• 대한화학회지
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• 제10권4호
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• pp.166-174
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• 1966

cinnamoylated photosensitive polymer의 광증감 경화반응기구를 반응속도론적으로 연구했다. Cinnamic acid(C)와 증감제(S)의 first excited singlet and lowest triplet energy level diagram과 증감제의 농도증가에 따른 sensitivity의 포화 등의 사실로부터 이 반응의 주요과정은 C와 S의 광 energy흡수에 의한 $C^{*(1)}$ 및 $S^{*(1)}$로의 여기, $S^{*(1)}{\to}S^{*(3)}$ intersystem crossing, S의 excimer 형성, $S^{*(3)}{\to}C^{*(3)}$ energy transfer 그리고 $C^{*(3)}$와 C의 termination 등임을 가정하고 다음 반응속도를 구했다. $-\frac{d[C]}{dt} = \frac{K_1[C]}{K_2 + [C]}[\frac{I^c_{abs}}{K_3 + [S]} + \frac{K_4[C]}{(K_5 + [C])(K_6 + [S])}(I^s_{abs} + \frac{K_7I^c_{abs}[S]}{K_8 + [S]})]$ $I^c_{abs}$와 $I^s_{abs}$ ;C 및 S의 광흡수율 $K_n$;상수 적외선 흡수스펙트럼 분석의 결과, Cinnamoyl 에스테르화도와 sensitivity의 관계 및 증감제의 농도와 sensitivity의 관계에 대하여 발표된 실험 data는 윗식을 만족시키므로 가정한 반응기구에 대한 뒷받침을 얻었다.

• 응용화학
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• 제15권1호
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• pp.17-20
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• 2011

A disposable light exposure detector kit has been developed by UV curing of a hydrogel material. The devised light exposure detector kit consisted of light sensitive structures, bottom plate, character sheet and sticky back plate. A light exposure detector kit has a serial light sensitive structures that contain various light sensitive dyes such as rhodamine and fluorescein. The light sensitive structure composed of UV curable hydrogel polymer material as a supporing material and photosensitive dye in a certain concentration. The fabrication procedure of the ligh exposure detector kit is very simple and fast due to UV curing procedure of a photopolymerizable hydrogel material such as poly(ethylene glycol) methyl ether acrylate (PEGMEA) and poly(ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) with a photosensitive dye. By the proposed fabrication method, various size and shape of a light exposure detector kit could be fabricated using a flexible elastomer mold. Due to a fast and inexpensive fabrication method, the light exposure detector kit could be use a single use for various industrial applications. According to light irradation, the light sensitive structure on a light exposure detector kit could be lose its color by decomposition of a photosensitive dye chemical in the structure. Thus the amount of the exposed light on a substrate could easily be recognised by changing color or transparency of the structure.

• 폴리머
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• 제35권1호
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• pp.87-93
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• 2011

본 연구에서는 LCD 컬러필터 레지스트용 fluorene 단위 구조를 가지는 다기능 바인더 고분자를 개발하여 카본블랙 기반 감광성 레지스트(CBR)를 제조하고 블랙 매트릭스(BM)에 적용하였다. 다기능 바인더 고분자를 얻기 위해 bisphcnol fluorene epoxy acrylate를 함유한 불포화 폴리에스터(BFEA-polyester)를 합성하였으며 이는 $^1H$ NMR, GPC 및 FTIR을 이용하여 분석하였다. 합성된 BFEA-polyester 바인더 고분자를 상업용 아크릴 바인더와 비교 평가하기 위하여 각각 CBR 제조 후 BM 리소그래피 테스트를 수행하였다. 그 결과, 본 연구에서 합성된 BFEA-polyester 바인더 고분자는 적합한 광경화 반응성과 알칼리 용해성을 가질 뿐만 아니라 기존 아크릴 바인더보다 더 우수한 공정 마진, 패턴 특성 및 유리 가판에 대한 접착력을 나타내었다.

• 한국정밀공학회지
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• 제24권5호
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• pp.97-103
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• 2007

A novel selective metallization process to fabricate the fine conductive line based on inkjet printing has been investigated. Recently, Inkjet printing has been widely used in flat panel display, electronic circuits, biochips and bioMEMS because direct inkjet printing is an alternative and cost-effective technology for patterning and fabricating objects directly from design without masks. The photosensitive etching resist used in this process is an organic polymer which becomes solidified when exposed to ultraviolet lights and has high viscosity at ambient temperature. A piezoelectric-driven inkjet printhead is used to dispense 20-30 ${\mu}m$ diameter droplets onto the copper substrate to prevent subsequent etching. Repeatability of circuitry fabrication is closely related to the formation of steady droplets, adhesion between etching resist and copper substrate. Therefore, the ability to form small and stable droplets and surface topography of the copper surface and chemical attack must be taken into consideration for fine and precise patterns. In this study, factors affecting the pattern formation such as adhesion strength, etching mechanism, UV curing have been investigated. As a result, microscale copper patterns with tens of urn high have been fabricated.

• 폴리머
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• 제30권2호
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• pp.162-167
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• 2006

1,2,3,4-시클로부탄 테트라카복시산 이무수물과 4,4'-디아미노디페닐에테르(DDE)를 용액 중합 반응하여 폴리암산(PAA) 용액을 제조한 후, 1,2-에폭시-3-페녹시프로판과 반응시켜 폴리암산에스테르(PAE)를 합성하였다. 여기에 용해억제재로서 30 wt%의 디아조나프토퀴논 유도체(DI)를 첨가하였다. $365{\sim}400nm$의 파장에서 $200mJ/cm^2$의 자외광을 조사한 후, 0.95 wt%의 테트라메틸암모니움히드록사이드 수용액으로 현상한 결과 $25{\mu}m$ 해상도의 양성형 미세 화상을 얻었다. 비노광부에 잔존하는 폴리이미드 박막은 400nm에서 92% 이상의 우수한 광투과도를 나타내었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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• pp.532-532
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• 2008

본 연구에서는 Embedded 기판용 폴리머 후막저항의 허용편차 개선을 위하여 새로운 후막 패터닝 기술을 도입하는 연구를 실시하였다. 기존의 Embedded 기판용 폴리머 후막저항은 스크린 인쇄에 의하여 형성됨에 따라 패턴의 정밀성이 떨어지고 기판 상 위치별 두께편차에 의하여 저항값의 허용편차(tolerance)가 ${\pm}$20~30% 정도로 큰 단점을 가지고 있다. 따라서 경화 후 laser trimming 공정을 필수적으로 동반하게 된다. 이를 개선하기 위하여 본 연구에서는 알칼리 수용액에 현상이 가능한 감광성 레진을 이용하여 폴리머 후막저항 페이스트를 제작하는 것과 함께 기판 전면에 균일한 두께로 인쇄하는 roll coating 방법을 도입하는 실험을 수행하였다. 알칼리 현상형의 감광성 레진 시스템은 노광 및 현상에 의해 정밀한 패턴을 구현할 수 있는 장점을 가지고 있으며, 본 연구에는 A사의 일액형 레진과 T사의 이액형 레진을 사용하였다. 여기에 전도성 필러로서 카본블랙을 첨가하였는데, 그 첨가량의 조절에 따른 후막저항의 시트저항값 변화와 현상 특성을 관찰하였다. 테스트 보드는 FR-4 기판 상에 전극 형상의 동박을 패터닝 후 Ni/Au 도금까지 실시하여 제작하였고, 이 테스트 보드 상에 별도로 제작된 저항 페이스트를 도포한 후 저항체 패턴이 입혀져 있는 Cr 마스크를 이용하여 노광하였다. 이후 현상 공정을 통하여 저항체를 패터닝하고, 이를 $200^{\circ}C$에서 1시간 열경화하는 것으로 후막 저항 테스트쿠폰을 제작하였다. 실험결과 roll coating에 의해 도포된 후막저항체들은 균일한 두께 범위를 나타내었고, 이에 따라 최종 경화 후 허용편차도 통상 ${\pm}$5~10% 이내로 제어될 수 있었다.

• Journal of Photoscience
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• 제7권2호
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• pp.47-52
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• 2000

The copolymmers of N, N-dimethylaminoethyl methacrylate(DAEM) and N-arylmethacrylamide (AMA) were prepared, and their photochemical properties as a negative photoresist were studied by the measurements of insoluble fraction, and by UV and IR absorption spectral changes. These copolymers are soluble in DMF, actone, methanol, of acidic buffer solutions. Solubility of these copolymer films in the vuffer solutions increased with the amount of DAEM units in the copolymer and decreased with the pH value. The insoluble fraction of the copolymer films in the buffer solution of pH 4 of in methanol increased with irradiation time and the amount of AMA units in the copolymer. UV and IR spectral changes indicated that not only photo-crosslinking but also the photo-Fries rearrangement took place upon irradiation with a 254nm UV light.

• 한국인쇄학회지
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• 제12권1호
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• pp.1.1-11
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• 1994

The photosensitive properties and carrier transport in the organic photoconductor with the carrier transport layers(CTL) of polymer matrix doped with two carrier transport materials above carrier generation layer(CGL) containing oxotitanium phthalocyanine (TiOPc) were investigated. The CGL of TiOPc dispersed in poly(vinylbutyral) was formed as thickness of 0.1${\mu}{\textrm}{m}$and the carrier transport layer was prepared by coating polycarbonate and polyester doped with oxadiazoly(OXD), polyvinylcarbazole (PVK), trinitro fluorenone(TNF) as thickness of 10~15${\mu}{\textrm}{m}$, respectively. We have measured half decay exposure,sensitivity and xerographic gain from the photo-induced discharge curve(PIDC). In this work, it was found that the characteristics of carrier transport were mainly caused by the ionization potential difference of constitutive materials in molecularly doped polymer.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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• pp.489-492
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• 2003

Photoalignment materials of PGMAcr, poly[3-(acryloyloxy)-2-hydroxypropyl methacrylate] using an acrylate unit photopolymerized by a photo-initiator and PGMA4Ch, poly[3- (4-ehalconyloxy)-2-hydroxypropyl methacrylate] using photodimerization by the chalcone group were synthesized. Also, the liquid crystal (LC) alignment capabilities on the photopolymer layers were studied. A good LC alignment with UV exposure on the PGMAcr surface can be obtained. However, LC alignment defects were observed on the PGMA4Ch surface. The LC alignment capability of the PGMAcr surface by the photoinitiator was better than that of the PGMA4Ch surface by the chalcone group which is a photosensitive moiety.

• 자연과학논문집
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• 제5권1호
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• pp.59-65
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• 1992

아실옥시이미노(AOI)기를 갖는 포리마의 광반응 특성을 검토한 결과, 포리마 주쇄의 구조에 따라 주반응이 다른것을 알았다. 아크릴타입(AAPO)포리마에서는 아미노기의 생성이 주 반응임에 반해 메타크릴타입(MAAPO)포리마에서는 주쇄절단반응과 이중결합 생성반응이 주 반응임을 알았다. 또한 본 연구에서는 광반응의 메카니즘을 정량분석을 통해 철저히 규명함과 아울러 이들 주 반응에서 생성된 아미노기와 주쇄절단반응을 이용한 기능성고분자에의 응용에 대해서도 연구 검토하였다.