• 제목/요약/키워드: magnetization reversal

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1 ns 이하의 자화 용이축 펄스 자기장에 의한 자성박막의 자화 반전 거동 (Magnetization Reversal Behavior of Submicron-sized Magnetic Films in Response to Sub-ns Longitudinal Field Pulses Along the Easy Axis)

  • 이진원;한윤성;이상호;홍종일
    • 한국자기학회지
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    • 제17권5호
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    • pp.188-193
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    • 2007

  • [ $1.00{\times}0.24\;{\mu}m^2$ ] 크기의 $Ni_{80}Fe_{20}$ 박막의 자화 반전 거동을 자화 용이축으로 1 ns 이하의 펄스 자기장의 지속 시간과 세기를 변수로 인가하여 micromagnetics 시뮬레이션으로 관찰하였다. 자성 박막은 직사각형과 타원형의 모양을 가지며, 두께는 2 nm와 4 nm로 설정하였다. 실험 결과 $Ni_{80}Fe_{20}$ 박막의 두께와 모양에 따라 각각 다른 경향을 보이는 것을 확인할 수 있었다. 박막의 두께에 따라 두께 방향으로 형성되는 반자장의 크기 차에 의해 edge domain에서 스핀의 회전속도와 스핀 스위칭의 거동에 차이가 생기며, 박막이 두꺼울수록 자화 반전에 더 긴 펄스 지속 시간과 강한 펄스 자기장이 필요하다는 것을 확인하였다. 한편, 자화 반전이 예상되는 영역에서 자화 반전이 일어나지 않는 비정상적인 자화 반전 영역을 발견할 수 있었는데, 박막의 모양이 타원일 때와 박막의 두께가 얇은 경우에 그 영역이 더욱 불규칙적이고, 넓게 분포하였다. 이러한 현상은 막의 두께가 매우 얇기 때문에 두께 방향으로 형성된 강한 반자장의 영향에 의해 나타나는 것으로 여겨진다. Edge domain이 더 많은 직사각형 모양의 경우 자화반전이 일어나는 동안 자기모멘트의 세차 운동에 의해 생기는 $M_z$ 성분, 즉 두께방향으로 형성된 반자장이 더 작고, 이에 따라 자화 반전이 예상되는 영역에서 자화 반전이 일어나지 않는 비정상적인 자화 반전 영역이 더 적어짐을 확인하였다. 본 시뮬레이션 결과는 자성박막의 안정된 고속 자화반전을 위해서는 반자장의 영향을 최소화하는 것이 중요하다는 것을 보여준다.

  • https://doi.org/10.4283/JKMS.2007.17.5.188 인용 PDF KSCI

CHARACTERIZATION OF MAGNETIZATION BEHAVIOR IN Co/Pd PERPENDICULAR ANISOTROPIC MULTILAYERS

  • Oh, Hoon-Sang;Joo, Seung-Ki
    • 한국자기학회지
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    • 제5권5호
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    • pp.655-658
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    • 1995

  • Magnetization behavior of sputter-deposited Co/Pd multilayers were characterized, and it has been found that even when the multilayers are sputtered at low pressure (10 mTorr), the coercivity of the multilayers can be increased to large extent without noticeable change of saturation magnetization by increasing the deposition pressure of Pd underlayer. It turned out that the surface topology of Pd underlayer gets rough as deposition pressure increases, which consequently affects the magnetization reversal mode of Co/Pd multilayers from domain wall motion to magnetic spin rotation. The enhancement of coercivity is attributed to the domain wall pinning effect which is comected with the surface roughness of Pd underlayer on which Co/Pd multilayers grow.

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