STI CMP용 나노 세리아 슬러리에서 연마입자의 결정특성에 따른 평탄화 효율의 의존성 (Dependency of Planarization Efficiency on Crystal Characteristic of Abrasives in Nano Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2003년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.65-65
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- 2003