We introduce a generic method to analyze optical 17reflectance spectra of strongly correlated electron systems including high-temperature superconductors by using an extended Drude model and Allen's approach. We explain the process step by step from reflectance through the optical conductivity and the scattering rate to the bosonic spectral function. Through the process we are able to get important information on the interactions between charge carriers from measured optical conductivity of the strongly correlated electron systems including copper oxide and iron pnitide high temperature superconductors.
The present article investigates experimentally and theoretically thermal and optical characteristics of thin film structures through measurement of thermal conductivity of Pyrex 7740 and reflectance in silicon thin film. The $3{\omega}$ method is used to measure thermal conductivity of very thin film with high accuracy and the optical characteristics in thin films are studied to examine the influence of incidence angle of light on reflectance by using the CTM(Characteristics Transmission Method) and the 633 nm He-Ne laser reflectance measurement system. It is found that the estimated reflectance of silicon show good agreement with experimental data. In particular, the present study solves the EPRT(Equation of Phonon Radiative Transport) which is based on Boltzmann transport equation for predicting thermal conductivity of nanoscale film structures. From the results, the measured thermal conductivity is in good agreement with the previous published data. Moreover, thermal conductivities are estimated for different film thickness. It indicates that as film thickness decreases, thermal conductivity decreases substantially due to internal scattering.
Kim, Min-Su;Yim, Kwang-Gug;Son, Jeong-Sik;Leem, Jae-Young
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제33권4호
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pp.1235-1241
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2012
Aluminium (Al)-doped zinc oxide (AZO) thin films with different Al concentrations were prepared by the solgel spin-coating method. Optical parameters such as the optical band gap, absorption coefficient, refractive index, dispersion parameter, and optical conductivity were studied in order to investigate the effects of the Al concentration on the optical properties of AZO thin films. The dispersion energy, single-oscillator energy, average oscillator wavelength, average oscillator strength, and refractive index at infinite wavelength of the AZO thin films were found to be affected by Al incorporation. The optical conductivity of the AZO thin films also increases with increasing photon energy.
The cause of optical nonlinearity induced in thermally poled silica glass is believed to be the space charge polarization. Since the second order optical nonlinearity (electro-optic effect) can be used in optical switches the optical nonlinearity in silica glass has drawn a large attention. Space charge polarization occurs when an ionic conducting material is subjected to dc electric field by the blocking electrode. Thermal poling performed to induce the optical nonlinearity in silica glass is basically identical to the process generating space charge polarization. As a first step to understand the mechanism of space charge polarization in silica glass hence the induced optical nonlinearity the absorption currents as functions of time were measured for various types of silica glasses and analyzed by the theory of space charge polarization. It was found that the electrical relaxation exhibited a step by the space charge polarization in the relatively long time range and dielectric loss peak showed a maximum at a specific temperature which is depending on type of silica glass. It was turned out that this relaxation might be a cause of nonlinearity in electrical conductivity of silica glass.
Using THz time-domain spectroscopy (THz-TDS), the power absorption, the index of refraction, and the real conductivity of silica sand are measured from 0.1[Thz] to 0.5[Thz] frequency range. It is impossible to measure the characterization of the silica sand by simple electrical measurements using mechanical contacts, e.g., Hall effect or four-point probe measurements. However, the THz-TDS technique can measure not only electrical but also optical characterization of he sample. Also this technique can measure frequency dependent results. Especially, the real conductivity was increased according to THz frequency. This is unusual material compare with metal and semiconductor materials; the measured real conductivity are not followed by the simple Drude theory.
ZnO materials with a wide band gap of approximately 3.3 eV has been used in transparent conducting oxides (TCO) due to exhibitinga high optical transmission, but its low conductivity acts as role of a limitation for conducting applications. Recently, Ga or Al-doped ZnO (GZO, AZO) becomes transparent conducting materials because of high optical transmission and excellent conductivity. However, the fundamental mechanism underlying the improvement of electrical conductivity of the GZO is still the subject of debate. In this study, we have fully investigated the reasons of high conductivity through the characterization of plane defects, crystal orientation, doping contents, crystal structure in Zn1-xGaxO (x=0, 3, 5.1, 5.6, 6.6 wt%). We manufactured Zn1-xGaxO by sintering ZnO and Ga2O3 powers, having a theoretical density of 99.9% and homogeneous Ga-dopant distribution in ZnO grains. The GZO containing 5.6 wt% Ga represents the highest electrical conductivity of $7.5{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}m$. In particular, many twins and superlattices were induced by doping Ga in ZnO, revealed by X-ray diffraction measurements and TEM (transmission electron microscopy) observations. Twins developed in conventional ZnO crystal are generally formed at (110) and (112) planes, but we have observed the twins at (113) plane only, which is the first report in ZnO material. Interestingly, the superlattice structure was not observed at the grains in which twins are developed and the opposite case was true. This structural change in the GZO resulted in the difference of electrical conductivity. Enhancement of the conductivity was closely related to the extent of Ga ordering in the GZO lattice. Maximum conductivity was obtained at the GZO with a superlattice structure formed ideal ordering of Ga atoms.
Sb-doped SnO2 films were formed on Corning glass 7059 substrate by chemical vapor deposition using simulataneous hydrolysis of SnCl4 and SbCl5. Fairly good transparent conducting film with a low resistivity of ~6$\times$10-4{{{{ OMEGA }}cm and high average optical transparency above ~85% in the range of visible light was obtained at the deposition condition of 50$0^{\circ}C$ and input-gas ratio, [Psbcl5/Psncl4] of 0.05. Film conductivity was improved without loosing optical transparency at light doping of Sb and found to be due to the increase of electron concentration. However, high doping of Sb into SnO2 film largely deteriorated conductivity, optical transparency and crystallinity of the film.
$SnO_2$ thin films have been prepared by chemical vapor deposition technique. Electrical and optical properties of the films have been investigated. It is found that the electrical condictivity and optical transparency of the films are most affected by deposition temperature and more affected by $SnCl_4$ partial pressure than by $O_2$ partial pressure. Experimental results show that the conductivity increases with high optical transparency as deposition temperature increases up to 50$0^{\circ}C$ but the conductivity decreases with the loss of transparency as deposition temperature increases above $600^{\circ}C$.
본 연구에서는 ECR플라즈마 화학증착법을 이용하여 반응기내 압력의 변화에 따라 수소화된 무정형 실리콘막을 증착하고 박막내 수소의 함량과 결합구조 및 전기적 특성을 조사하였다. 일반적인 CVD에 의해 제조된 a-Si:H막은 증착속도가 증가할수록 광감도는 감소하지만 ECR플라즈마의 경우 증착속도가 증가할수록 광감도가 향상되었다. 마이크로파 출력과 사일렌/수소 희석비, 반응기내 압력등이 동일한 실험 조건에서 증착시간에 따른 막의 두께는 선형적으로 증가하고 막내에 함유된 수소의 농도는 일정하지만, 반응시간이 짧은 경우 막내에 $SiH_2$결합이 SiH결합보다 많이 형성되어 광전도도를 저하시킬 수 있다. 반응기내 압력이 증가함에 따라 박막내에 SiH결합이 증가하여 광학 에너지 갭을 줄여 광전도도를 향상시킬 수 있었으나 암전도도의 증가로 광감도는 감소하였다. 따라서 양질의 박막을 얻기 위해서는 압력이 낮고 수소기체의 양이 적은 조건에서 성장시켜야 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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