We have synthesized five novel phthaloperinone dyes via a condensation reaction to be applied as yellow colorants for liquid crystal display(LCD) color filters. The reaction between 1,8-naphthalic anhydride(1a), 4-chloro-1,8-naphthalic anhydride(1b), 4-bromo-1,8-naphthalic anhydride(1c), 3-nitro-1,8-naphthalic anhydride(1d), 4-nitro-1,8-naphthalic anhydride(1e) and 1,2-diaminoanthraquinone(2) proceeded readily giving a product in 72-88% yields. The synthesized dyes were characterized by UV-Vis, mass spectrometry and elemental analysis. The spectral properties and thermal stability of the dyes were examined. The dyes absorb at around 400-450nm. All five dyes showed satisfactory thermal stability: the dyes retain 99-100% of its original weight at $300^{\circ}C$, 98-100% at $350^{\circ}C$, 92-98% at $400^{\circ}C$, and 84-92% at $450^{\circ}C$. We have quantitatively evaluated the reaction mechanism and reactivity of dye molecules by means of Pariser-Parr-Pople Molecular Orbital Method(PPP-MO).
액정표시소자(LCD)의 보호필름으로 사용되는 트리아세틸 셀룰로오스(TAC) 용액 필름 가공조건이 TAC 필름 사용 환경에 따른 치수안정성에 미치는 영향을 살펴보았다. 아울러 이러한 치수 안정성의 변화가 필름 기계적 및 광학 특성에 미치는 영향을 함께 살펴보았다. TAC 필름의 용액가공 시 사용되는 methylene chloride/methyl alcohol 혼합용매의 methylene chloride 함량 증가와 필름 dope에 포함된 TAC의 농도 감소에 의하여 TAC 필름 고상화 과정에서 용매의 증발속도가 빨라져 TAC 주사슬의 잔유응력을 유발시킴에 따라 항온항습 조건(65$^{\circ}C$, 90%)에서 TAC 필름의 치수안정성이 감소됨을 확인할 수 있었으며 이러한 치수안정성의 변화는 필름의 기계적 및 광학적 특성에 영향을 미침을 확인하였다.
본 논문은 TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장비 공정용 챔버(Chamber) 세정을 위한 새로운 플라즈마 세정방법에 적합한 플라즈마 발생방법과 플라즈마 발생을 위한 고주파 전원장치의 전력회로에 관한 연구이다. 세정에 요구되는 고밀도 플라즈마는 안테나 형태의 기존 ICP(Inductively Coupled Plasma) 방식에 강자성체인 페라이트 코어를 적용하므로 써 $1{\times}10^{11}[EA/cm^3]$이상의 고밀도 플라즈마 발생을 가능하게 하였다. 플라즈마 발생을 위한 400[kHz] 고주파 전력 변환장치의 경우 범용 HB(Half Bridge) 인버터 방식을 적용하여 플라즈마 부하에서도 안정적인 영전압 스위칭 동작을 확인 하였다. 변압기 직렬결합 방식을 사용한 10[kW] 고출력을 통해 $A_r$과 $NF_3$가스 분위기하에서 플라즈마의 밀도와 $NF_3$가스 분해율을 측정하므로서 고주파 전력 변환 장치의 성능을 입증하였다.
구동 IC를 유리기판 위의 Al패드 전극에 연결하는 LCD(Liquid Crystal Display) 모듈을 실장하는 Chip On Glass (COG) 기술을 개발하기 위하여 기존에 잘 알려진 기술 가운데 실제로 적용 가능성이 가장 유망한 이방성 도전 접착제 (ACA, Anisotropic Conductive Adhesives)를 사용한 공정에 대하여 조사하였다. ACA 공정은 본딩 부분에 ACA 수지를 균일하게 분포시키는 공정과 자외선을 조사하여 수지를 경화하여 칩을 실장하는 공정의 2단계로 진행하였다. 칩에 가해준 하중은 2-15kg이었고 칩의 예열 온도는 12$0^{\circ}C$이었다. 이방성 도전체는 Au 또는 Ni이 표면 피막 재료로 사용된 것을 사웅하였으며 전도성 입자의 갯수가 500, 1000, 2000, 4000개/$\textrm{mm}^2$이며 크기가 5, 7, 12$\mu\textrm{m}$이었다. ACA 처리의 결과 입자 크기가 5$\mu\textrm{m}$이고 입자 밀도는 4000개/$\textrm{mm}^2$일 경우가 대단히 낮은 접촉 저항 및 가장 안정된 본딩 특성을 나타냈었다.
본 논문에서는 간섭원리에 기반한 컴퓨터형성홀로그램과 광굴절매질인 BaTiO$_3$를 이용하여 광 정보 보호 시스템을 구현하였다. 먼저 원영상을 재생할 수 있는 이진위상홀로그램을 생성한 후, 이를 암호화할 영상으로 간주한다. 그리고 이 홀로그램에 간섭 원리를 적용하여 암호화된 영상과 기준영상(키 정보)을 얻는다. 복호화과정은 Mach-Zehnder 간섭계에서 암호화된 영상과 기준영상과의 간섭을 통해 간섭세기 정보를 얻고, 이를 LCD를 이용하여 위상 정보로 변환한 후 푸리에 변환함으로써 원영상을 얻는다. 이 과정에서 두 영상의 간섭을 통해 얻어지는 세기 정보는 주위 진동에 상당히 민감하다. 그래서 광굴절매질인 BaTiO$_3$의 SPPCM 특성을 이용하여 안정한 간섭 무늬를 얻는다. 제안된 방법은 원래의 영상 대신 그 영상의 홀로그램을 암호화하므로 이중 영상 암호 효과의 장점이 있다.
비쥬얼 크립토그래피(VC)의 복호 시스템으로써 인간의 시각을 대신하여 광학계를 사용하는 이진 컴퓨터형성홀로그램(BCGH) 기반의 광 비쥬얼 크립토그래피(OVC)가 제안되어 광학 시스템에 크립토그래피를 적용할 수 있게 되었으나 VC의 문제점을 극복하는 과정에서 또 다른 문제를 발생하였다. 본 논문에서는 공간광변조기의 위상변조 특성을 이용하여 광 크립토그래피를 구현하는 방법을 제시하고 시뮬레이션을 통하여 구현상의 문제점 및 타당성을 도출하였다. 제안한 광 크립토그래피는 액정디스플레이(LCD)를 활용하여 OVC로서 유용한 결과를 얻도록 하였으며, 기존 시각 암호에서 근본적으로 해결이 불가능하였던 해상도와 잡음 문제를 개선하였다.
PURPOSE. The aim of this study is to compare the casts obtained by using conventional techniques and liquid crystal display (LCD) three-dimensional (3D) print techniques in the All-on-4 treatment concept of the edentulous mandibular jaw. MATERIALS AND METHODS. In this study, a completely edentulous mandibular acrylic cast (typodont) with bone-level implants placed with the Allon-4 technique served as a reference cast. In this typodont, impressions were taken with the conventional technique and dental stone casts were obtained. In addition, after scanning the acrylic cast in a dental laboratory scanner and obtaining the Standard Tessellation Language (STL) data, 3D printed casts were manufactured with a 3D printing device based on the design. The stone and 3D printed casts were scanned in the laboratory scanner and STL data were obtained, and then the interimplant distances were measured using Geomagic Control X v2020 (3D Systems, Rock Hill, SC, USA) analysis software (n = 60). The obtained data were statistically evaluated with one-way analysis of variance (ANOVA) and Tukey's pairwise comparison tests. RESULTS. As a result of the one-way ANOVA test, it was determined that the stone casts, 3D printed casts, and reference cast values in all distance intervals conformed to the normal distribution and these values had a significant difference among them in all distance intervals. In Tukey pairwise comparison test, significant differences were found between casts at all distance intervals. In all analyses, the level of significance was determined as .05. CONCLUSION. 3D printed casts obtained with a 3D LCD printing device can be an alternative to stone casts when implants are placed in edentulous jaws. [J Adv Prosthodont 2022;14:379-87]
최근 LED TV로 각광받고 있는 대형 LCD TV용 LED(Light Emitting Diode, 고체발광다이오드) 백라이트에 사용되는 도광판의 광구조를 최적화하여 LED에 의해 발생하는 휘점을 제거하고 조도균일도를 향상시키기 위한 시뮬레이션 연구를 진행하였다. 시뮬레이션 모델로 설정된 엣지형 백라이트는 LCD TV용으로 사용될 수 있는 두께 3 mm의 도광판, 측면에 배치된 세 개의 백색 LED와 램프 커버, 도광판의 하면에 배치된 반사 필름으로 구성되어 있다. 일반적인 엣지형 백라이트용 도광판과 같이 도광판의 입광면에 패턴이 형성되어 있지 않은 경우에는 도광판 상면의 조도균일도가 입광면과 LED 사이의 거리에 민감하게 의존하였다. 입광면과 LED 사이의 거리가 커질수록 조도균일도는 개선되다가 일정 거리 이상이 되면 개선이 둔화되는 경향성을 보였다. 반면에 도광판의 입광면에 렌티큘라(lenticular) 렌즈 배열이나 톱니모양(Serration)과 같은 미세 굴절 패턴을 형성하는 경우 LED가 입광면에 거의 붙어 있는 경우에도 패턴이 없는 경우에 비해 우수한 조도균일도를 보인다는 것을 알 수 있었고 조도균일도가 LED와 입광면 사이의 거리에 의존하는 정도가 줄어든다는 점도 확인하였다. 동일조건에서는 톱니모양 패턴이 렌티큘라 렌즈에 비해 우수한 조도균일도를 나타내었고 굴절률의 변화를 통해 추가적인 균일도 개선 효과를 얻을 수 있음도 확인하였다. 따라서 도광판의 입광면에 굴절 기능을 가지는 미세 패턴을 형성하고 그 광구조를 최적화하는 것은 LED에 의한 휘점 형성을 억제하고 LCD 측면의 비발광영역(베젤)을 줄이는데 있어서 매우 효과적인 방법이 될 수 있다는 것을 확인하였다.
Objectives: The aim of this study is to evaluate exposure levels of the extremely low frequency magnetic fields(ELF-MF) radiated from various electric facilities in Liquid Crystal Display(LCD) manufacturing processes. Methods: This study measured the exposure levels of personal and local ELF-MF for the electronic facilities installed in two LCD manufacturing companies. Samplers were installed around workers' waist during working hours to identify personal exposure levels, and direct reading equipment were located at 3 cm, 10 cm, and 30 cm away from the surface of the electronic facilities to measure local exposure levels. Average and maximum(ceiling) values were calculated for personal and local exposure levels. Results: Average and maximum of personal exposure levels for each worker were 0.56(mean) ± 0.02(SE) µT and 6.31 ± 0.75 µT, respectively. Statistical analyses of the study found that maximum of the personal exposure levels for engineers was significantly higher than that for operators since engineers spend more time near the electronic facilities for repairing. The range of maximum personal exposure levels was 0.50 ~ 43.50 µT and its highest level was equivalent to 4.35 % of ACGIH(American Conference of Governmental Industrial Hygienists) exposure limit value(1 mT). Maximum of local exposure levels was 8.18 ± 0.52 µT and the electronic facilities with higher exposure levels were roof rail and electric panel, which were not related to direct manufacturing. The range of maximum local exposure levels was 0.60 ~ 287.20 µT and its highest level was equivalent to 28.7 % of the ACGIH exposure limit value. Lastly, the local exposure levels significantly decreased as the measurement distance from the electronic facilities increased. Conclusions: Maximum of personal and local exposure levels did not exceed the exposure limit value of ACGIH. However, it is recommended to keep the workers as far as possible from the sources of ELF-MF.
The information indicating device plays an important part in the information times. Recently, the classical CRT (Cathod Ray Tube) display is getting transferred to the LCD (Liquid Crystal Display) one which is a kind of the FPDs (Flat Panel Displays). The OLED (Organic Light Emitting Diodes) display of the FPDs has many advantages for the low power consumption, the luminescence in itself, the light weight, the thin thickness, the wide view angle, the fast response and so on as compared with the LCD one. The OLED has lately attracted considerable attention as the next generation device for the information indicators. And also it has already been applied for the outside panel of a mobile phone, and its demand will be gradually increased in the various fields. It is manufactured by the vapor deposition method in the vacuum state, and the uniformity of thin film on the substrate depends on the temperature distribution in the point-cell source. This paper describes the basic concepts that are obtained to design the point-cell source using the computational temperature analysis. The grids are generated using the module of AUTOHEXA in the ICEM CFD program and the temperature distributions are numerically obtained using the STAR-CD program. The temperature profiles are calculated for four cases, i.e., the charge rate for the source in the crucible, the ratio of diameter to height of the crucible, the ratio of interval to height of the heating bands, and the geometry modification for the basic crucible. As a result, the blowout phenomenon can be shown when the charge rate for the source increases. The temperature variation in the radial direction is decreased as the ratio of diameter to height is decreased and it is suggested that the thin film thickness can be uniformed. In case of using one heating band, the blowout can be shown as the higher temperature distribution in the center part of the source, and the clogging can appear in the top end of the crucible in the lower temperature. The phenomena of both the blowout and the clogging in the modified crucible with the nozzle-diffuser can be prevented because the temperature in the upper part of the crucible is higher than that of other parts and the temperature variation in the radial direction becomes small.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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