플라즈마 화학기상 증착방식으로 성장시킨 비정질 실리콘 카바이드 박막의 열처리 효과에 관한 특성분석 (Investigation of annealing effect for a-SiC:H thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2000년도 하계학술대회 논문집
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- pp.747-750
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- 2000