The surface phase changes, the hardness variations, the nitrogen contents and the corrosion resistances of 17-4 PH stainless steel have been investigated after nitrogen permeation(solution nitriding) at a temperature ranges from $1050^{\circ}C$ to $1150^{\circ}C$ The phases appeared at the nitrogen-permeated surface layer were shown to martensite plus austenite and austenite, depending on the variation of nitrogen and chromium contents. And the surface hardness was also depended on the phases appeared at the surface layer from 370 Hv to 220 Hv. The precipitates exhibited at the nitrogen-permeated surface layer were niobium nitride, niobium chromium nitride and carbo-nitride in the austenite and martensite matrices. The surface nitrogen contents were followed by the Cr contents of the surface layers, representing 0.55% at the temperatures of $1050^{\circ}C$ and $1150^{\circ}C$ respectively, and 0.96% at $1100^{\circ}C$ at the distances of $60{\mu}m$ from the outmost surface. From the comparison of the corrosion resistances between nitrogen-permeated and solution-annealed steels, nitrogen permeation remarkably improved the corrosion resistance in the solution of 1 N $H_2SO_4$ due to the increase of nitrogen content in the surface austenite phase.
This study has investigated the surface phase change, hardness variation, surface precipitates, nitrogen content and corrosion resistance in STS 431 (17Cr-2Ni-0.2C-0.01Nb) martensitic stainless steel after high temperature gas nitriding (HTGN) treatment at the temperature range between $1050^{\circ}C$ and $1150^{\circ}C$. The HTGN-treated surface layer appeared $Cr_2N$ of rod type, carbo-nitride of round type and fine precipitates in the austenite matrix. On the other hand the interior region where the nitrogen was not permeated, exhibited martensite phase. The surface hardness showed 250~590 HV, depending on the HTGN treatment conditions, while the interior martensitic phase represented 520 HV. The permeation depth of nitrogen increased with increasing the HTGN-treated temperature. The nitrogen concentration of the surface layer appeared approximately ~0.17% at $1100^{\circ}C$. On comparing the corrosion resistance between solution-annealed and HTGN-treated steels, the corrosion resistance of HTGN-treated steel was superior to that of solution-annealed specimens.
Effects of boron and carbon on the densification and thermal decomposition of an AlN-SiC-$TiB_2$ system were investigated. $SiO_2$ was mostly removed by the addition of carbon, while $Al_2O_3$ formed $Al_4O_4C$ and promoted the densification of the systems above $1850^{\circ}C$. Rather porous specimens were obtained without the additives after hot pressing at $2100^{\circ}C$, while densification was mostly completed at $2000^{\circ}C$ by using the additives. The sintering temperature decreased further to $1950^{\circ}C$ by applying spark plasma sintering. The additives promoted the shrinkage of AlN by forming a liquid phase which was originated from the carbo- and boro-thermal reduction of $Al_2O_3$ and AlN.
$\beta$-Sialon is synthesized by carbo-thermal reduction and nitriding (CTRN) method, using the Fly ash from power plant. $\beta$-Siaion is synthesized at $1,450^{\circ}C$ for 10 hours, and sintered at $1,550 ^{\circ}C$ for 3 hours in nitrogen atmosphere. The XRD analytical results show that the sintered $\beta$-Sialon contains $SiO_2$ and $FeSi_{x}$ of inter-metallic compound. The sintered $\beta$-Sialon is stable against the oxidation at the temperature of 1,31$0^{\circ}C$ for 20 hours. The weight of the sample increases rapidly by oxidation reaction at $1,360^{\circ}C$. The oxide scale is consisted with mullite phase when it is oxidized at the temperature of $1,360 ^{\circ}C$ for 10 hours.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.11a
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pp.24.1-24.1
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2009
Tantalum carbo-nitride($T_aC_xN_y$) films were deposited with chemical vapor deposition(CVD) using tert-butylimido tris-diethylamido tantalum (TBTDET, $^tBu-N=Ta-(NEt_2)_3$, $Et=C_2H_5$, $^tBu=C(CH_3)_3$) between $350^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$ with argon as a carrier gas. Fourier transform infrared (FT-IR)spectroscopy was used to study the thermal decomposition behavior of TBTDET in the gas phase. When the temperature was increased, C-H and C-N bonding of TBTDET disappeared and the peaks of ethylene appeared above $450^{\circ}C$ in the gas phase. The growth rate and film density of $T_aC_xN_y$ film were in the range of 0.1nm/min to 1.30nm/min and of $8.92g/cm^3$ to $10.6g/cm^3$ depending on the deposition temperature. $T_aC_xN_y$ films deposited below $400^{\circ}C$ were amorphous and became polycrystal line above $500^{\circ}C$. It was confirmed that the $T_aC_xN_y$ film was a mixture of TaC, graphite, $Ta_3N_5$, TaN, and $Ta_2O_5$ phases and the oxide phase was formed from the post deposition oxygen uptake. With the increase of the deposition temperature, the TaN phase was increased over TaC and $Ta_3N_5$ and crystallinity, work function, conductivity and density of the film were increased. Also the oxygen uptake was decreased due to the increase of the film density. With the increase of the TaC phase in $T_aC_xN_y$ film, the work function was decreased to 4.25eV and with the increase of the TaN phase in $T_aC_xN_y$ film,it was increased to 4.48eV.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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