Diamond-Like Carbon (DLC) thin film is a semiconductor with high mechanical hardness, low friction coefficient, high chemical inertness, and optical transparency. DLC thin films have widespread applications as protective coatings and solid lubricant coatings in areas such as Hard Disk Drive (HDD) and Micro-Electro-Mechanical-Systems (MEMS). In this work, the wear characteristics of DLC thin films deposited on silicon substrates using a DC-magnetron sputtering system were analyzed. The wear tracks were measured with an Atomic Force Microscope (AFM). To identify the sp2 and sp3 hybridization of carbon bonds and other bonds Raman spectroscopy was used. The structural information of DLC thin films was obtained with Fourier transform infrared spectroscopy and wear tests were conducted by using a micro-pin-on-reciprocator tester. Results showed that the wear characteristics were dependent on the sputtering conditions. The wear rate could be correlated with the bonding state of the DLC thin film.
Czochralski법을 이용하여 Er$_2$O$_3$가 첨가된 near stoichiometric조성의 LiNbO$_3$ 단결정을 Z-축의 방향으로 직경 15~20mm, 길이 25-30 mm의 크기로 성장시켰다. X-Ray Diffractometer (XRD)을 이용하여 격자상수를 조사하였고, Fourier Transform-Infrared Spectrophotometer (FT-IR)을 통하여 흡수밴드를 관찰하였다. 또한 Electron Probe Micro Analysis (EPMA)를 이용하여 결정 내에 Er의 분포를 확인하였다.
메톡시폴리에틸렌글리콜모노메타크릴레이트(MPEGMAA)와 메타크릴산(MAA)을 공중합시킨 폴리카복실레이트계 고유동화제(PCA)의 그라프트 사슬인 폴리에틸렌옥사이드(PEO)의 길이가 다를 경우, 보통포틀랜드시멘트(OPC)의 수화 반응에 미치는 영향을 Fourier Transform Infrared Spectroscopy(FT-IR), X-Ray Diffraction(XRD)과 Differential Scanning Calorimetry (DSC)를 이용하여 조사하였다. PCA의 그라프트 사슬의 길이에 따라 초기 재령에서 수화 반응에 미치는 영향은 달라지나, 장기 재령에서는 큰 차이가 없었다. 또한 PCA가 첨가된 경우의 Ca(OH)$_2$의 상대 피크 강도의 비(I[001]/I[101])는 OPC에 비해 감소하였다.
We studied optical properties of SiON thin-film in the applications of optical waveguide. SiON thin-film was grown in $300^{\circ}C$ by PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition) system. The change of SiON thin-film composition and refractive Index was studied as a function of varying $NH_3$ gas flow rate. As $NH_3$ gas flow rate was increased, Quantity of N and refractive index were increased at the same time. By the results, we could form the SiON thin-film to use of a waveguide with refractive index of 1.6. We analyzed the conditions of the thin-film with FTIR(fourier transform infrared) and OES (optical emission spectroscopy). N-H bonding($3390cm^{-1}$ ) can be removed by thermal annealing. And we could observe the SiH bonding state and quantity by OES analysis in $SiH_4$
반도체 소자를 취급하는 반도체 산업은 여러 산업 중에서도 부가가치율이 높은 것의 하나이다. 반도체 공정은 산화막과 질화막은 각각 다양한 두께와 방법으로 제조되고 있으며 CVD, PEALD 이용한 증착 공정을 기반으로 하고 있다. 하지만 양산에서의 많은 문제 요소를 가지고 있다. 첫째, 양적인 실시간과 전구체의 정상상태를 확인 할 수 없으므로 인한 질 적인 저하등을 요소를 가지고 있으며 둘째, 양산 후 남은 전구체를 외관상의 변색, 점도 변화를 통해 변질을 확인하고 전구체를 교체함으로써 엄청난 경제적인 손실과 안정적인 공급에 어려움이 있다. 그러므로 본 연구에서는 reference 전구체와 공정에서 사용된 전구체를 이용하여 Vapor Pressure 측정과 FT-IR (Fourier transform-infrared), QMS을 이용하여 개발된 전구체의 기상 안정성 및 반응성을 실시간으로 진단하여 기존의 전구체와의 차별성을 확인하고 우수한 전구체를 선별하기 위한 연구를 진행하였다. 또한 변화에서의 분자 상태 변형을 진담함으로 인해 기업의 양산의 경제적인 손실을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 성장 조건에 따라 전구체 박막 특성을 논의 할 수 있을 것이다.
The objective of this study was to investigate Fourier transform infrared (FT-IR) spectrometry and the X-ray diffraction (XRD) characterization of melanoidins formed from glucose and fructose with amino acid enantiomers in the Maillard reaction. Before dialysis, FT-IR spectroscopy of all the samples showed that the characteristic absorption intensities appeared as a broad and intense band of the stretching vibration of the -OH group at 3,400/cm for a high pH. The absorption bands of the melanoidins sharply decreased in intensity after dialysis as compared to those before dialysis. In particular, the absorption bands at 992 and 575/cm disappeared. The XRD confirmed that the crystal structure of the melanoidins disappeared after dialysis and a new crystal structure was formed at 9 and $28^{\circ}$ ($2{\theta}$. In particular, broad diffraction peaks were formed in the $10-21^{\circ}$ ($2{\theta}$) range for a high pH, while other sharp diffraction peaks disappeared.
몇 가지 금속 산화물에 플루오르르 치환된 카르복시산의 자기조립박막을 제조하였다. 사슬 길이의 영향을 비교하기 위하여 퍼플루오르도테칸 산과 퍼플루오르옥타데칸 산을 사용하였다. 사용된 금속 산화물은 알루미나, 탄탈리아, 티타니아, 지르코니아였다. 자기조립박막의 형성은 DRIFT (Diffuse Reflectance Infrared Fourier Transform) 분광법으로 확인하였다. 퍼플루오르탄화수소는 소수성을 가지므로 형성된 자기조립박막도 소수성을 지닐 것으로 예측된다. 형성된 자기조립박막의 DRIFT 스펙트럼의 품질은 금속산화물의 성분 원소뿐만 아니라 분말으 크기에 따라서도 달라졌다.
In-mold decoration 포일의 경질 코팅 층에 사용하는 수지를 대상으로 전자빔(electron beam, EB) 경화에 관한 연구를 수행하였다. 시료에 다른 양의 EB를 조사하고 경화 반응 정도를 Fourier transform infrared(FTIR) spectroscopy를 사용하여 관찰하였다. EB 조사선량 증가에 따른 코팅 물성의 변화를 표면 경도와 내마모성을 중심으로 알아보았다. 또한 나노 입자 첨가가 코팅 물성에 미치는 영향을 조사하였다. 본 연구로부터 얻은 실험적 결과는 자외선(ultraviolet, UV) 경화 시스템과 유사한 EB 경화 시스템의 상업적 개발에 이용될 수 있을 것으로 기대된다.
Kim, Hoonbae;Oh, Hyojin;Lee, Chaemin;Jung, Donggeun;Boo, Jin-Hyo
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제35권10호
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pp.2941-2944
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2014
The electrical and mechanical properties of the plasma polymerized low dielectric constant SiCOH films were investigated. The SiCOH films were produced with tetrakis(trimethylsilyloxy)silane and cyclohexane as precursors by using a plasma enhanced chemical vapor deposition. When the deposition plasma powers were changed from 10 to 50 W, the relative dielectric constant of the SiCOH film increased from 2.09 to 2.76 and their hardness and elastic modulus were changed from 1.6 to 5.6 GPa and from 16 to 44 GPa, respectively. After thermal annealing at $500^{\circ}C$, the annealed SiCOH films showed relative dielectric constants of 1.80-2.97, a hardness of 0.45-0.6 GPa and an elastic modulus of 6-7 GPa. And then, the chemical structures of as-deposited and annealed SiCOH films were analyzed by using Fourier transform infrared spectroscopy.
PURPOSE. The aim of the present study was to determine the degree of conversion of light- and dual-cured resin cements used in the cementation of all-ceramic restorations under different thicknesses of translucent (T) and high-translucent (HT) polymer-infiltrated ceramic-network (PICN) material. MATERIALS AND METHODS. T and HT PICN blocks were prepared at 0.5, 1.0, 1.5, and 2.0 mm thicknesses (n=80). Resin cement samples were prepared with a diameter of 6 mm and a thickness of 100 ㎛. Light-cured resin cement was polymerized for 30 seconds, and dual-cure resin cement was polymerized for 20 seconds (n=180). Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) was used for degree of conversion measurements. The obtained data were analyzed with ANOVA and Tukey HSD, and independent t-test. RESULTS. As a result of FTIR analysis, the degree of conversion of the light-cured resin cement prepared under 1.5- and 2.0-mm-thick T and HT ceramics was found to be lower than that of the control group. Regarding the degree of conversion of the dual-cured resin cement group, there was no significant difference from the control group. CONCLUSION. Within the limitation of present study, it can be concluded that using of dual cure resin cement can be suggested for cementation of PICN material, especially for thicknesses of 1.5 mm and above.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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