최근 전자제품들의 소형화, 경량화, 다기능화가 활발히 진행됨에 따라, 고성능의 고출력용 인쇄회로기판(PCB)의 개발이 요구되고 있다. PCB는 전자제품의 각 부품을 전기적으로 연결하는 통로로서 전자제품의 소형화, 다기능화에 따라 고집적화가 요구되고 있다. 하지만 모든 전자장비의 고장의 85% 정도가 발열에 의한 것으로, PCB의 고집적화에 따른 발열문제가 매우 중요한 이슈가 되고 있다. 최근에는 이러한 문제점을 해결하기 위해 PCB의 방열층으로 양극 산화막을 금속 기판 위에 형성하고 이 절연층 위에 금속층을 회로로서 형성하는 방열 PCB 기판에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 최근까지, 금속층 회로 형성을 위해 무전해 Ni 도금에 대한 연구가 활발히 이루어져 왔다. 하지만 주로 화학적, 전기화학적 관점에서 많은 연구자들에 의해 조사 연구되어 왔다. 본 실험에서는 anodized Al 절연층 위의 회로전극 부분으로 스크린 방법으로 Ag paste를 패턴 인쇄한 뒤, 무전해도금 방식으로 저렴한 Ni 전면 회로전극을 형성하여 전기전도도를 높이고, 저항을 낮출 수 있는 회로로서 기판의 손상을 최소화하고 선택적으로 Ag 패턴에만 Ni 전극회로를 형성시키는 것을 목표로 연구하였다. Ni-B 무전해 도금시 도금조의 온도는 $65^{\circ}C$, 무전해 도금액의 pH는 ~7 (중성)로 유지하였다. Al2O3 기판을 이용한 Ag Paste 패턴 위에 증착된 Ni-B 박막의 특성을 분석하기 위해 X-ray diffraction (XRD), AFM (Atomic Force Microscopy), SEM (Scanning Electron Microscope), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)을 이용하여 Ni-B 박막의 특성을 분석하였다.
CrN 박막이 펄스마그네트론증착법에 의하여 glass, Si(110), AISI 1040 steel 위에 증착되어졌다. 각 기판 위에 증착된 CrN 박막의 구조는 표면의 접촉특성 보다는 표면의 구조에 영향을 받는 것으로 판단되어 진다. 또한 grain의 크기는 기판에 관계없이 증착 시간이 증가함에 따라 증가한다. AISI 1040 steel 위에 증착된 CrN 박막의 grain 성장과 구조는 glass와 Si에 비하여 바이어스에 강하게 영향을 받는다. 이러한 결과는 glass 와 Si 보다도 금속이 높은 전기전도성을 가지고 있기 때문인 것으로 생각되어 진다.
Electroluminescent(EL) devices based on organic thin films have attracted lots of interests in large-area light-emitting display. One of the problems of such device is a lifetime, where a degradation of the cell is possibly due to an organic layers thickness, morphology and interface with electrode. In this study, light-omitting organic electroluminescent devices were fabricated using Alq$_3$(8-hydroxyquinolinate aluminum) and TPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl(1-1\`-biphenyl]-4,4'-diamine). Where Alq$_3$ is an electron-transport and emissive layer, TPD is a hole-transport layer. The cell structure is ITO/TPD/Alq$_3$/Al and the cell is fabricated by vacuum evaporation method. In a measurement of current-voltage characteristics, we obtained a turn-on voltage at about 9 V. We also investigated stability of the devices using buffer layer with blend of PEI (Poly ether imide) and TPD by varying mot ratios between ITO and Alq$_3$. In current-voltage characteristics measurement, we obtained the turn-on voltage at about 6 V and observed an anomalous behavior at 3∼4 V. And we used other buffer layer of PEDT(3,4-pyrazino-3',4'-ethylenedithio-2,2',5,5'-tetrathiafulvalenium) with ITO/PEDT/TPD/Alq$_3$Al structure. We observed a surface morphology by AFM(Atomic Force Microscopy), UV/visible absorption spectrum, and PL(Photoluminescence) spectrum. We obtained the UV/visible absorption peak at 358nm in TPD and at 359nm in Alq$_3$, and the PL peaks at 410nm in TPD and at 510nm in Alq$_3$. We also studied EL spectrum in the cell structure of ITO/(TPD+PEI)/Alq$_3$/Al.
Kim, Jeong-Ho;Kim, Tae-Hyung;Oh, Jung-Geun;Noh, Seok-Hwan;Lee, Jeong-Soo;Park, Kyu-Ho;Ha, Sam-Chul;Kang, Heon
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제30권11호
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pp.2589-2594
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2009
Aging phenomena of plasma polymer films were studied by using the surface analysis techniques of contact angle measurement, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOFSIMS), and atomic force microscopy (AFM). The polymer films were grown on an aluminum substrate by using a plasma polymerization method from a gas mixture of acetylene and helium, and the films were subsequently modified to have a hydrophilic surface by oxygen plasma treatment. Aging of the polymer films was examined by exposing the samples to water and air environments. The aging process increased the hydrophobicity of the surface, as revealed by an increase in the advancing contact angle of water. XPS analysis showed that the population of oxygen-containing polar groups increased due to the uptake of oxygen during the aging, whereas TOF-SIMS analysis revealed a decrease in the polar group population in the uppermost surface layer. The results suggest that the change in surface property from hydrophilic to hydrophobic nature results from the restructuring of polymer chains near the surface, rather than compositional change of the surface. Oxidative degradation may enhance the mobility and the restructuring process of polymer chains.
1-{2,4-Di-(2-hydroxyethoxy)phenyl}-2-(2-thienyl)ethene (5) was prepared and condensed with terephthaloyl chloride to yield polyester (6). Polymer 6 was reacted with tetracyanoethylene to give novel Y-type polyester (7) containing 1-(2,4-dioxyethoxy)phenyl-2-{5-(2,2,3-tricyanovinyl)-2-thienyl)}ethenyl groups as NLO-chromophores, which are parts the polymer backbones. Polymer 7 is soluble in common organic solvents such as acetone and N,N-dimethylformamide. It showed thermal stability up to 300 ${^{\circ}C}$ in thermogravimetric analysis with glasstransition temperature obtained from differential scanning calorimetry near 134 ${^{\circ}C}$. The second harmonic generation (SHG) coefficient ($d_33$) of poled polymer film at the 1560 nm fundamental wavelength was around 6.74 x $10^{-9}$ esu. The dipole alignment exhibited high thermal stability up to the glass-transition temperature ($Tg$), and there was no SHG decay below 135 ${^{\circ}C}$ because of the partial main-chain character of polymer structure, which is acceptable for NLO device applications.
The enantiomeric and racemic effects of tartaric acid (TA) on the properties of polysulfone (PSn) ultrafiltration membranes were studied in terms of morphology and hydrophilicity (HPCT) of membrane. Asymmetric membranes were prepared by direct blending of polyvinyl pyrrolidone (PVP) with D-TA and DL-TA in membrane casting solution. FTIR analysis was done for the confirmation of the reaction of PVP and TA in blended membranes and plain PSn membranes. Scanning electron microscope (SEM), field emission scanning electron microscope (FESEM) and atomic force microscopy (AFM) were used for analyzing the morphology and structure of the resulting membranes. The membranes were characterized in terms of pure water flux (PWF), hydraulic permeability and HPCT. PWF increased from $52L/m^2h$ to $79.9L/m^2h$ for plain and D-TA containing PSn membrane, respectively. Water contact angle also found to be decreased from $68^{\circ}$ to $55^{\circ}$. In Additionally, permeation and rejection behavior of prepared membranes was studied by bovine serum albumin (BSA) solution. A considerable increase in BSA flux (from $19.1L/m^2h$ for plain membrane to $32.1L/m^2h$ for D-TA containing membrane) was observed. FESEM images affirm that the pore size of the membranes decreases and the membrane permeability increases from 0.16 to 0.32 by the addition of D-TA in the membrane. D-TA increases the HPCT whereas; DL-TA decreases the HPCT of PSn membrane. PVP (average molecular weight of 40000 Da) with D-TA (1 wt%) gave best performance among all the membranes for each parameter.
XPS와 glancing angle XRD, AES 및 AFM을 사용하여 $330^{\circ}C$-$800^{\circ}C$사이의 진공분위기에서 열처리할 때, Co/Nb이중층과 $SiO_2$기판 사이의 계면반응을 조사하였다. $600^{\circ}C$에서 Co와 Nb는 서로 활발하게 확산하여, $700^{\circ}C$이상에서는 두 층사이의 충역전이 완전히 일어났다. 그 때 Nb 중간층과 $SiO_2$기판 사이의 반응에 의하여 계면에 일부 NbO가 형성되었으며, 표면에서는 분위기 중의 산소에 의하여 $Nb_2O_5$가 생성되었다. Nb와 기판간의 반응에 의하여 유리된 Si는 $600^{\circ}C$이상에서 잔류 Co 및 Nb와 반응하여 실리사이드를 형성하였다. Co/Nb 이중층 구조는 $800^{\circ}C$에서 열처리한 후 면저항이 급증하기 시작하였는데, 이것은 Co층이 기판과 바로 접하게 되어 계면에너지를 줄이기 위해 응집되기 때문이다.
In Liquid Crystal Display (LCD) manufacturing, the organic over coat materials over coat materials for insulation layer of color filter with acryl ate was widely used. Therefore, we approach that the organic overcoat material can use to insulation layer for color filter and liquid crystal (LC) alignment layer in this research. The LC aligning capabilities was successful stuided for the first time. The organic overcoat layer and polymer layer was coated by spin-coating. In order to characterize the LC alignment, electric optic and residual DC and atomic force microscopy (AFM) image was used. The good LCD aligning capabilities treated on the organic overcoat thin film surfaces with ion beam exposure of $45^{\circ}$ above ion beam energy density of 1200 eV can be achieved. Also the good LCD alignment capabilities treated polymer on surfaces with ion beam exposure of $45^{\circ}$ above ion beam energy density of 1800 eV can be achieved. Comparing electro-optical characteristics between the Polyimide (PI) and the overcoat, the resultant transmittance of the overcoat considerably matched that of the PI and the residual DC also exhibited similar features with the PI.
본 논문에서는 DLC (Diamond-like carbon)박막이 가지는 높은 경도, 낮은 마찰계수, 전기적 절연성, 화학적 안정성 등의 특성을 이용하여, 리소그래피를 위한 resist나 hard coating물질로써 응용하기 위해, DLC 박막의 에칭에 관한 연구를 진행하였다. DLC 박막의 합성 과 에칭은 13.56 MHz RF plasma enhanced vapor deposition technique를 통해 이루어졌으며, DLC 박막은 150 W의 RF Power에서 메탄 $(CH_4)$과 수소$(H_2)$ 가스를 이용하여 약 300 nm의 두께로 제작되었으며, DLC박막의 에칭은 RF power의 변화 (50~250 W)와 산소 $(O_2)$가스의 유량변화 (5~25 sccm)에 따라 실시하였다. 에칭 되어진 DLC 박막의 표면 특성들은 AFM (atomic force microscopy)과 contact angle 장치를 사용하여 측정되었고, 측정된 결과로써 DLC 박막은 RF power와 산소 가스의 유량이 높을수록 etching rate는 증가하였고, 박막의 표면은 거칠어졌으며, 결국 DLC 표면에서는 산소에 의한 결합의 증가로 인해 친수성을 나타내었다.
In this study, the nematic liquid crystal (NLC) alignment effects treated on the ZnO thin film layers using ion beam irradiation were successfully studied for the first time. The ZnO thin films were deposited on indium-tin-oxide (ITO) coated glass substrates by rf-sputter and The ZnO thin films were deposited at the three kinds of rf power. The used DuoPIGatron type ion beam system, which can be advantageous in a large area with high density plasma generation. The ion beam parameters were as follows: energy of 1800 eV, exposure time of 1 min and ion beam current of $4\;mA/cm^2$ at exposure angles of $15^{\circ}$, $30^{\circ}$, $45^{\circ}$, and $60^{\circ}$. The homogeneous and homeotropic LC aligning capabilities treated on the ZnO thin film surface with ion beam exposure of $45^{\circ}$ for 1 min can be achieved. The low pretilt angle for a NLC treated on the ZnO thin film surface with ion beam irradiation for all incident angles was measured. The good LC alignment treated on the ZnO thin film with ion beam exposure at rf power of 150 W can be measure. For identifying surfaces topography of the ZnO thin films, atomic force microscopy (AFM) was introduced. After ion beam irradiation, test samples were fabricated in an anti-parallel configuration with a cell gap of $60{\mu}m$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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