• 제목/요약/키워드: ZnO/Si

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졸-겔법엔 의한 단분산 $SiO_2/ZnO$ 복합미립자의 졔조 (Preparation of Monodispersed $SiO_2/ZnO$ Composite Fine Powders by Sol-Gel Method)

  • 이창우;심원;함영민;허윤행
    • 환경위생공학
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    • 제13권3호
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    • pp.58-65
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    • 1998
  • Monodispersed $SiO_2/ZnO$ composite fine powders were prepared by Sol-Gel processing and their surface electrical and UV absorbance properties were investigated. Pseudomorph ZnO fine powders were microcapsuled by $SiO_2/ZnO$ sol fabricated using TEOS[tetraethylorthosilicate, purity 98% and ethanol as a solvent with $NH_3$ catalyst. The effects of experimental parameters such as molar ratio of starting materials on the final particle size and shape of $SiO_2/ZnO$ composite fine powder were discussed. As a result, we could controlled the size of monodispersed $SiO_2/ZnO$ composite fine powders without agglomeration, as well as the good dispersibility in aquous solution. The prepared powders were observed to have the mean particle sizes of $0.26-0.78{\mu}m$ with standard deviations of $0.020-0.063{\mu}m$.

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전기화학증착법으로 성장된 n-ZnO 나노구조/p-Si 기판의 특성연구

  • 김명섭;이희관;유재수
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.102-102
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    • 2011
  • ZnO는 우수한 전기적, 광학적 특성으로 LED, solar cell 등과 같은 광전자소자의 응용을 목적으로 많은 연구가 진행되고 있다. 최근에는 ZnO 동종접합을 만들고자 많은 연구가 진행되고 있으나 p형 ZnO의 낮은 용해성과 높은 불순물에 따른 제조의 어려움으로 현재까지는 n형 ZnO만이 전도성 기판 위에 성장되어 응용되고 있다. 전도성 기판으로서 Si의 경우 낮은 가격, 공정의 용이함 등으로 GaN, SiC 등의 기판에 비하여 많은 응용이 가능하다. 따라서 본 연구에서는 전기화학증착법을 이용하여 p-n 접합을 형성하기 위하여 p형 Si 기판 위에 n형 ZnO 나노구조를 성장하고 그 특성을 분석하였다. 전기화학증착법은 낮은 온도 및 간단한 공정과정으로 빠른 성장 속도를 가지고 나노구조를 효과적으로 성장할 수 있는 방식이다. Seed 층 및 열처리에 따른 n형 ZnO 나노구조의 성장 특성 분석을 위하여 radio frequency (RF) magnetron 스퍼터를 사용하여 ZnO 및 Al doped ZnO (AZO) seed 층을 p형 Si 기판 위에 증착 후 다양한 온도로 열처리를 수행하였다. 질산아연(zinc nitrate)과 HMT가 희석된 용액에 KCl 촉매를 일정량 첨가한 후 다양한 공정 온도, 공정시간 및 질산아연의 몰농도를 변화시켜 n형 ZnO 나노구조를 성장하였다. 성장된 나노구조의 특성은 field emission scanning microscopy (FE-SEM), energy dispersive X-ray (EDX), photoluminescence (PL) 등의 장비를 사용하여 구조적, 광학적 특성을 분석하였다.

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Growth Behavior of Ga-Doped ZnO Thin Films on Au/SiNx/Si(001) Substrate Grown by RF Sputtering

  • 김주현;이무성;강현철
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.463-463
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    • 2013
  • This paper reports the synthesis and characterization of ZnO:Ga nano-structures deposited on Au/SiNx/Si(001) by radio-frequency sputtering. The effect of the temperature on the microstructure of the as-grown ZnO:Ga thin films was examined. The growth mode of ZnO:Ga nano-structures can be explained by the profile coating, i.e. the ZnO nano-structures were formed with a morphological replica of Au seeds. Initially, the ZnO:Ga nano-structures were overgrown on top of Au nano-crystals. Small ZnO:Ga nano-dots were then nucleated on hexagonal ZnO:Ga discs.

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Metalorganic chemical vapor deposition of semiconducting ZnO thin films and nanostructures

  • Kim Sang-Woo
    • 한국결정성장학회지
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    • 제16권1호
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    • pp.12-19
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    • 2006
  • Metalorganic chemical vapor deposition (MOCYD) techniques have been applied to fabricate semiconducting ZnO thin films and nanostructures, which are promising for novel optoelectronic device applications using their unique multifunctional properties. The growth and characterization of ZnO thin films on Si and $SiO_2$ substrates by MOCYD as fundamental study to realize ZnO nanostructures was carried out. The precise control of initial nucleation processes was found to be a key issue for realizing high quality epitaxial layers on the substrates. In addition, fabrication and characterization of ZnO nanodots with low-dimensional characteristics have been investigated to establish nanostructure blocks for ZnO-based nanoscale device application. Systematic realization of self- and artificially-controlled ZnO nanodots on $SiO_2/Si$ substrates was proposed and successfully demonstrated utilizing MOCYD in addition with a focused ion beam technique.

$(Zn_{1-x}Mg_x)_2SiO_4$:Mn 형광체의 제조와 발광특성 (Preparation and Luminescent properties of $(Zn_{1-x}Mg_x)_2SiO_4$:Mn phosphors)

  • 이지영;유일
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.392-393
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    • 2007
  • PDP용 녹색 $Zn_2SiO_4$:Mn 형광체의 발광특성과 결정성을 향상시키기 위해 co-dopant로 Mg를 첨가한 $(Zn_{1-x}Mg_x)_2SiO_4$:Mn 형광체를 합성하였다. 합성된 형광체의 발광특성을 PL로 조사한 결과, $Zn_2SiO_4$:Mn 형광체는 Mg의 농도에 관계없이 530nm에서 녹색 발광을 하였고, Mg의 농도가 0.5 mol%일 때 가장 높은 발광세기가 나타났다. 이것은 Zn과 이온반경이 비슷한 Mg가 치환되어 모체에서의 Mn으로의 에너지 전이가 증가하여 발광세기가 증가한 것으로 생각된다.

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Crystallographic Characteristics of ZnO Films Deposited on SiO$_2$/Si Substrate

  • Park, H.D.;Kim, K.S.;Lee, C.S.;Kim, J.W.;Han, B.M.;Kim, S.Y.
    • 한국표면공학회지
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    • 제28권6호
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    • pp.386-392
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    • 1995
  • The RF planar magnetron sputtering technique was used to fabricate uniform ZnO/$SiO_2$/Si thin films at high growth rate. A detailed crystallographic character of these thin films has been carried oct using XRD, XRC, and SEM. These thin films have the configuration of c-axis orientation perpendicular to $SiO_2$/ Si substrate. The dependence of the thickness of ZnO/$SiO_2$/Si films on applied RF power parameters was also investigated. The crystallinity of films was improved as the substrate temperature was high, RF input power increased, and Ar/$O_2$ ratio decreased. Also, most of ZnO films fabricated on $SiO_2$/Si were suitable for SAW filter since a standard deviation of XRC (002) peak was less than $6^{\circ}$. The presence of the $SiO_2$ layer has a beneficial effect on the crystalline quality of the grown ZnO films.

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Zn2-2xSi1+xO4 세라믹스의 소결 및 마이크로파 유전 특성 (Sintering and Microwave Dielectric Properties of Zn2-2xSi1+xO4 Ceramics)

  • 윤상옥;김윤한;김소정;조소라;김신
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제28권7호
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    • pp.428-432
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    • 2015
  • Sintering and microwave dielectric properties of $Zn_{2-2x}Si_{1+x}O_4$ (x=0~0.10) ceramics were investigated. The secondary phase of ZnO was observed in the specimen for x=0 whereas $SiO_2$ was detected in that for x=0.05. The composition of $Zn_2SiO_4$ might be close to x=0.02, i.e., $Zn_{1.96}Si_{1.02}O_4$; the ratio of Zn/Si is 1.922. The insufficient grain growth was observed in the specimen of x=0. For the specimens of $x{\geq}0.05$, the grain growth sufficiently occurred through the liquid phase sintering. The value of quality factor of all specimens was dependent on the x value, i.e., the ratio of Zn/Si, whereas that of dielectric constant was independent. Relative density, dielectric constant, and quality factor ($Q{\times}f$) of the specimen for x=0.05, i.e., $Zn_{1.9}Si_{1.05}O_4$, sintered at $1,400^{\circ}C$ were 96.5%, 6.43, and 115,166 GHz, respectively.

ZnO-$B_2O_3-SiO_2$ 유리가 첨가된 $ZnAl_2O_4$의 저온 소결 및 마이크로파 유전 특성 (Low-temperature sintering and microwave dielectric properties of $ZnAl_2O_4$ with ZnO-$B_2O_3-SiO_2$ glass)

  • 김관수;윤상옥;김신;김윤한;이주식;김경미
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.265-265
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    • 2007
  • In the present work, we have studied low temperature sintering and microwave dielectric properties of $ZnAl_2O_4$-zinc borosilicate (ZBS, 65ZnO-$25B_2O_3-10SiO_2$) glass composites. The focus of this paper was on the improvement of sinterability, low dielectric constant, and on the theoretical proof regarding of microwave dielectric properties in $ZnAl_2O_4$-ZBS glass composites, respectively. The $ZnAl_2O_4$ with 60 vo1% ZBS glass ensured successful sintering below $900^{\circ}C$. It is considered that the non-reactive liquid phase sintering (NPLS) occurred. In addition, $ZnAl_2O_4$ was observed in the $ZnAl_2O_4$-(x)ZBS composites, indicating that there were no reactions between $ZnAl_2O_4$ and ZBS glass. $ZnB_2O_4\;and\;Zn_2SiO_4$ with the willemite structure as the secondary phase was observed in the all $ZnAl_2O_4$-(x)ZBScomposites. In terms of dielectric properties, the application of the $ZnAl_2O_4$-(x)ZBS composites sintered at $900^{\circ}C$ to LTCC substrate were shown to be appropriate; $ZnAl_2O_4$-60ZBS (${\varepsilon}_r$= 6.7, $Q{\times}f$ value= 13,000 GHz, ${\tau}_f$= -30 ppm/$^{\circ}C$). Also, in this work was possible theoretical proof regarding of microwave dielectric properties in $ZnAl_2O_4$-(x)ZBS composites.

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무기물 색변환층을 사용한 무기물/유기물 유기발광소자의 발광 메커니즘

  • 정환석;김석현;추동철;김태환;권명석
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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    • pp.122-122
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    • 2010
  • 백색 유기발광소자를 제작하기 위한 여러 가지 유기물층을 사용할 때 제작공정이 어려워지고 유기발광소자의 발광 효율이 저하되고 색안정성이 나빠지는 문제점이 있다. 본 논문에서는 Zn2SiO4:Mn 무기물 형광체를 사용한 유무기 혼성 유기발광소자를 제작하고 발광 메카니즘을 조사하였다. 색변환층으로 사용되는 Zn2SiO4:Mn 형광체는 졸겔 방법을 사용하여 형성하고 비이클용액 및 열처리 공정을 사용하여 유리기판 위에 도포하였다. 형성된 Zn2SiO4:Mn 형광체 층에 대하여 X선 회절측정한 결과는 형광체내의 Zn 이온이 도핑된 Mn 이온에 대체되었음을 보여준다. 제작된 진청색 OLED의 전계발광 스펙트럼은 461 nm 에서 peak 을 나타내고 Zn2SiO4:Mn 무기물 형광체는 470 nm에서 여기 되어 Mn 이온의 4T1-6A1 전이에 의하여 527 nm에서 발광을 한다. Zn2SiO4:Mn 무기물 형광체를 사용한 유기발광소자의 전계발광스펙트럼에서 나타나는 527nm peak 은 Zn2SiO4:Mn 무기물의 색변환에 의해 나타난 결과로서 제작된 유기발광소자에서 발광된 빛을 청색에서 녹색으로 변환한 결과이다. Zn2SiO4:Mn 무기물 색변환층을 사용하여 제작된 무기물/유기물 유기발광소자의 발광 메카니즘은 전계발광스펙트럼 및 광루미네센스 스펙트럼 결과를 기초로 설명하였다. 이 결과는 녹색 무기물 형광체를 진청색 유기발광소자와 결합하여 제작된 유기발광소자의 발광색을 조절할 수 있음을 보여주었다.

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