Airborne contaminant particles are intruded into optical disk drive(ODD) due to the flow caused by disk rotation and can be adhered to objective lens, which causes read/write errors. Such a phenomenon can be a serious problem for high-density storage devices. The purpose of this paper is to understand the effect of particle contamination of objective lens in a CD-ROM drive on laser diode power and photo diode RF signal. The measurements of laser power and readout RF signal were carried out by using a laser power meter and a time interval analyzer, respectively. The parameters for estimating a readout-signal' distortion were its jitter and amplitude. Alumina(Al$_2$O$_3$) particles were used as test dust particles. The results show that the failure for data access happened as the degree of lens contamination was greater than 20%.
Scanning Electron Microscopy (SEM) includes high voltage generator, electron gun, column, secondary electron detector, scan coil system and image grabber. Column includes electron lenses (condenser lens and objective lens). Condenser lens generates fringe field, makes focal length and control spot size. Focal length represents property of lens. Objective lens control focus. Most of the electrons emitted from the filament, are captured by the anode. The portion of the electron current that leaves the gun through the hole in the anode is called the beam current. Electron beam probe is called the focused beam on the specimen. Because of the lens and aperture, the probe current becomes smaller than the beam current. It generate various signals(backscattered electron, secondary electron) in an interaction with the specimen atoms. In this paper, we describe the result of research to develop the core elements for low-resolution SEM.
본 연구에서는 비균일 진폭변조가 렌즈계통의 결상성능에 미치는 영향에 대해서 국산 쌍안경 대물경을 시험렌즈로 하여 실험적으로 조사하였으며, 회절광학적으로 OTF를 측정하는 방법에 의해 결상 성능을 평가하였다. 이때 비균일 진폭 분포로 조명하기 위해서 균일하게 시준된 광속에 의해 조명되는 시험렌즈 앞에 진폭변조판을 두어 이를 투과하도록 하였다. 시험렌즈의 수차특성을 유한 광선 추적을 통하여 ray-fan을 계산하여 살펴보았다. 비균일한 강도분포, 특히 가운데는 밝고 외곽으로 갈수록 어두운 것으로 연속적으로 변하는 강도분포 및 그와 반대의 연속적인 분포로 조명되었을 때 Gaussian 상 평면 위에서 MTF를 측정하여 균일한 조명 하에서의 MTF와 비교 분석하였다.
최근 렌즈 가공 및 측정 기술의 발전에 따라 렌즈의 제작 조립 기술이 개선되었다. 그럼에도 불구하고 렌즈 제작 조립 기술의 상향에 따른 비용 및 제작 기간의 증가, 온도 및 진동 등의 사용 환경 의존도를 해결하지 못해 이에 따른 불안정해지는 성능 등을 극복하지 못하였다. 또한, 초정밀 광학계에서 효과적으로 민감도를 줄이는 방법은 다수의 보상자를 이용하는 방법인데, 특히 내시경 같은 초소형 렌즈의 경우 렌즈 경통 크기 제약으로 인하여 상거리 보상자 이외 추가적인 보상자 사용에 어려움이 있다. 따라서 렌즈 설계에 있어 공차에 대한 렌즈의 민감도를 최소화하는 것은 무엇보다도 중요한 기술인 바 이를 위한 노력이 필요하며, 렌즈 설계 소프트웨어에서도 민감도를 줄일 수 있는 기능들이 추가되는 추세이다. 본 논문에서는 우선 성능이 최적화된 설계를 도출하고, 이 설계의 민감도를 분석하여 민감도가 높은 요소들을 다중 구성(multi-configuration)에 적용한 뒤 다시 최적화함으로써 렌즈 민감도를 최소화하였으며 사례를 들어 다중 구성 방법이 민감도 저감에 매우 효과적임을 보여주었다.
The three-dimensional measurement method of confocal systems is a spot scanning method which has a high resolution and good illumination efficiency. However, conventional confocal systems had a weak point in that it has to perform XY axis scanning to achieve FOV (Field of View) vision through spot scanning. There are some methods to improve this problem involving the use of a galvano mirror [1], pin-hole array, etc. Therefore, in this paper we propose a method to improve a parallel mode confocal system using a micro-lens and pin-hole array in a dual microscope configuration. We made an area scan possible by using a combination MLA (Micro Lens Array) and pin-hole array, and used an objective lens to improve the light transmittance and signal-to-noise ratio. Additionally, we made it possible to change the objective lens so that it is possible to select a lens considering the reflection characteristic of the measuring object and proper magnification. We did an experiment using 5X, 2.3X objective lens, and did a calibration of height using a VLSI calibration target.
In-line 디지털 홀로그래피가 가지고 있는 가장 근본적인 단점은 실상과 허상 그리고 영차 회절광이 공간적으로 분리 되지 않는 것이다. 본 연구에서는 영차 회절광은 소프트웨어를 이용하여 제거하고, 실상과 허상의 구분은 in-line 홀로그래피 현미경의 기하학적 배치를 이용하여 구분하였다. in-line 홀로그래피 현미경에서 허상의 크기는 대물렌즈와 홀로그램간의 거리에 의존한다. 본 연구에서는 허상의 크기가 대물렌즈의 후방 초점거리와 대물렌즈와 홀로그램 면까지의 거리가 일치할 때 최소가 되는 것을 알았으며, 이를 이용하여 실상과 허상을 구분하였다.
목적: 본 연구에서는 일회용 써클콘택트렌즈(이하 써클렌즈)의 초과 착용으로 유발될 수 있는 자각적 및 타각적 변화와 광투과율의 변화를 알아보고자 하였다. 방법: 3가지 다른 재질(hilafilcon B, nelfilcon A, etafilcon A)의 일회용 써클렌즈를 안질환이 없으며 눈물량이 정상인 20대 20안에게 각각 착용시키고 자각적 불편감, 착용자의 순목횟수, 비침습성 눈물막 파괴시간(NIBUT), 각막에서의 렌즈 중심안정위치 및 렌즈 가시광선 투과율를 렌즈 착용직후와 착용자가 불편감을 호소하여 더 이상 렌즈를 착용하지 못하였을 때에 각각 측정한 후 비교하였다. 결과: 일회용 써클렌즈의 평균 착용권장시간인 8시간을 초과하여 15시간 이상 착용하였을 때부터 착용감 저하를 호소하였으며, 30시간 이상 착용 시에는 대부분의 피검자가 렌즈 착용을 중단하였다. 렌즈 착용중단시점에서 대표적인 자각적인 불편감은 뻑뻑함, 건조감 및 피곤함이었다. 일회용 써클렌즈의 초과착용 시 순목횟수는 착용직후에 비해 증가하는 경향을, NIBUT값은 감소하는 경향을 보였다. 렌즈 착용중단시점에서 렌즈의 중심안정위치는 착용직후에 비해 동공 중심으로부터 벗어나는 경향을 보였다. 이러한 결과는 모든 렌즈에서 나타나는 결과이었으나 렌즈 재질의 종류나 개인에 따라서 자각적 및 타각적인 변화 정도의 차이가 존재하였으며 렌즈의 가시광선 투과도의 변화는 크게 나타났다. 결론: 이상의 결과에서 일회용 써클렌즈의 초과착용 시 감소된 NIBUT값은 건조감과 뻑뻑함을, 가시광선 투과도의 감소는 순목횟수 증가를 유발하는 것으로 생각되었으며 이는 중심안정위치의 이탈과 자각적 불편감의 증가를 야기시키는 것으로 생각되었다. 그러나 개인 및 렌즈 재질의 종류에 따라서 그 정도의 차이가 크며, 이로 인하여 개인에 따라서는 예상치 못한 문제가 발생될 수 있으므로 일일 권장착용시간 준수의 필요성 및 문제점의 교육이 필수적이라 하겠다.
193 nm에서 반도체 전공정 검사 장치에 적용될 수 있는 반사 굴절 혼합 형식(카타디옵트릭)의 수치 구경(numerical aperture, NA) 0.6 대물렌즈를 설계하였다. 200 nm 공간 분해능 및 0.15 mm 이상의 시야를 확보하기 위하여, 먼저 렌즈 전체 배치를 포커싱 렌즈 그룹, 필드 렌즈 그룹 및 NA 변환 그룹으로 구성하였으며, 선행 그룹에 포커싱된 빔의 수치 구경 값을 필요 값, 즉 0.6으로 변환하는 기능을 수행한다. 총 11매의 광학 소자로 구성된 최종 설계는 모든 관측 시야에 대하여 λ/80 이하의 RMS 파면 수차를 만족하였다. 또한 고분해능 대물렌즈의 높은 환경 민감도로 인한 온도 변화에 따른 광학계 성능 해석 결과, ±0.1 ℃의 온도 변화에서도 목표 성능 이하로의 성능 저하가 확인되어 온도 변화에 따른 광학 보상이 반드시 필요하였다. 이에 초점면 이동을 보상자로 적용할 경우, 20 ± 1.2 ℃까지 RMS 파면 수차 변화량이 λ/30 이하로 목표 성능을 만족하여 실제 반도체 공정 환경에서도 이용이 가능함을 확인하였다.
The 3rd generation optical pick-up used popularly in resent years is composed of many optical and electronic components such as laser diode, photo diode, beam splitter, objective lens, grating lens, concave lens, collimator lens etc. Therefore, the design of its optical system and its main base which the said optical and electronic components are set on, is complicated and needs high precision. Its assembly and adjustment in the production line is also difficult. This complication and the demand of high precision get its production cost to be high and its reliability to be low. In this paper, the 4th generation optical pick-up is designed and developed, with the hologram device which laser diode. photo diode, beam splitter. and grating lens are integrated in. This optical pick-up reduces the number of points of adjustment by 3, compared with the 3rd generation optical pick-up of which the number of points of adjustment is 6. This optical pickup also decreases by 4 the number of points of W bonding to have bad influence on environmental reliability, decreases by about 10 the number of parts, and establishes about 20% cost-down of material cost, compared with the 3rd generation optical pick-up.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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