• 제목/요약/키워드: metallic deposit

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레이저 국소증착을 이용한 TFT-LCD 회로수정 패턴제조 (Laser-induced chemical vapor deposition of micro patterns for TFT-LCD circuit repair)

  • 박종복;정성호;김창재;박상혁;신평은;강형식
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.657-662
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    • 2005
  • In this study, the deposition of micrometer-scale metallic interconnects on LCD glass for the repair of open-circuit type defects is investigated. Although there had been a few studies Since 1980 s for the deposition of metallic interconnects by laser-induced chemical vapor deposition, those studies mostly used continuous wave lasers. In this work, a third harmonic Nd:YLF laser (351nm) of high repetition rates, up to 10 KHz, was used as the illumination source and $W(CO)_6$ was selected as the precursor. General characteristics of the metal deposit (tungsten) such as height, width, morphology as well as electrical properties were examined for various process conditions. Height of the deposited tungsten lines ranged from 35 to 500 nm depending on laser power and scan speed while the width was controlled between $3\~50{\mu}$ using a slit placed in the beam path. The resistivity of the deposited tungsten lines was measured to be below 1 $O\cdot{\mu}m$, which is an acceptable value according to the manufacturing standard. The tungsten lines produced at high scan speed had good surface morphology with little particles around the patterns. Experimental results demonstrated that it is likely that the deposit forms through a hybrid process, namely through the combination of photolytic and pyrolytic mechanisms.

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층상형(層狀型)의 규장암질(珪長岩質) DIATREME (A Layered Felsic Diatreme near Weolseong, Kyeongsang Nam Do, Korea)

  • 박기화;김선억
    • 자원환경지질
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    • 제18권4호
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    • pp.357-368
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    • 1985
  • 경주(慶州) 남부(南部) 2.8km 지점에는 치술령 화산암층이 분포하며, 이 화산암층 보다 후기에 분출 형성된 distreme이 있다. diatreme은 지름이 1.2km의 원형의 화구로서 화산쇄설물로 충진 되어 있다. 이 화산 쇄설물은 proximal ballistic fall deposits로서 층리를 보여주며, 각 층은 상당히 두껍고 특징적으로 많은 양의 accretionary lapilli가 함유되어 있다. 이러한 특징은 시추에 의해 지표 하부 650m가지 확인되었다. 이러한 특징으로 보아 diatreme은 규장질 magma에 많은 양의 물이 유입되는 환경에서 연속인 분출 활동을 하였음을 의미하고, 화산 활동 기간 중에 연속적으로 화산쇄설물이 퇴적 및 침강 하였음을 의미한다.

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스카른 금속광상 탐사를 위한 광대역 유도분극법 적용성 (Application of Spectral Induced Polarization Method for Skarn Metallic Deposits Exploration)

  • 박삼규;신승욱;손정술;조성준
    • 지구물리와물리탐사
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    • 제19권4호
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    • pp.212-219
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    • 2016
  • 광물자원개발에 있어서 탐사 대상이 천부 내지 고품위 광체에서 심부 또는 저품위 광체로 전환됨에 따라 보다 진보된 탐사 기술 개발이 요구되고 있다. 본 연구에서는 스카른 금속광상의 하나인 가곡광산을 대상으로 정밀 탐사가 가능한 광대역 유도분극(spectral induced polarization; SIP)을 이용한 암석시료의 실내 물성 측정과 현장탐사를 수행했다. 또한 실내 측정에서 획득한 암석의 광대역 유도분극 특성과 현장 탐사자료의 역해석 결과를 종합적으로 해석함으로써 스카른 금속광상에 대한 광대역 유도분극 탐사 적용성을 검토하였다. 암상별 광대역 유도분극 특성을 파악하기 위해 기존 연구에서 사용된 89개 시료들의 자료를 재평가했다. 현장탐사는 암상의 경계와 스카른 광화대를 평가할 수 있도록 측선을 설정하고, 0.25 Hz 주파수 대역의 자료를 획득하고 역산해석을 수행했다. 광석광물을 수반하고 있는 암석과 스카른 광화대는 낮은 전기비저항 구간을 보이며, 충전성이 높고 음의 위상이 나타났다. 따라서 광대역 유도분극 탐사는 스카른 광상의 광화작용 특성을 해석하는데 유용하다는 것을 알 수 있었다.

국내 금속광 탐사를 위한 쌍극자-쌍극자 전기탐사의 적용성 연구 (A Study of Feasibility of Dipole-dipole Electric Method to Metallic Ore-deposit Exploration in Korea)

  • 민동주;정현기;박삼규;전효택;곽나은
    • 지구물리와물리탐사
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    • 제11권3호
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    • pp.250-262
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    • 2008
  • 금속광산탐사에서 많이 이용되는 물리탐사 방법 중의 하나인 쌍극자-쌍극자 배열 전기비저항탐사의 실제 광산탐사에 대한 적용성을 평가하기 위하여 단순화된 광상구조에 대하여 현장자료 시뮬레이션 및 역산해석을 수행하였다. 실제 광상모형으로는 국내 여러 금속광상 중에서 가장 분포 빈도가 높은 맥상광상을 대상으로 하였다. 국내 맥상광상의 맥폭이 대부분 수십 cm에서 2m이내라는 점에 기초하여 맥폭을 변화시키고, 광맥의 물성을 변화시켰으며, 쌍극자-쌍극자 배열 전기비저항탐사의 전극간격은 40m로 가정하였다. 맥폭이 1m 이하일 경우 주변암과 광맥의 전기적 물성차가 300배 이상 되는 경우에도 저비저항대가 나타나지 않았다. 맥폭이 커질수록 그리고 비저항의 차가 클수록 저비저항대가 뚜렷하게 나타났으나, 넓은 전극간격과 역산에 이용된 셀 크기가 심부로 갈수록 커져서 대체로 저 비저항대의 폭이 과장되게 나타났고, 깊이 또한 실제 깊이보다 깊게 나타났다. 실제 천열수광상 모형을 가정하고 현재 가행 중인 광산에서 측정한 전기비저항을 근거로 하여 현장자료 시뮬레이션 및 역산을 수행한 결과 광맥의 전기비저항 값이 높은 경우에도 광맥에 의한 영향이 잘 나타나지 않는다는 것을 알 수 있었다. 이와 같이 구조지질학적으로 광맥에 수반되는 열수변질대가 전기비저항탐사 자료에서 이상대로 포착되므로 천열수 광산의 경우 이러한 주변 열수변질대를 탐사대상으로 선정하는 것이 바람직하다. 이상의 결과들을 종합해 볼 때 광맥이 지하 깊은 곳에 존재하며 광맥과 주변암과의 전기적 물성차가 크지 않은 경우, 일반적으로 수행되는 지표면 전기비저항탐사로는 광맥의 존재여부조차 파악할 수 없는 경우가 있으며, 저비저항대가 나타난다 하더라도 실제 구조와 다른 과장된 양상으로 나타난다는 것을 알 수 있었다. 이 연구에서 제시한 모델링 및 역산자료는 기본적이고 단순한 모형실험이지만 일선 현장 자료를 바탕으로 수행한 실험연구로서 향후 보다 다양한 모형에 대하여 모델링을 수행하고 표준 및 정량적 지침을 제시해 나간다면 현장 측선 설계나 탐사결과의 해석시에 유용한 지침으로 활용될 수 있을 것이다.

PROPOSE NEW MIXTURE TARGET FOR LOW-TEMPERATURE AND HIGH- RATE DEPOSITION OF PZT THIN FILMS BY REACTIVE SPUTTERING

  • Hata, Tomonobu;Zhang, WeiXiao;Sasaki, Kimihiro
    • 한국표면공학회지
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    • 제29권5호
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    • pp.330-337
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    • 1996
  • A rf reactive sputter deposition technique was adopted to deposit ferroelectric lead zirconate titanate (PZT) thin films with high rate from a ZrTi alloy target combined with PbO pellets. Deposition characterisitics including the effects of PbO are ratio were discussed. A new deposition mode called the quasi-metallic mode was observed. Perovskite PZT films were prepared at a growth temperature as low as$ 450^{\circ}C$. However, because the target structure is unstable, weproposed a mixture target consisted of Zr, Ti and PbO. Fundamental experiments were investigated using the powder target. Perovskite PZT film could be obtained at $450^{\circ}C$ with better electrical properties also.

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무전해도금(I) (Review on Electroless Plating(I))

  • 김만;권식철
    • 한국표면공학회지
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    • 제19권3호
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    • pp.121-127
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    • 1986
  • There are many plating methods already commercially employed in te surface technology. One of the plating methods is electroless (chemical) plating, which is deposited by auto-catalytic reduction of metallic ion with the reducing agent in the plating bath. And it has many advantages comparing with electrolytic plating in respect of properties of deposit, such as corrosion resistance, wear resistance, uniformity, hardness, adhesion and so on. So, electroless plating is the fatest growing process in metallization of plastic and electronic industry. The properties and numerous applications of electroless deposits are attracting more and more attention from finish specifies. Many metal finishers are considering set-up of new electroless line in their shops. This review will be beneficial to domestic metal finishers to understand the real status of present electroless plating technology. It will also provide some knowledge on the economic aspect of electroless plating for the commercial application of specific parts.

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Scanning Tunneling Microscopy Study of Alcohol Adsorption on NiAl(110) Deposited by Pulsed Injection

  • Choi, Eun-Yeoung;Lee, Youn-Joo;Lyo, In-Whan
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.353-353
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    • 2010
  • Alcohol is a vesatile polar solvent for molecules. As a preparation to deposit large molecules, we studied interaction of solvent molecules on metallic surface. in this work, we report on methanol adsorption on NiAl(110) with scanning tunneling microscopy (STM). These alcohol solvent molecules were deposited by a pulse injection method suitable for deposition of thermally unstable molecules. The injection of liquid alcohol onto the substrate in UHV was performed by using a high-speed solenoid valve with the back-pressure reduced down to 100 Torr. This technique allowed precise control over the amount of dosing of molecules to less than 1 L. Alcohol-induced features, attributed to methoxy, were found on bare NiAl(110) surface.

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페루 중부 오욘 다중금속 광화작용에 대한 조사보고 (A Survey Report on the Polymetallic Mineralization in the Oyon Mineralized District, Central Peru)

  • 이재호;김인준;남형태
    • 자원환경지질
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    • 제50권1호
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    • pp.73-83
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    • 2017
  • 조사광산들은 페루 중부 오욘지역 다중금속 광화대내 다양한 형태로 부존하고 있다. Iscaycruz Zn-Cu-Pb 광산은 다금속 교대 및 스카른 광상으로, 상부에 백악기 퇴적물이 놓여있는 이토질의 쥐라기 퇴적물로 형성된 퇴적암 층군내에 배태한다. 이 층군내 화성암의 관입은 다금속 광화작용을 발생시켰다. Raura Pb-Zn-Cu 광산은 백악기 마차이(Machay) 석회암층이 퇴적되어 있으며, 섬록반암이 관입과 연관된 암맥들에 의해 광화작용이 발달한다. 여러 개의 광체가 발달하고 있으며, 그 중 카투보(Catuvo)광체는 Pb-Zn 광물이 우세하게, 니나코차(Ninacoha)광체는 Ag가 풍부한 방연석이 산출된다. 에스페란자(Esperanza)광체와 레스토라도라(Restauradora) Cu-Ag 광체는 맥상으로 수많은 소규모의 구조에 의해 광화작용이 규제되고 있다. Huaron 광산은 Ag, Pb, Zn Cu 광화작용에 의해 형성된 열수다중금속광상으로, Huaron 배사구조내에 주로 위치하는 몬조나이트 암맥의 관입과 관련된 구조내에서 발달한다. 광화작용은 주요 단층계에 평행한 맥상으로, 역암과 기타 적합한 층서면의 탄산염부분과 관련된 "manto"로 알려진 교대광체로, 그리고 맥의 교차점에서 몬조나이트 관입체내 광염상으로 나타난다.

지리정보시스템(GIS) 및 Weight of Evidence 기법을 이용한 강릉지역의 퇴적기원의 비금속 광상부존가능성 분석 (Sedimentary type Non-Metallic Mineral Potential Analysis using GIS and Weight of Evidence Model in the Gangreung Area)

  • 이사로;오현주;민경덕
    • Spatial Information Research
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    • 제14권1호
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    • pp.129-150
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    • 2006
  • 본 연구에서는 GIS 및 확률 기법을 이용하여 광상의 위치와 지질, 지화학 및 지구물리 자료들 간의 상관관계를 분석하고, 광상부존가능도(Mineral potential map) 작성 및 검증을 수행하였다. 연구지역은 1:25만 강릉도폭지역 a이며, 구축된 데이터베이스 자료는 1:25만 광상분포도, 지화학도, 지질도, 부우게 중력이상도, 자력이상도이다. 본 연구에 사용된 광상은 퇴적기원의 비금속광상(고령토, 도석, 규석, 운모, 연옥, 석회석, 납석)이다. 원소별 지화학도 작성은 채취된 각 시료 3,595개의 원소별 분석치를 이용하여 IDW 보간법으로 만들었다. 구축된 지화학도는 Al, Alkalinity, As, Ba, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, K, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Si, Sr, V, W, Zn, $Cl^-,\;F^-,\;{NO_2}^-,\;{NO_3}^-,\;{PO_4}^{3-},\;{SO_4}^{2-}$, pH, Eh 및 Conductivity로 총 32개이다. 이러한 광상과 관련 요인들 간의 상관관계는 확률기법인 weight of evidence를 적용하여 계산하였고, 이를 바탕으로 광상부존가능도를 작성하였다. 광상부존가능도는 wieght of evidence의 W+와 W- 값을 GIS 중첩분석에 적용하여 작성하였다. 계산된 광상부존가능지수는 기존 광상부존가능성을 정량적으로 설명하고 표현하며 검증할 수 있는 값이다. 각 기법을 이용하여 작성한 광상부존가능도의 검증결과는 85.66%의 정확도를 나타내었다.

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레이저 국소증착을 이용한 TFT-LCD회로 수정5 미세 텅스텐 패턴 제조 (Laser-induced chemical vapor deposition of tungsten micro patterns for TFT-LCD circuit repair)

  • 박종복;김창재;박상혁;신평은;강형식;정성호
    • 한국정밀공학회지
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    • 제22권8호
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    • pp.165-173
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    • 2005
  • This paper presents the results for deposition of micrometer-scale metal lines on glass for the development of TFT-LCD circuit repair-system. Although there had been a few studies in the late 1980's for the deposition of metallic interconnects by laser-induced chemical vapor deposition, those studies mostly used continuous wave lasers. In this work, a third harmonic Nd:YLF laser (351nm) of high repetition rates, up to 10 KHz, was used as the illumination source and W(CO)s was selected as the precursor. General characteristics of the metal deposit (tungsten) such as height, width, morphology as well as electrical properties were examined for various process conditions. Height of the deposited tungsten lines ranged from 35 to 500 m depending on laser power and scan speed while the width was controlled between 50um using a slit placed in the beam path. The resistivity of the deposited tungsten lines was measured to be below $1{\Omega}{\cdotu}um$, which is an acceptable value according to the manufacturing standard. The tungsten lines produced at high scan speed had good surface morphology with little particles around the patterns. Experimental results demonstrated that it is likely that the deposit forms through a hybrid process, namely through the combination of photolytic and pyrolytic mechanisms.