• 제목/요약/키워드: organic light emitting diode

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Characteristics and Gas Barrier Properties of Mg-Zn-F Films in Various Ratio of $MgF_2$ to Zn

  • Lee, Sung-Youp;Kim, Do-Eok;Shin, Byong-Wook;Kang, Byoung-Ho;Hong, Seok-Min;Kang, Shin-Won;Lee, Hyeong-Rag
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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    • pp.899-901
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    • 2009
  • The magnesium fluoride ($MgF_2$) has very higher optical transmission than oxide or nitride material applied for gas barrier, so we manufactured Mg-Zn-F films with Mg-Zn-F target mixed in the various ratio of $MgF_2$ to Zn and characterized films' properties. Zn is used to increase packing density of barrier film. Thickness and optical transmission of Mg-Zn-F are 200 nm and over 90 %, respectively. The result of water vapor transmission rate at 38, RH 90 ~ 100% of the Mg-Zn-F film deposited with 4 : 6 ($MgF_2$ : Zn) ratio target reached below $1{\times}10^{-3}g$/($m^2{\cdot}day$), measuring limit of instrument.

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4.1” Transparent QCIF AMOLED Display Driven by High Mobility Bottom Gate a-IGZO Thin-film Transistors

  • Jeong, J.K.;Kim, M.;Jeong, J.H.;Lee, H.J.;Ahn, T.K.;Shin, H.S.;Kang, K.Y.;Park, J.S.;Yang, H,;Chung, H.J.;Mo, Y.G.;Kim, H.D.;Seo, H.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
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    • pp.145-148
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    • 2007
  • The authors report on the fabrication of thin film transistors (TFTs) that use amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO) channel and have the channel length (L) and width (W) patterned by dry etching. To prevent the plasma damage of active channel, a 100-nm-thckness $SiO_{x}$ by PECVD was adopted as an etch-stopper structure. IGZO TFT (W/L=10/50${\mu}m$) fabricated on glass exhibited the high performance mobility of $35.8\;cm^2/Vs$, a subthreshold gate voltage swing of $0.59V/dec$, and $I_{on/off}$ of $4.9{\times}10^6$. In addition, 4.1” transparent QCIF active-matrix organic light-emitting diode display were successfully fabricated, which was driven by a-IGZO TFTs.

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Synthesis and Luminescent Properties of Tetrafluorophenyl Containing Poly(p-phenylenevinylene) Derivatives

  • Ahn, Taek
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제16권3호
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    • pp.162-167
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    • 2015
  • To investigate the effect of fluoro groups substitution on poly(p-phenylenevinylene) derivatives, poly(2,3,5,6- tetrafluoro-p-phenylenevinylene-alt-N-ethylhexyl-3,6-carbazolevinylene), PCTF-PPV, and poly[2,3,5,6-tetrafluoro-p-phenylenevinylene-alt-2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-p-phenylenevinylene], PMTF-PPV, were synthesized by the well-known Wittig condensation polymerization process. To compare the influences of fluoro groups, no fluoro groups containing model polymers, poly(p-phenylenevinylene-alt-N-ethylhexyl-3,6-carbazolevinylene), PCPPPV and poly[p-phenylenevinylene-alt-2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-p-phenylenevinylene], p-PMEH-PPV, were also synthesized. The resulting polymers were completely soluble in common organic solvents and exhibited good thermal stability up to 300℃. The polymers showed UV-visible absorbance and photoluminescence (PL) in the ranges of 259~452 nm and 500~580 nm, respectively. The tetrafluorophenyl containing PCTF-PPV and PMTF-PPV showed relatively red-shifted PL peaks at 521 nm and 580 nm, respectively, compared to that of non-fluoro groups containing polymers (PCP-PPV: 500 nm and p-PMEH-PPV: 539 nm). The single-layer light-emitting diode was fabricated in a configuration of ITO/polymer/Al. Electroluminescene (EL) emissions of PCP-PPV, PCTF-PPV, p-PMEH-PPV and PMTF-PPV were shown at 507, 524, 556, and 616 nm, respectively.

A Luminance Compensation Method Using Optical Sensors with Optimized Memory Size for High Image Quality AMOLED Displays

  • Oh, Kyonghwan;Hong, Seong-Kwan;Kwon, Oh-Kyong
    • Journal of the Optical Society of Korea
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    • 제20권5호
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    • pp.586-592
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    • 2016
  • This paper proposes a luminance compensation method using optical sensors to achieve high luminance uniformity of active matrix organic light-emitting diode (AMOLED) displays. The proposed method compensates for the non-uniformity of luminance by capturing the luminance of entire pixels and extracting the characteristic parameters. Data modulation using the extracted characteristic parameters is performed to improve luminance uniformity. In addition, memory size is optimized by selecting an optimal bit depth of the extracted characteristic parameters according to the trade-off between the required memory size and luminance uniformity. To verify the proposed compensation method with the optimized memory size, a 40-inch 1920×1080 AMOLED display with a target maximum luminance of 350 cd/m2 is used. The proposed compensation method considering a 4σ range of luminance reduces luminance error from ± 38.64%, ± 36.32%, and ± 43.12% to ± 2.68%, ± 2.64%, and ± 2.76% for red, green, and blue colors, respectively. The optimal bit depth of each characteristic parameter is 6-bit and the total required memory size to achieve high luminance uniformity is 74.6 Mbits.

Hole pattern 형성에 따른 금속/PET sheet의 인장 시 저항변화

  • 최영준;권나현;조영래
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.37.1-37.1
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    • 2009
  • 최근 휘어짐이 가능한 flexible display의 개발이 활발히 진행됨에 따라 OLED(organic light emitting diode)의 발전 가능성은 커지고 있다. 하지만 cathode 재료인 Cr, Al등은 tensile 또는 bending에 취약하다. 따라서 본 연구에서는, 인장시험용 아령모형의 PET($125\;{\mu}m$) 필름에 Al, Cr, Cr+Al을 각각 코팅하고 부분적으로 hole을 patterning함으로써 인장 시 미소크랙의 발생을 감소시켜 전기저항(R) 변화를 최소화하는 패턴형상을 design하고 세 가지 금속의 전기저항 변화를 통해 좀 더 우수한 flexible display용 금속을 찾는데 그 목적이 있다. 전극에 형성된 미세패턴의 영향과 패턴 된 hole size에 따른 전기저항의 변화를 알아보기 위해 hole size는 $50\;{\mu}m$, $30\;{\mu}m$, $10\;{\mu}m$로 제작하였고 각각의 금속막에 patterning하였다. 제작된 시편을 인장시험 장치에 설치 후 2mm/min의 속도로 인장응력을 가하면서 Load의 증가에 따른 금속막의 전기저항($\bigtriangleup$R)을 동시동작으로 측정하였다. 실험결과 인장시험 시 저항변화는 Cr이 짧은 시간에 가장 급격하게 변하였으며 다음으로 Cr+Al, Al순 이였다. 또한, hole size의 크기에 따른 전기저항의 변화는 $50\;{\mu}m$ size의 hole을 pattern한 시편이 가장 안정한 저항 변화를 보였다.

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금속이 코팅된 PET필름의 수분침투 특성 평가

  • 최영준;박기정;조영래
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.36.1-36.1
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    • 2009
  • OLED(organic light emitting diode)는 차세대 평판 디스플레이로 전자종이, 입는 디스플레이 등 flexible한 디스플레이로도 주목받고 있다. 하지만, OLED의 가장 큰 단점 중의 하나가 수분과 산소에 매우 민감하다는 것으로 이것은 OLED의 lifetime과 연결된다. 따라서 이에 대한 mechanism의 확립이 필요하다. 따라서 본 연구에서는, flexible한 OLED에 적용되는 금속 코팅막의 적층구조 및 기판의 노출온도에 따른 금속 코팅막의 수분침투 특성에 대해 MOCON의 weight gain test (WGT)를 통해 barrier layer에 대해 평가하고 이에 대한 mechanism을 확립하는데 그 목적이 있다. 금속 코팅막은 OLED의 cathode와 anode 재료로 많이 사용되는 Al과 ITO를 sputter장비를 이용해 single layer와 multi-layer의 두 가지 구조로 PET기판에 증착하였다. 또한, 노출온도에 따른 특성을 알아보고자 bare PET / ITO coated PET(single layer $50{\mu}m$) / Al coated PET(single layer $200{\mu}m$)의 세 가지 시편을 제작하였다. 이 시편을 각각 $25^{\circ}C$, $37.8^{\circ}C$, $50^{\circ}C$의 온도에서 test를 진행하였고 이 과정을 100%RH, 70%RH, 40%RH조건의 수분조건에서 진행하여 각각의 수분조건에서 각각의 온도에 따른 금속 코팅막의 수분침투 특성에 대한 mechanism을 확립하였다. 적층구조에 따른 수분침투 특성 평가 결과 multi-layer가 single layer보다 더 우수한 수분침투의 barrier 특성을 나타냈었다. 그리고 각 온도에 따른 test결과 온도가 증가할수록 barrier의 특성이 나빠짐이 보였다.

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문턱전압 열화를 최소화하는 비정질 실리콘 TFT 유기 EL 용 화소 회로 (Polarity-Balanced Driving to Reduce $V_{TH}$ Shift in a-Si for Active-Matrix OLEDs)

  • 이혜진;유봉현;이재훈;남우진;한민구
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2004년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.20-22
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    • 2004
  • 유기 EL(Organic Light Emitting diode : OLED)은 자체발광 소자로서 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)에 비해 빠른 응답속도, 넓은 시야각 등의 뛰어난 화질 표현이 가능하다. 구동 박막 트랜지스터(TFT)의 전류가 OLED의 휘도를 결정하므로, 고품질의 영상을 위해 미세한 TFT 전류 조절 능력이 매우 중요하다. 비정질 실리콘(a-Si) TFT는 그레인 구조를 갖는 다결정 실리콘(poly-Si) TFT에 비해 균일한 전기적 특성을 나타내지만, 장시간 구동에 따른 문턱전압의 열화가 발생한다. 본 논문에서는 상기의 문제점을 최소화하기 위하여 positive bias에 의한 열화를 negative bias로 어닐링하는 구동방법을 제안하였다. 본 회로는 2개의 게이트 선택 신호와 6개의 a-Si TFT로 이루어져 있다. 실험 결과를 통해 추출된 소자 parameter를 바탕으로 제안된 회로의 simulation을 수행 및 검증하였다. 본 회로는 a-Si TFT에서 발생하는 문턱전압 열화 등의 신뢰성 문제를 감소시킨다.

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High-performance thin-film transistor with a novel metal oxide channel layer

  • Son, Dae-Ho;Kim, Dae-Hwan;Kim, Jung-Hye;Sung, Shi-Joon;Jung, Eun-Ae;Kang, Jin-Kyu
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.222-222
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    • 2010
  • Transparent semiconductor oxide thin films have been attracting considerable attention as potential channel layers in thin film transistors (TFTs) owing to their several advantageous electrical and optical characteristics such as high mobility, high stability, and transparency. TFTs with ZnO or similar metal oxide semiconductor thin films as the active layer have already been developed for use in active matrix organic light emitting diode (AMOLED). Of late, there have been several reports on TFTs fabricated with InZnO, AlZnSnO, InGaZnO, or other metal oxide semiconductor thin films as the active channel layer. These newly developed TFTs were expected to have better electrical characteristics than ZnO TFTs. In fact, results of these investigations have shown that TFTs with the new multi-component material have excellent electrical properties. In this work, we present TFTs with inverted coplanar geometry and with a novel HfInZnO active layer co-sputtered at room temperature. These TFTs are meant for use in low voltage, battery-operated mobile and flexible devices. Overall, the TFTs showed good performance: the low sub-threshold swing was low and the $I_{on/off}$ ratio was high.

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금속이 코팅된 PET필름의 수분침투 특성 평가

  • 황빈;최영준;박기정;김회봉;조영래
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.351-351
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    • 2010
  • OLED(organic light emitting diode)는 액정디스플레이를 대체할 차세대 평판디스플레이로 많은 주목을 받고 있다. 현재 많이 사용되고 있는 OLED의 기판재료는 Glass기판이지만 차세대 Flexible한 display에서의 적용을 위해서는 가볍고 유연한 plastic을 기판 재료로 사용 할 것으로 보인다. 하지만 plastic이 기판재료로 된 OLED의 가장 큰 단점중의 하나가 수분과 산소에 민감하여 열화를 초래한다는 것이다. 이런 수분침투와 열화 과정으로 인해 OLED의 발광효과가 약해져 OLED의 수명과 직접적으로 연결된다. 하여 외부에서 OLED내부로 유입되는 산소, 수분으로 부터 발광재료와 전극의 산화를 방지하며 외부의 충격으로부터 소자를 보호하기 위한 봉지기술은 반드시 필요하다. 따라서 본 연구에서는, flexible한 OLED에 적용되는 금속 코팅한 막의 적층구조 및 기판의 노출온도에 따른 금속 코팅막의 수분침투 특성에 대해 MOCON의 weight gain test (WGT)를 통해 barrier layer에 대해 평가하고 이에 대한 mechanism을 확립하는데 그 목적이 있다. 금속을 코팅한 막은 OLED의 cathode와 anode 재료로 많이 사용되는 Al과 ITO를 sputter장비를 이용해 single layer와 double-layer의 두 가지 구조로 PET기판에 증착하였다. 증착한 Al막의 두께는 각각 50 nm, 100 nm, 200 nm, 400 nm 등 4가지로 하였다. double-layer의 경우에는 총 두께를 절반씩 기판의 양쪽에 증착하였다. 적층구조에 따른 수분침투 특성 평가 결과로 보면 같은 두께일 때 double-layer는 single layer에 비해서 모든 시편에서 수분의 투습율이 낮음으로써 더 좋은 수분침투의 barrier 특성을 나타내었다. 특히 100 nm이상인 경우 투습율은 예상한 값보다 50%이상 낮게 나타났다.

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Atomic Layer Deposition for Display Applications

  • Park, Jin-Seong
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.76.1-76.1
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    • 2013
  • Atomic Layer Deposition (ALD) has remarkably developed in semiconductor and nano-structure applications since early 1990. Now, the advantages of ALD process are well-known as controlling atomic-level-thickness, manipulating atomic-level-composition control, and depositing impurity-free films uniformly. These unique properties may accelerate ALD related industries and applications in various functional thin film markets. On the other hand, one of big markets, Display industry, just starts to look at the potential to adopt ALD functional films in emerging display applications, such as transparent and flexible displays. Unlike conventional ALD process strategies (good quality films and stable precursors at high deposition processes), recently major display industries have suggested the following requirements: large area equipment, reasonable throughput, low temperature process, and cost-effective functional precursors. In this talk, it will be mentioned some demands of display industries for applying ALD processes and/or functional films, in terms of emerging display technologies. In fact, the AMOLED (active matrix organic light emitting diode) Television markets are just starting at early 2013. There are a few possibilities and needs to be developing for AMOLED, Flexible and transparent Display markets. Moreover, some basic results will be shown to specify ALD display applications, including transparent conduction oxide, oxide semiconductor, passivation and barrier films.

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