The Y2O3 films on Si(111) was grown by ionized cluster beam depposition (ICBD) in ultrahigh-vacuum (UHV). The acceleration voltage and oxygen ppartial ppressure were fixed at 5 kV and 2$\times$10-5 Torr resppectively. The substrate tempperature was varied from 10$0^{\circ}C$ to $600^{\circ}C$ in order to find the deppendence of crystallinity of Y2O3 films on the substrate tempperature. The crystallinity of the films with the substrate tempperature studied using x-ray diffraction (XRD) and Rutherford backscattering sppectroscoppy (RES). Surface crystallinity and surface morpphology of the films were also investigated using the reflection high-energy electron diffraction (RHEED) and atomic force microscoppe (AFM) resppectively. The films grown at the substrate tempperature below 50$0^{\circ}C$showed the ppoly-crystalline structure of oxygen deficiency. On the contrary the single-crystalline structure was obtained at the substrate tempperature over 50$0^{\circ}C$ and the stochimetry was gradually matched as increasing the substrate tempperature. The surface morpphology showed the increase of the surface roughness as the substrate tempperature was increased upp to 50$0^{\circ}C$ The crystallinity of the film was not good and the minimum channeling yield $\chi$min was measured at 0.91 The stochiometric and high crystallinine film (surface $\chi$min=0.25) was obtained as the substrate tempperature increased upp to 60 $0^{\circ}C$ which indicate the tempperature was sufficient to migrate the depposited atom.
In this study, we have analyzed the radiative characteristics of erythemal ultraviolet-B (EUV-B from 1999 to 2005) over the Korean Peninsula. EUV-B measured at Gangneung, Anmyondo, Mokpo, and Gosan represents the measurements from clean areas and that at Seoul represents from a polluted area. The magnitudes of EUV-B increase in proportion to the latitudinal decrease. Monthly mean variation of EUV-B at noon shows the maximum value of $158.5mWm^{-2}$ in August and the minimum value of $36.4mWm^{-2}$ in December in the clean areas. Seasonal mean diurnal variation of EUV-B shows a peak around noon (12:00 ~ 13:00 hr) and its intensity varies along with a season in order of summer > spring > fall > winter. The maximum value of $56.4mWm^{-2}$ in summer is three times higher than that in winter ($14.3mWm^{-2}$). The value of EUV-B in the polluted area is lower than that in the clean areas, resulting from the effects of the blocking, reflection, and scattering of EUV-B due to high concentrations of PM10. UV-B is an essential element to synthesize vitamin D in human body. 200 IU(International Unite) of vitamin D can be formed by an exposure of 6-10% of body surface area to 0.5 MED(Minimal Erythemal Dose). In order to form vitamin D, the calculated exposure times to EUV-B are 15 min. in spring, 12 min. in summer, 18 min. in fall, and 37 min. in winter for the clean areas and 16, 16, 24, and 37 min. for the polluted area.
송신 안테나는 약 53m 높이에 설치하고, 수신 안테나는 약 6m 높이에 설치하였으며, 해안국에서 700m부터 약 20km까지의 전파 경로 구간에서 $5{\pm}1m/s$의 속도로 이동하면서 150.0625MHz의 단일 주파수를 사용하여 수신신호의 크기를 측정하는 시험을 수행하였다. 본 논문에서는 실해역 측정 데이터를 입력으로 하여 최소자승법오차 방법을 이용하여 측정한 전달경로 구간에서 경로감쇠지수가 3.79가 됨을 추정하였으며, 추정한 경로감쇠지수는 해상 VHF 채널(100MHz)에 대해 ITU-R P.1546-4 Annex 2의 측정 결과와 유사한 결과를 보인다. 추정한 경로감쇠 지수값은 우리나라 남해안의 해상통신에서 하절기의 경로감쇠 지수 예측값으로 사용할 수 있을 것이다.
소규모 천부 불균질대가 레일리파의 전파 및 분산특성에 미치는 영향에 대해 알아보기 위해 반무한 균질 매질과 2층 층서구조상의 소규모 천부 불균질대를 상정하고 이 불균질대의 심도, 규모 등을 변화시키면서 레일리파의 전파양상과 분산특성에 대해 고찰하였다. 불균질대의 크기가 최소파장을 기준으로 한파장 이상의 경우 레일리파의 분산 현상이 확인되었으며 이러한 현상은 불균질대의 크기가 클수록 커지며 심도가 깊어질수록 작아지고 심도와 수직적 크기변화보다는 수평적 크기변화에 더 민감한 것을 확인하였다. 분산으로 인한 위상속도의 변화 양상은 불균질대의 크기가 일정정도 이하일 경우에는 탄성파 기록상에서는 확인하기 어려우나 분산된 레일리파의 반사 및 투과 이벤트와 그로 인한 진폭변화를 통해 불균질대 존재 여부를 확인하는 지시자로 사용될 수 있을 것으로 판단되며 이런 결과는 소규모 불균질대나 공동탐지를 위한 현장탐사나 새로운 해석방법 개발에 있어 한 지침을 제공할 것으로 기대된다.
미생물을 배양하여 불포화 폴리히드록시알칸오에이트 (PHAs)를 생합성하고 이 고분자를 유화상태에서 자발적인 용매 확산방법을 이용한 나노입자의 제조와 다양한 실험적 변수가 입자형성에 어떠한 영향을 미치는지에 대하여 조사하였다. 생합성된 고분자의 물리화학적 특성은 핵 자기 공명 분광계, ATR 적외선 분광분석, 시차 주사 열분석, 젤 투과크로마토그래피로 확인하였으며, 나노입자의 형태는 주사 전자 현미경을 통하여 관찰하였고 입자크기 및 분포는 전기영동 광산란 광도계를 사용하여 확인하였다. 초음파의 강도와 시간이 증가함에 따라 나노입자의 평균 입자직경은 감소하였고 고분자용액의 농도, 유화제의 검화도와 중합도의 증가에 따라서 나노입자의 평균 입자직경은 증가하였고 유화제의 농도 2∼4%에서 평균 입자직경이 최소였으며, 비용매인 에탄올의 첨가가 양용매인 클로로포름만 첨가하였을 때보다 평균 입자직경이 감소하는 것을 관찰하였다.
본 논문에서는 커플링 급전 구조를 가지는 항공기용 양면 인쇄형 글래스 안테나를 제안하였다. 제안된 안테나는 한 개의 급전 선로와 다중 루프 형상의 방사 소자로 구성되며, 조종석 좌측 창문의 서로 다른 면에 위치하여 제한된 면적을 효율적으로 사용하도록 하였다. 제안된 안테나는 유전자 알고리즘을 이용하여 최적화 하였으며, 최적화된 안테나를 1/10 크기의 KUH-Surion에 장착하여 안테나 성능을 측정하였다. 최적화된 안테나는 해당 대역의 중심 주파수에서 33 %의 반전력 대역폭을 가지며, 평균 -3.49 dBi의 전면 방향 복사 이득을 갖는다. 제안된 글래스 안테나의 수신 성능을 평가하기 위해 반경 200 km에서의 수신 전력을 시뮬레이션 하였으며, 그 결과 현재 항공기용 FM 안테나로 사용 중인 pole 안테나와 비슷한 -60 dBm의 최소 수신 전력을 유지하는 것을 확인하였다.
20 GHz대 2단 1 watt 고출력증폭기가 MMIC 기술로 설계, 제작되었다. $0.15\mu\textrm{m}$ 게이트를 구현하는 pHEMT 기술이 MMIC 고출력증폭기 제작에 사용되었는데, 단일 pHEMT 소자는 크기는 $400\mu\textrm{m}$이며 출력단 소자의 합 은 3200 m이다. HEMT 소자의 소오스에 연결한 궤환 회로와 바이어스 회로, 그리고 선로상의 안정화 회로를 이 용하여 전대역에서 안정하게 동작하도록 설계하였다. 래인지 결합기로 각 단을 분리하여 독립적으로 설계하였으 며, 이로 인하여 우수한 입출력 반사계수를 얻었다. 설계를 간단하게 시작하기 위하여 파운더리 라이브러리에서 제공된 비선형 등가회로로부터 선형 s-파라미터를 구하고, 이로부터 입출력측 등가회로를 추출하여 초기 설계 에 이용하였다. 제작된 1 watt MMIC 고출력증폭기는 17-25GHz 대역에서 15 dB 이상의 선형이득. -20dB 이 하의 반사계수. 그리고 31 dBm의 출력전력 특성을 나타내었는데. 설계시 예측된 성능과 매우 잘 일치한다.
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) of silicon nitride (SiN) is a proven technique for obtaining layers that meet the needs of surface passivation and anti-reflection coating. In addition, the deposition process appears to provoke bulk passivation as well due to diffusion of atomic hydrogen. This bulk passivation is an important advantage of PECVD deposition when compared to the conventional CVD techniques. A further advantage of PECVD is that the process takes place at a relatively low temperature of 300t, keeping the total thermal budget of the cell processing to a minimum. In this work SiN deposition was performed using a horizontal PECVD reactor system consisting of a long horizontal quartz tube that was radiantly heated. Special and long rectangular graphite plates served as both the electrodes to establish the plasma and holders of the wafers. The electrode configuration was designed to provide a uniform plasma environment for each wafer and to ensure the film uniformity. These horizontally oriented graphite electrodes were stacked parallel to one another, side by side, with alternating plates serving as power and ground electrodes for the RF power supply. The plasma was formed in the space between each pair of plates. Also this paper deals with the fabrication of multicrystalline silicon solar cells with PECVD SiN layers combined with high-throughput screen printing and RTP firing. Using this sequence we were able to obtain solar cells with an efficiency of 14% for polished multi crystalline Si wafers of size 125 m square.
The authors investigated the effect of feedback and remediation after formative assessment (FRFA) by comparing the FRFA score and that of summative assessment (SA) in a course on clinical skills. In March 2015, 33 subjects underwent evaluation of their ability to perform a complex clinical skill using a real-time ready-made mobile assessment form tool, and through e-mail they were supplied with their feedback and final score (the pass group earned 2 points; the intermediate group earned 1 point; the nonpass group earned 0 points) followed by their self-reflection. The nonpass group underwent a re-test and e-mail feedback again until they passed the test, given the ease of performance. In December 2015, the 33 subjects took a 10-item SA, and one of the 10 items addressed a similar clinical skill. The difference between the first score on the FRFA and the score on the SA was evaluated statistically (p=0.05) through data analysis, variance distribution, correlation analysis, and linear regression analysis using SPSS software ver. 16. The increase from the score on the SA to that on the FRFA was statistically significant ($4.5{\pm}9.29$) in the pass group and the intermediate group, and was $29.7{\pm}11.49$ in the nonpass group of the formative evaluation (p<0.001). Using an FRFA could decrease the range in the standard deviation of the score and increase the minimum score among the subjects.
Jo, Taeyong;Kim, KwangRak;Kim, SeongRyong;Pahk, HeuiJae
Journal of the Optical Society of Korea
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제18권3호
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pp.236-243
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2014
Surface profiling and film thickness measurement play an important role for inspection. White light interferometry is widely used for engineering surfaces profiling, but its applications are limited primarily to opaque surfaces with relatively simple optical reflection behavior. The conventional bucket algorithm had given inaccurate surface profiles because of the phase error that occurs when a thin-film exists on the top of the surface. Recently, reflectometry and white light scanning interferometry were combined to measure the film thickness and surface profile. These techniques, however, have found that many local minima exist, so it is necessary to make proper initial guesses to reach the global minimum quickly. In this paper we propose combing reflectometry and white light scanning interferometry to measure the thin-film thickness and surface profile. The key idea is to divide the measurement into two states; reflectometry mode and interferometry mode to obtain the thickness and profile separately. Interferogram modeling, which considers transparent thin-film, was proposed to determine parameters such as height and thickness. With the proposed method, the ambiguity in determining the thickness and the surface has been eliminated. Standard thickness specimens were measured using the proposed method. Multi-layered film measurement results were compared with AFM measurement results. The comparison showed that surface profile and thin-film thickness can be measured successfully through the proposed method.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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