• Title/Summary/Keyword: reactive sputtering

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Reactive Ion Scattering Study of Ice Surfaces. Proton Transfer and H/D Exchange Reactions

  • Mun, Ui-Seong;Kim, Su-Yeon;Gang, Heon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.64-64
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    • 2010
  • Ice film surfaces were examined by using the reactive ion scattering (RIS) of low energy (<35 eV) cesium ion beams. Neutral molecules (X) on the surface were detected in the form of cesium-molecule ion clusters (CsX+). Ionic species on the surface were desorbed from the surface via a low energy sputtering (LES) process below the threshold energy of secondary ion emission. The RIS and LES methods allowed us to study the H/D exchange reactions between H2O and D2O molecules on the surface and the associated proton transfer mechanisms. Specifically, H/D exchange kinetics was examined for D2O ice films (~10 BL) covered with a small amount of H2O (<0.5 BL), in the presence or absence of HCl adsorbates which provided excess protons on the surface.

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Study on reactive magnetron sputtering process and thin film of AIN (반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 AI계 박막형성에 관한 연구)

  • 박정후;김광화;조정수;곽영순
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.4 no.3
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    • pp.239-248
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    • 1991
  • 반응성 마그네트론 스파트링 프로세스의 제작 및 특성과 이 프로세스에 의해 작성된 질화알미늄 박막에 대하여 서술하였다. 마그네트론에서 자계와 압력변화에 따른 글로우 방전특성을 구하였고 이 때 발생된 플라즈마의 전자온도 특성을 구하였다. 저기압($10^{-3}$~$10^{-4}$ torr)에서도 안정된 방전으로 스파트링을 수행할 수 있었으며 이 스파트링에서 제작된 조건에 따른 질화알미늄 박막의 형성조직을 SEM사진과 Xray회절에 의하여 분석하였다.

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Influence of negative bias voltage on the microstructure of Cr-Si-N films deposited by a hybrid system of AIP plus MS (Negative bias voltage effect에 따른 Cr-Si-N 박막의 미세구조에 대한 연구)

  • Sin, Jeong-Ho;Kim, Gwang-Ho
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.130-131
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    • 2009
  • AIP(arc ion plating)방법과 마그네슘 스퍼터링(DC reactive magnetron sputtering) 방법을 결합시킨 하이브리드 코팅 시스템으로 Cr-Si-N 코팅막을 합성하였다. 고분해능 TEM 및 SEM 분석들로부터 negative bias voltage에 따른 미세구조의 영향을 나타내었다. negative bias voltage의 증가에 따라 columnar microstructure가 amorphous microstructure로 변화하였다. bias voltage effect에 의해 Cr-Si-N 코팅막내 입자의 크기가 미세해지고 나노 복합체를 잘 형성하였다.

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Characteristics of TiN/Al, TiCN/Al films deposited by DC reactive magnetron sputtering (DC 반응성 마그네트론 스퍼터링법으로 TiN/Al, TiCN/Al 박막의 물성 평가)

  • Lee, Hyeon-Jun;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.11a
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    • pp.107-107
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    • 2012
  • 연료전지 분리판용 모재로서 사용되고 있는 스테인레스 스틸에 대해서는 많은 연구가 진행되어 왔으나, 알루미늄은 거의 연구가 진행되지 않고 있다. 따라서 이번 연구는 DC 반응성 마그네트론 스퍼터링법으로 알루미늄 기판 위에 TiN, TiCN 박막을 반응성 가스 유량별로 증착하여, 기계적 특성 및 내부식성 특성을 비교 검토하였다.

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