Co/Ti Bilayer Silicidation on the $\textrm{p}^{+}$ -Si Region Implanted with High Dose of $\textrm{BF}_2$
($\textrm{BF}_2$ 가 고농도로 이온주입된 $\textrm{p}^{+}$ -Si 영역상에 Co/Ti 이중막 실리사이드의 형성)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.9 no.2
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- pp.168-172
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- 1999