Plasma display panel(PDP) have gained great attention due to their potential application to large-area display including HDTV. The luminance and luminous efficiency of PDP, however, should be improved to realize this goal. In this study, we examined experimentally the effects of phosphor thickness and discharge gap on the luminance and luminous efficiency of ac PDP. For the rib height of 110 ${\mu}m$, whereas the optimum phosphor thickness was about 30 ${\mu}m$. The optimum thickness of green phosphor was about 50 ${\mu}m$ for the rib height of $120{\sim}160\;{\mu}m$.
We propose a dual in-plane parallel electrode structure of a vertical configuration of a helix-deformed ferroelectric liquid crystal (HDFLC) mode for better brightness than a single in-plain electrode case. This structure provides high brightness in addition to the analog gray scale capability, fast response, and wide-viewing characteristics. In contrast to a conventional HDFLC in a planar geometry, smectic layers arrange themselves parallel to the substrates and thus extremely uniform alignment of molecules in a large area is naturally achieved in our new configuration.
디스플레이 장치에서 기존의 CRT는 곡면이며 무겁고 큰 부피 때문에 LCD, PDP와 같은 평판디스플레이(FPD)로 대체되고 있다. FPD는 $0.6{\sim}0.8mm$ 두께의 대면적 글래스에 여러 공정을 거친 후에 최종 제품 규격으로 절단하여 제작하기 때문에 글래스의 면적이 크면 클수록 FPD의 생산성이 높다는 밀접한 관계를 갖는다. 따라서 FPD 제조 업계에서는 글래스 면적을 증가시키기 위하여 노력하고 있다. 7세대 글라스($2,220mm\;{\times}\;1,870mm\;{\times}\;0.7mm$)를 대상으로 유한요소해석 및 유동해석을 통하여 이송장치, 배급장치, 수평/경사 변환장치 및 제어장치로 구성된 비접촉 공기부상 이송시스템을 개발하였다. 본 개발에서 확보한 설계기술을 통하여 글라스의 크기가 대형화 되더라도 관련 이송장비를 보다 쉽게 제작하여 적용할 수 있다.
Nanoimprint lithography (NIL) is the next generation photolithography process in which the photoresist is dispensed onto the substrate in its liquid form and then imprinted and cured into a desired pattern instead of using traditional optical system. There have been considerable attentions on NIL due to its potential abilities that enable cost-effective and high-throughput nanofabrication to the display device and semiconductor industry. Although one of the current major research trends of NIL is large-area patterning, the technical difficulties to keep the uniformity of the residual layer become severer as the imprinting area increases more and more. In this paper, with the rolling type imprinting process, a mold, placed upon the $2^{nd}$ generation TFT-LCD glass sized substrate($370{\times}470mm^2$), is rolled by a rubber roller to achieve a uniform residual layer. The prediction of residual layer thickness of the photoresist by rolling of the rubber roller is crucial to design the rolling type imprinting process, determine the rubber roller operation conditions-mpressing force & feeding speed, operate smoothly the following etching process, and so forth. First, using the elasticity theory of contact problem and the empirical equation of rubber hardness, the contact length between rubber roller and mold is calculated with consideration of the shape and hardness of rubber roller and the pressing force to rubber roller. Next, using the squeeze flow theory to photoresist flow, the residual layer thickness of the photoresist is calculated with information of the viscosity and initial layer thickness of photoresist, the shape of mold pattern, feeding speed of rubber roller, and the contact length between rubber roller and mold previously calculated. Last, the effects of rubber roller operation conditions, impressing force & feeding speed, on the residual layer thickness are analyzed with consideration of the shape and hardness of rubber roller.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.1279-1282
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2008
Organic field effect transistors are excellent candidates for addressing and local amplification elements for large area electronics because they can easily be processed at low temperatures on essentially arbitrary substrates. We present the use of these devices in an active matrix photodetector and as a buffer for a strain sensor.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.193-194
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2008
$Orgacon^{TM}$ products, based on the conducting polymer PEDOT/PSS, are very promising materials in cost-effective R2R production of large area electronics. This presentation will show both the progress in the surface resistance/VLT and progress in the stability (T/R.H. and light stability). A new generation of films, coating formulations and inks will be presented.
Electroluminescence(EL) devices based on organic thin layers have attracted lot of interests because of their possible application as large-area display-emitting display. One of the problems of such devices is lifetime of the cell, where the degradation of the cell is partially due to the crystalliyzation of organic layers. In large part, this problem can be solved by using a multilayer device structure prepared by vapor deposition technique. In this study, blue light-emitting multilayer organic electroluminescence devices were fabricated vsing Poly (9-vinylcarbaEole) (PVK) and 2- (4-tert-butylphenyl)-5-(4$^{#}$-bis-phenyl) 1,3,4-oxadiazole (PBO) as hole trasport and electron transport material, respectively, where trim(8-hyd roxyquinolinate) aluminum (Al $q_3$) was used as a luminescenct material. A cell structure of glass sub- strate/indume-tin-oxide(ITO)/PCK/Al $q_3$/PBD/Mg:In was employed. Blue emission peak at 510nm was observed with this cell structure.e.
차세대 항공전자 시스템은 표준화 모듈의 데이터통신에 기반한 개방형 아키텍처와 범용성을 위한 새로운 시스템 개발이 요구된다. 본 논문에서는 차세대 항공전자 비행운영 프로그램을 지원하기 위한 메시지 기반 미들웨어를 설계하고 이에 대한 구현 및 테스트를 통한 적용성을 검증한다. 시스템 구성은 임무컴퓨터 (Mission Computer, MC)와 대화면 시현기 (Large Area Display, LAD)를 포함하며 고신뢰의 이더넷기반의 소켓통신이 사용하였다. 마지막으로 실험결과 제안된 방법은 모든 패킷이 20msec의 데드라인에 패킷 손실이 전혀 없이 전달됨으로써 실시간성과 신뢰성 요구사항을 만족시키는 것으로 판명되었다.
Kim, Do-Kyung;Jeong, Woong-Hee;Bae, Jung-Hyeon;Kim, Hyun-Jae
Journal of Information Display
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제10권3호
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pp.117-120
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2009
A new crystallization method for amorphous silicon, called selective area heating (SAH), was proposed. The purpose of SAH is to improve the reliability of amorphous silicon films with extremely low thermal budgets to the glass substrate. The crystallization time shortened from that of the conventional solid-phase crystallization method. An isolated thin heater for SAH was fabricated on a quartz substrate with a Pt layer. To investigate the crystalline properties, Raman scattering spectra were used. The crystalline transverse optic phonon peak was at about 519 $cm^{-1}$, which shows that the films were crystallized. The effect of the crystallization time on the varying thickness of the $SiO_2$ films was investigated. The crystallization area in the 400nm-thick $SiO_2$ film was larger than those of the $SiO_2$ films with other thicknesses after SAH at 16 W for 2 min. The results show that a $SiO_2$ capping layer acts as storage layer for thermal energy. SAH is thus suggested as a new crystallization method for large-area electronic device applications.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.846-848
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2002
A large-area (830mm ${\times}$ 1,020mm) inductively coupled plasma source with a six internal straight antennas was developed for large area FPD etch process applications and the effects of magnetic fields employing permanent magnets on the plasma characteristics were investigated. By employing the magnetic fields perpendicular to the six straight antenna currents using permanent magnets, improved plasma characteristics such as increase of the ion density and decrease of both electron temperature and plasma potential could be achieved in addition to the stability of the plasma possibly due to the reduction of the electron loss. However, the application of the magnetic field decreased the plasma uniformity slightly even though the uniformity within 10% could be maintained in the 800mm processing area.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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