$CF_4$ /Ar 가스 플라즈마를 이용한 $YMnO_3$ 박막의 식각 반응연구
(Etching Mechanism of $YMnO_3$ Thin Films in High Density $CF_4$ /Ar Plasma)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제14권12호
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- pp.959-964
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- 2001