Technology
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    • 제24권6호
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    • pp.273-277
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    • 2015
  • We investigated secondary electron emission characteristics of ZnO thin films prepared by pulsed laser deposition method with respect to the ambient oxygen pressure and the substrate temperature during the deposition. X-ray diffraction, UV-Vis spectrometry, atomic force microscopy, and ${\gamma}$-FIB were used to examine the structural, optical transmission, surface morphology, and secondary electron emission properties of the films, respectively. The secondary electron emission coefficient of the ZnO films increases as the O/Zn ratio of the films increases which was thought to result from either the ambient oxygen pressure increase or the substrate temperature decrease and as the grain size of the films decreases. It was confirmed that ZnO has better secondary electron emission characteristics than those of MgO, which is currently widely used as a material for PDP protecting layers.

HCD 이온 플레이팅법에 의해 증착된 MgO박막의 특성에 관한 연구 (A Study on the Characteristics of the MgO Thin Film Deposited by the Hollow Cathode Discharge Ion Plating Method)

  • 정우준;정희섭;황기웅
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1996년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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    • pp.200-202
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    • 1996
  • MgO film was deposited on the glass substrate by the hollow cathode discharge ion plating method and the characteristics of the MgO thin film such as deposition rate, crystalline orientation, surface morphology and secondary electron coefficient were investigated. The deposition rate of MgO thin films were $430^{\sim}1270{\AA}$/min at various temperatures and biases. The crystalline orientation of the MgO thin film changed from (200) to (220) upon increasing the HCD current from 100A to 200A. These results indicated that the crystallin orientation of the MgO thin film was determined by the super-saturation ratio. The (200) peak decreased and the (220) peak increased as the substrate bias increased, while both peaks increased as the substrate temperature increased. The grain size increased as the substrate bias increased and the secondary electron emission coefficient increased as the substrate bias increased.

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Pseudomonas testosteroni 6F1의 아닐린 분해에 미치는 이차기질의 영향 (Effect of Dual Substrates on Aniline Mineralization by Pseudomonas testosteroni 6F1)

  • Cho, Kyung-Yun;Chun, Hyo-Kon;Bae, Kyung-Sook;Kho, Young-Hee
    • 한국미생물·생명공학회지
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    • 제16권5호
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    • pp.427-431
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    • 1988
  • Pseudomonas testosteroni 6F1의 아닐린 분해에 미치는 이차기질의 첨가효과를 보기 위하여 균생장에 필요한 유도기간과 효소활성유도 정도를 조사하였다. 아닐린만 존재하는 배지에서 P. testosteroni 6Fl은 7시간의 유도기간을 필요로 한데 비하여 쉽게 이용가능한 이차기질을 첨가해준 경우 아닐린 분해에 필요한 유도기간이 1-3시간으로 줄어들었다. 이러한 아닐린 분해 촉진효과는 이차기질과 아닐린이 서로 발리 이용되면서 균체의 생장과 분해효소의 활성유도시기를 앞당겼기 때문이었으며, 이때 아닐린 분해효소의 최종활성 정도는 첨가해준 이차기질에 따라 다르게 나타났다.

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ZnO 기판 위에 Hydride Vapor-Phase Epitaxy법에 의한 GaN의 성장 (Growth of GaN on ZnO Substrate by Hydride Vapor-Phase Epitaxy)

  • 조성룡;김선태
    • 한국재료학회지
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    • 제12권4호
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    • pp.304-307
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    • 2002
  • A zinc oxide (ZnO) single crystal was used as a substrate in the hydride vapor-phase epitaxy (HVPE) growth of GaN and the structural and optical properties of GaN layer were characterized by x- ray diffraction, transmission electron microscopy, secondary ion mass spectrometry, and photoluminescence (PL) analysis. Despite a good lattice match and an identical structure, ZnO is not an appropriate substrate for application of HVPE growth of GaN. Thick film could not be grown. The substrate reacted with process gases and Ga, being unstable at high temperatures. The crystallinity of ZnO substrate deteriorated seriously with growth time, and a thin alloy layer formed at the growth interface due to the reaction between ZnO and GaN. The PL from a GaN layer demonstrated the impurity contamination during growth possibly due to the out-diffusion from the substrate.

버섯 수확 후 배지의 산업적 활용 (Industrial utilization of spent mushroom substrate)

  • 강희완
    • 한국버섯학회지
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    • 제17권3호
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    • pp.85-92
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    • 2019
  • Over a million tons of spent mushroom substrate (SMS) are generated as by-products of mushroom cultivation every year in Korea. Disposal of SMS by mushroom farmers is difficult, therefore, recycling solutions that do not harm the environment are necessary. SMS consists of mushroom mycelia and residues of fruiting bodies, containing a variety of bioactive substances, such as extracellular enzymes, antimicrobial compounds, and secondary metabolites. This paper reviews utility of SMS for bioremediation, controlling plant disease, and production of lignocellulytic enzymes, organic fertilizer, and animal feed.

실리콘을 첨가한 주석 산화물 박막의 전기 화학적 특성 (Electrochemical Characteristics of Silicon-Doped Tin Oxide Thin Films)

  • 이상헌;박건태;손영국
    • 한국재료학회지
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    • 제12권4호
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    • pp.240-247
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    • 2002
  • Tin oxide thin films doped with silicon as anodes for lithium secondary battery were fabricated by R.F. magnetron sputtering technique. The electrochemical results showed that the irreversible capacity was reduced during the first discharge/charge cycle, because the audition of silicon decreased the oxidic state of Tin. Capacity was increased with the increase of substrate temperature, however decreased with the increase of RTA temperatures. The reversible capacity of thin films fabricated under the substrate temperature of $300^{\circ}C$ and the Ar:$O_2$ratio of 7:3 was 700mA/g.

SIMS와 GDMS를 이용한 구리와 탄탈 박막내의 주요불순물 분석 (Analysis of dominant impurities in Cu and Ta films using SIMS and GDMS)

  • 임재원
    • 한국진공학회지
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    • 제13권2호
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    • pp.79-85
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    • 2004
  • 본 논문은 구리와 탄탈 박막내에 불순물로써 함유되기 쉬운 수소와 탄소, 그리고 산소 원소에 대해 이차이온 질량분석기(secondary ion mass spectrometry)와 글로우방전 질량분석기(glow discharge mass spectrometry)를 이용하여 분석하였고, 이들의 분석결과에 대해서 고찰하였다. 구리와 탄탈 박막은 실리콘 기판 위에 비질량 분리형 이온빔 증착장비를 이용하여 기판 바이어스를 걸지 않은 경우와 -50 V(구리 박막) 또는 -125 V(탄탈 박막)의 기판바이어스를 걸은 상태에서 증착하였다. 세슘 이온빔을 이용하여 분석한 SIMS 결과에서, 기판 바이어스를 걸지 않은 경우, 상당히 많은 피크들이 강하게 관찰되었는데 이는 위의 주요불순물들의 결합에 의한 상태로 검출된 것으로 이들 주요불순물들의 조합에 의해 가능한 질량번호를 산출하여 SIMS 결과의 모든 피크들을 해석할 수 있었다. 또한, 박막 내의 주요불순물들의 정량적인 GDMS 분석에 의해 SIMS 결과와의 일치성을 확인할 수 있었다.

알루미나와 실리콘 지지체에 종자결정에 의한 제올라이트 MFI 필름의 합성 (Synthesis of zeolite MFI films on alumina and silicon supports using seed crystals)

  • 고태석
    • 한국결정성장학회지
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    • 제18권1호
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    • pp.38-44
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    • 2008
  • c-축 배향을 갖는 MFI 제올라이트 필름$(<35{\mu}m)$을 종자결정 성장법을 이용하여 실리카라이트-1 종자결정이 도포된 알루미나와 실리콘 지지체 위에 성장시켰다. 지지체 표변에서 성장된 필름은 전자현미경과 X- 회절 분석을 이용하여 조사하였다. 지지체 표면의 거친 정도에 따른 필름의 성장에 미치는 영향에 대해서 조사하였으며 c- 축 배향을 갖는 필름과 종자결정 성장법에서 나타나는 특징적인 돔 형태의 결함구조의 생성과 반응기구에 대해서 설명하였다. 지지체 표면의 거친 정도가 c- 축 배향에 중요한 역할을 하였다.

Effect of KCN Treatment on Cu-Se Secondary Phase of One-step Sputter-deposited CIGS Thin Films Using Quaternary Target

  • Jung, Sung Hee;Choi, Ji Hyun;Chung, Chee Won
    • Current Photovoltaic Research
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    • 제2권3호
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    • pp.88-94
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    • 2014
  • The structural, optical and electrical properties of sputter-deposited CIGS films were directly influenced by the sputtering process parameters such as substrate temperature, working pressure, RF power and distance between target and substrate. CIGS thin films deposited by using a quaternary target revealed to be Se deficient due to Se low vapor pressure. This Se deficiency affected the overall stoichiometry of the films, causing the films to be Cu-rich. Current tends to pass through the Cu-Se channels which act as the shunting path increasing the film conductivity. The crystal structure of CIGS thin films depends on the substrate orientation due to the influence of surface morphology, grain size and stress of Mo substrate. The excess of Cu was removed from the CIGS films by KCN treatment, achieving a suitable Cu concentration (referred as Cu-poor) for the fabrication of solar cell. Due to high Cu concentrations on the CIGS film surface induced by Cu-Se phases after CIGS film deposition, KCN treatment proved to be necessary for the fabrication of high efficiency solar cells. Also during KCN treatment, dislocation density and lattice parameter decreased as excess Cu was removed, resulting in increase of bandgap and the decrease of conductivity of CIGS films. It was revealed that Cu-Se secondary phase could be removed by KCN wet etching of CIGS films, allowing the fabrication of high efficiency absorber layer.