• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제6권2호
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• pp.11-14
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• 2007

For the fabrication of blue color organic light emitting diodes(OLED) with a high performance, 2-TNATA [4,4',4"-tris (2-naphthylphenyl-phenylamino)-triphenylamine] as hole injection material and NPB [N,N'-bis (1-naphthyl) -N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine] as hole transport material were deposited on the ITO (indium tin oxide)/glass substrate by the vacuum thermal evaporation. After then, blue color emission layer was deposited using TPM-BiP[(4'-Benzoylferphenyl-4-yl)phenyl-methanone-Diethyl(biphenyl-4-ymethyl)phosphonate] and GDI602 as a light emitting organic material. Finally, the two kinds of OLEDs with the structure of $ITO/2-TNATA/NPB/TPM-BiP/Alq_3/LiF/Al and ITO/2-TNATA/NPB/GDI602/Alq_3/LiF/Al$ were prepared by in-situ deposition. The maximum current density and luminance were found to be about $588\;mA/cm^2\;and\;5239\;cd/m^2$ at 12V for the OLED sample with the structure of $ITO/2-TNATA/NPB/TPM-BiP/Alq_3/LiF/Al$. Color coordinate of blue OLED was x=0.18, y=0.18 (at llV) and the maximum current efficiency was 2.82 cd/A (at 6V) with the peak emission wavelength of 440 nm.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제6권2호
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• pp.19-23
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• 2007

The blue emitting OLEDs using TMP-BiP[(4'-Benzoylferphenyl-4-yl)phenyl-methanone-Diethyl(biphenyl-4-ymethyl) phosphonate] host and DJNBD-1 dopant have been fabricated and characterized. In the device fabrication, 2-TNATA [4,4',4"-tris(2-naphthylphenyl-phenylamino)-triphenylamine] as a hole injection material and NPB [N,N'-bis(1-naphthyl)N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine] as a hole transport material were deposited on the ITO(indium tin oxide)/glass substrate by vacuum thermal evaporation method. Followed by the deposition, blue color emission layer was deposited using TMP-BiP as a host material and DJNBD-1 as a dopant. Finally, small molecule OLEDs with structure of $ITO/2-TNATA/NPB/TMP-BiP:DJNBD-l/Alq_3/LiF/Al$ were obtained by in-situ deposition of $Alq_3$, LiF and Al as the electron transport material, electron injection material and cathode, respectively. The effect of dopant into host material of the blue OLEDs was studied. The blue OLEDs with DJNBD-1 dopant showed that the maximum current and luminance were found to be about 34 mA and $8110\;cd/m^2$ at 11 V, respectively. In addition, the color coordinate was x=0.17, y=0.17 in CIE color chart, and the peak emission wavelength was 440 nm. The maximum current efficiency of 2.15 cd/A at 7 V was obtained in this experiment.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제1권1호
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• pp.26-32
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• 1975

After a vital pulpotomy in dogs' teeth, the responses of the remaining pulp tissue under hydroxides (calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminium hydroxide and zinc hydroxide) were studied histologically. The class V cavities were prepared on the teeth and the pulp was amputated. Each hydroxide was placed over the amputated tissue and the cavity was sealed with zinc oxide eugenol cement. Animals were sacrificed after 3 days, 1, 2, and 3 weeks following the operation. The teeth were decalcified, sectioned and stained with hematoxylin and eosin. Microscopic examination reveals as follows; 1. Calcium hydroxide: Inflammatory change was seen in the superficial portion of the remaining pulp tissue at the 3rd day and 1st week. The incompleted calicified material began to be deposited from the canal wall at the 2nd week, and the advanced calcified material was seen at the 3rd week. 2. Magnesium hydroxide: Severe inflammatory change was seen in the superficial portion of the remaining pulp from the 3rd day and the 1st week samples. Inflammatory change was decreased at the 2nd week and the slight calcified material was deposited from the root canal at the 3rd week. 3. Aluminium hydroxide: Severe inflammatory changes were seen in the remaining pulp tissue, the blood vessel was dilated, and the odontoblasts were destroyed at the 3rd day and 1st week. The fibrous degeneration spread to the apex at the 2nd week. There was no evidence of newly formed odontoblasts or deposition of calcified material underneath aluminium hydroxide. 4. Zinc hydroxide: The micrscopic picture was destructive. A thick necrotic layer was found under the amputated surface at the 3rd day and 1st week. Granulation tissue formation as well as chronic inflammatory changes extended to the apical area in the pulp tissue. Also there were no sign of odontoblastic formation or calcified material at the 2nd and 3rd week.

• 마이크로전자및패키징학회지
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• 제12권2호
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• pp.129-134
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• 2005

SiP의 3D패키지에 있어서 구리도금은 매우 중요한 역할을 한다 이러한 구리 도금의 조건을 알아보기 위하여 조건이 다른 전해질에서 전기화학적 I-V특성을 분석하였다. 첨가제로 억제제와 촉진제의 특성을 분석하였다. 3D 패키지에 있어서 직경 50, 75, $100{\mu}m$의 via를 사용하였다. Via의 높이는 $100{\mu}m$로 동일하였다. Via의 내부는 확산방지층으로 Ta을 전도성 씨앗층으로 Cu를 magnetron 스퍼터링 방법으로 도포하였다. 직류, 펄스, 펄스-역펄스 등 전류의 파형을 변화시키면서 구리 도금을 하였다. 직류만 사용하였을 경우에는 결함 없이 via가 채워지지 않았으며 펄스도금을 한 경우 구리 충진이 개선을 되었으나 결함이 발생하였다. 펄스-역펄스를 사용한 경우 결함 없는 구리 충진층을 얻을 수 있었다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제38권7호
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• pp.513-519
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• 2001

Si 과다 텅스텐 실리사이드를 초미세 MOS 소자의 대체 게이트 전극으로 제안하였다. SiO₂위에 텅스텐 실리사이드를 직접 증착하고 급속 열처리를 수행한 결과 낮은 저항을 얻고 불소(F) 확산 또한 무시할 수 있음을 확인하였다. 특히, 800 ℃, 진공 분위기에서 3분간 급속 열처리한 텅스텐 실리사이드의 경우 비저항이 ∼160 μΩ·cm이었고, 불소확산에 의한 산화막의 불균일한 성장도 발견할 수 없었다. 또한, WSix-SiO₂-Si (MOS) 캐패시터의 전기적 특성 분석 결과도 우수하였다.

• 한국자기학회지
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• 제8권4호
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• pp.224-230
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• 1998

보자력의 차이를 나타내는 두 자성층으로 구성된 거대자기저항 스핀밸브 삼층박막의 자기저항곡선과 자기이력 곡선을 단층박막으로 형성된 자성층의 자기이력곡선을 이용하여 용이학게 해석되는 방법을 제시하고, 삼층박막의 자기저항 특성과 삼층박막을 이루는 각 자성층의 자기적 특성과의 관계를 고찰하였다. 4$^{\circ}$ 기울어진 Si(111) 기판과 유리 기판 위에 NiFe/Cu/Co 삼층박막을 형성하여 일축자기이방성의 존재 유무에 따른 2가지 경우에 대해, 스핀밸브 삼층박막의 측정된 자기이력 및 자기저항곡선을 단층박막으로 형성된 NiFe, Co의 자기이력곡선으로부터 계산된 곡선과 비교하였다. 거대자기저항을 나타내는 NiFe/Cu/Co 스핀밸브 삼층박막의 자기이력곡선은 동일한 기판 위에 형성된 NiFe, Co 단층박막의 자기이역곡선을 합성한 곡선과 일치하였으며, 자기저항곡선 또한 각 단층박막의 자기이력곡선에 단지이력곡선에 단자구 모델과 다자구 모델을 적용하여 모사된 곡선으로 이해될 수 있었다. 이는 스핀밸브 삼층단막을 다양한 응용 분야에 적용시 각 응용에 필요한 자기저항 특성을 얻는에 유용한 것으로 사료된다.

• 한국재료학회지
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• 제10권11호
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• pp.749-764
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• 2000

약 90 nm 두께의 비정질 TaSiN박막을 poly-Si and $SiO_2/Si$ 기판 위에 rf magnetron sputtering법으로 증착하였다. TaSiN박막은 산소부위기에서 열처리 시 $ 900^{\circ}C$까지 결정화되지 않는 비정질 상을 보였다. 산소의 확산 깊이는 산소분위기 열처리 온도가 증가함에 따라 증가하였으며 $650^{\circ}C$, 30분 열처리시 $Ta_{23}Si_{29}N_{48}$의 경우 약 20 nm의 깊이까지 확산되었다. $Ta_{23}Si_{29}N_{48}$ 박막의 증착 후 비저항은 약 $1,300{\mu}{\Omega}-cm$의 값을 보였지만 산소분위기 열처리시 $700^{\circ}C$ 이상에서 급격히 증가하였다.

• 한국세라믹학회지
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• 제35권8호
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• pp.871-877
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• 1998

Cu-In 금속증을 증착한 뒤, 이를 selenization하는 이단계 방법에 의하여 $CuInSe_2$ 박막을 형성하였다. CuIn 금속층은 co-sputtering 방법을 이용하여 상온에서 증착하였다. $Cu_{11}In_{9}$ 상과 $CuIn_2$ 상이 공존하였고, Cu의 양이 증가할 수록 $Cu_{11}In_{9}$ 상이 많이 존재하였다. Selenization은 진공과 상압의 두가지 조건에서 증착하였다. 상압하에서 증착할 때보다 진공중에서 증착할 때, 더 소수의 화합물만을 형성하고 낮은 온도에서 $CuInSe_2$ 단일상을 형성하였다. 이로인해 진공중에서 증착하였을 때 표면 거칠기가 적고 입자가 크며 결정성이 좋은 $CuInSe_2$ 박막을 얻을 수 있었다.

• 센서학회지
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• 제5권3호
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• pp.41-48
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• 1996

SOx 가스를 고감도로 감지할 수 있는 SAW 가스 센서를 개발하였다. 이는 SAW device 위에 SOx 가스에 감응하는 재료를 박막으로 증착함으로써 고감도의 마이크로 센서형으로 한 것이다. SOx 감응 재료로서 CdS를 선정하였으며, 이를 SAW device 위에 박막화하기 위해 초음파 분무 노즐을 이용한 분무 열분해의 박막 증착공정을 응용하였다. 초음파 분무 노즐을 통하여 생성된 균일하고 미세한 입자들은 기판위에서 안정한 열분해 환경을 조성함으로써 센서 감응막을 위한 넓은 표면적의 박막을 증착 시켰는데 기판의 온도는 $300^{\circ}C$ 내외에서 최소 50 nm수준의 결정립의 박막을 얻었다. 이렇게 하여 얻은 SAW 가스 센서는 $SO_{2}$ 가스에 감응하였으며 재현성도 보였다. 다른 가스의 존재하에서 $SO_{2}$ 가스에 대한 선택성에 관하여는 계속적인 연구가 필요하다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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• pp.430-430
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• 2007

In this study, the nematic liquid crystal (NLC) alignment effects treated on the ZnO thin film layers using ion beam irradiation were successfully studied for the first time. The ZnO thin films were deposited on indium-tin-oxide (ITO) coated glass substrates by rf-sputter and The ZnO thin films were deposited at the three kinds of rf power. The used DuoPIGatron type ion beam system, which can be advantageous in a large area with high density plasma generation. The ion beam parameters were as follows: energy of 1800 eV, exposure time of 1 min and ion beam current of $4\;mA/cm^2$ at exposure angles of $15^{\circ}$, $30^{\circ}$, $45^{\circ}$, and $60^{\circ}$. The homogeneous and homeotropic LC aligning capabilities treated on the ZnO thin film surface with ion beam exposure of $45^{\circ}$ for 1 min can be achieved. The low pretilt angle for a NLC treated on the ZnO thin film surface with ion beam irradiation for all incident angles was measured. The good LC alignment treated on the ZnO thin film with ion beam exposure at rf power of 150 W can be measure. For identifying surfaces topography of the ZnO thin films, atomic force microscopy (AFM) was introduced. After ion beam irradiation, test samples were fabricated in an anti-parallel configuration with a cell gap of $60{\mu}m$.