Fused deposition modelling(FDM) is a rapid prototyping(RP) process that fabricates part layer by layer by deposition of molten thermoplastic material extrude from a nozzle. RP system has many benefit. One of the benefit would be the ability to experiment with physical objects of any complexity in a relatively short period of time. But it has a matter of surface roughness and geometric accuracy. We study on Influence of tangent line angle on surface roughness at fused deposition
Physical, electrical and optical properties of Aluminum(Al) thin films were investigated in order to establish the optimum sputtering parameters in mirror reflection films. Al. thin films deposited on corning glass substrate by DC magnetron sputtering were grown as a variation of the input power, operation pressure and deposition time. The properties of the Al thin films have been discussed by deposition rate, SEM, XRD, sheet resistivity, resistivity and reflectance. Al thin films were obtained at the deposition conditions as follows: operating pressure, 3 mtorr; DC input power desnsitiy, 3W/$\textrm{cm}^2$.
A study of aerosol dynamics has been done to obtain axially and radially varying size distributions of particles generated in the Modified Chemical Vapor Deposition process. Heat and mass transfer have also been studied since particle generation and deposition strongly depend on the temperature field in a tube. Bimodal size distributions of particles have been obtained both in the particulate flow and in the deposited particle layer for the first time using the sectional method to solve aerosol dynamics. Variations of geometric mean diameter, geometric standard deviation have been studied for various parameters; flow rates and maximum wall temperature. The comparison between one-dimensional and two-dimensional approaches has also been made.
Transparent conductive oxides (TCO) are necessary as front electrode for most thin film solar cell. In our paper, transparent conducting aluminum-doped Zinc oxide films (ZnO:Al) were prepared by rf magnetron sputtering on glass (Corning 1737) substrate as a variation of the deposition condition. After deposition, the smooth ZnO:Al films were etched in diluted HCI (0.5%) to examine the electrical and surface morphology properties as a variation of the time. The most important deposition condition of surface-textured ZnO films by chemical etching is the processing pressure md the substrate temperature. In low pressures (0.9mTorr) and high substrate temperatures ($\leq$$300^{\circ}C$), the surface morphology of films exhibits a more dense and compact film structure with effective light-trapping to apply the silicon thin film solar cells.
ZnO thin films were deposited at different repetition rates of 5 Hz and 10 Hz by pulsed laser deposition. X-ray diffraction (XRD) full widths at half maximum (FWHMs) of (002) ZnO peak in ZnO thin film deposited at 5 Hz and 10 Hz was 0.22 and $0.26^{\circ}$, respectively. The grain size of ZnO thin film deposited at 5 Hz was larger than that of 10 Hz. The variation of repetition rates did not have an effect on the optical property of ZnO thin films. The degradation of the crystalline quality and surface morphology in ZnO thin film deposited at 10 Hz resulted from supersaturation effect by decrease of time interval between a ZnO particle arriving on a substrate by laser shot and a ZnO particle arriving on a substrate by next laser shot.
Haider, Adawiya J.;Mousa, Ali M.;Al-Jawad, Selma M.H.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제8권4호
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pp.326-332
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2008
In this work CdS films were prepared by using chemical bath deposition, which is simple and inexpensive technique suitable for large deposition area. Annealing in air at different temperatures (300, 350, 400, 450 and $500^{\circ}C$) at constant time of 30 min, also for different times (15, 30, 45, 60 and 90 min) at constant temperature ($300^{\circ}C$) is achieved. X-Ray analysis has confirmed the formation of cadmium oxide (CdO) with slight increase in grain size, shift towards lower scattering angle due to relaxation in the tensile strain for deposition films, and structure change from cubic and hexagonal to the hexagonal. From electrical properties, significant increase in electrical conductivity appeared in samples annealed at $300^{\circ}C$ for 60 min, and at $350^{\circ}C$ for 30 min.
We coated $TiO_2$ thin films on particles by a rotating cylindrical plasma chemical vapor deposition (PCVD) process and investigated the effects of various process variables on the morphology and growth of thin films. The polypropylene (PP) particles were rotated with the cylindrical PCVD reactor and they were coated with $TiO_2$ thin films uniformly by the deposition of thin mm precursors in the gas phase. The $TiO_2$ thin films were coated on the PP particles uniformly and the thickness of thin films almost proportional to the deposition time. The $TiO_2$ thin films grew more quickly on the PP particles with increasing rotation speed of the reactor. This study shows that a rotating cylindrical PCVD reactor can be a good method to coat high-quality $TiO_2$ thin films uniformly on particles.
Fused deposition modelling(FDM) is a rapid prototyping(RP) process that fabricates part layer by layer by deposition of molten thermoplastic material extrude from a nozzle. RP system has many benefit. One of the benefit would be the ability to experiment wiか physical objects of my complexity in a relatively short period of time. But it has a matter of surface roughness and geometric accuracy. We study on Influence of angle of tangent line and area error on sphere surface roughness at fused deposition.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.668-672
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2005
Doosan DND, OLED manufacturing equipment maker, has developed the largest deposition system to produce $730{\times}920mm$ size AMOLED devices for the first time in the world. It is necessary for producing 40" AMOLED panels to develop the large-scaled vacuum technologies including ICP plasma, stretching glass chuck, organic deposition, metal deposition and hybrid encapsulation processes.
Superconductor wire fabricated by electrophoresis showed its critical current density depended on parameters such as applied voltage and deposition time. Substrate and suspension solutions. and its properties are also important parameters. When same optimal parameter and condition was used, deposition density of superconductor film affect directly its critical current density. In this study, therefore, electrophoretic deposition technique was utilized for a densification of YBCO superconducting wire, and researches on electrophoretic suspension solutions and additive were experimentally performed for an improvement of the critical current density of fabricated electrophoretically superconducting wire. The samples fabricated in the solution with the additive, 8 vol.% of 1% PEG(1000), showed the highest critical current density.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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