• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.103-103
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• 2011

The epitaxial Cu-doped ZnO and pure ZnO thin films were grown on Al2O3 (0001) substrates by RF sputtering method. The structures and crystallographic orientations were investigated using X-ray diffraction (XRD) and X-ray absorption spectroscopy. From the XRD pattern, it is observed that peak positions shift towards higher $2{\theta}$ value with Cu doping. The ${\omega}$-scan measurements at the (0002) diffraction peak for these samples reveal that the full-widths at half-maxima (FWHMs) are about $0.017-0.019^{\circ}$, which indicate a good c-axis orientation of the Zn1-xCuxO films. From phi-scan, all of the Zn1-xCuxO films were epitaxially grown. EXAFS measurements also demonstrated that Cu incorporated into a Zn-atom position substitutionally. All the results confirmed that copper ion were well incorporated into the ZnO lattices by substituting Zn sites without changing the wurtzite structure and no secondary phase existed in Cu-doped ZnO thin films.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.373-373
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• 2012

염료 감응형 태양전지는 기존 Si 기반 PN접합 무기 태양전지에 비해서 경제적이다. 하지만 그 에너지 변환 효율은 아직까지 세계 최고 수준이 10%밖에 도달하지 못하였다. 그래서 다양한 방식의 효율개선 연구가 활발히 진행되고 있는 실정이다. 본 연구에서는 진공원자층증착(ALD)를 이용하여 Core-shell 구조의 $TiO_2$층 위에 아주 얇고 균일한 $Al_2O_3$ (알루미나) 산화막을 입혔다. 이를 통해서 염료감응형 태양전지의 에너지 변환 효율을 향상시켰다. 본 연구에서는 진공원자층증착(ALD)기술을 이용한 $Al_2O_3$ (알루미나) 산화막의 증착조건에 따른 염료감응태양전지의 효율 개선 매커니즘에 대해서 고찰하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.276-276
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• 2011

진공증착법으로 ITO (indium-tin-oxide) 기판 위에 $AgGaSe_2$ 박막을 성장시켜 그 구조와 광학적 특성을 조사하였다. X-선 회절 분석에 의하여 살창상수는 a=5.97 ${\AA}$와 c=10.88 ${\AA}$이고, 황동광(chalcopyrite) 구조를 하고 있었으며, 그 성장 방향은 (112)방향으로 선택 성장됨을 알 수 있었다. 증착된 박막과 200~400$^{\circ}C$로 열처리한 박막의 실온에서 측정한 광학적인 에너지 띠 간격은 2.02 eV에서 2.28 eV까지 변하였다. 또한 열린회로로 구성되어 있는 시료의 표면에 광 펄스를 주입하여 표면에서 형성된 전하들의 거동을 광유기 방전 특성(PIDC) 방법을 이용하여 조사하였다. 초기전위 V0로 형성된 시료의 양단을 주행하는 운반자 농도, 전류밀도 및 전기장 효과를 관찰하여 운반자의 주행시간, 이동도 그리고 전하운반자 농도를 계산한 결과는 각각 42 ${\mu}s$~81 ${\mu}s$, $1.9{\times}10^{-1}\;cm^2/Vs$~$5.7{\times}10^{-2}\;cm^2/Vs$ 그리고 약 $6.0{\times}10^{17}/cm^3$~$2.0{\times}10^{18}/cm^3$이었으며, p-형 전도를 나타내었다. 원자 힘 현미경 실험으로 제곱평균제곱근 거칠기와 입계크기를 조사하였으며, X-선 광전자 분광실험으로 원소들의 결합상태를 관찰하였다.

• Proceedings of the Korean Society for Food Science of Animal Resources Conference
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• 2005.10a
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• pp.334-338
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• 2005

식육의 소비형태가 변화함에 따라 생체 기능성물질의 탐색과 이용에 관한 연구가 활성화 되어지고 있다. 식품에 소량 존재하며 지방세포분화를 촉진하는 물질로 밝혀진 conjugated linoleic acid (CLA)중 9c-11c(9c)가 3원 교잡종 암퇘지(Yorkshire ${\times}$ Landrace ${\times}$ Duroc)의 어떤 유전자에 영향을 줌으로써 지방세포의 분화를 촉진하는지 DNA chip을 이용하여 분석하였다. 분석도구로는 Genepix 6.0과 Vector Xpression 3.0을 사용하였다. 분석결과 $Na^+,\;K^+$-ATPase, ciliary neurotrophic factor, complement cytolysis inhibitor, prolactin receptor, type II collagen alpha1 등 과 같은 분화 관련 유전자가 나타났다. 이 연구는 나아가 DNA chip을 이용해서 지방세포 분화억제에 관여하는 유전자를 찾아내고, 이 유전자들은 지방세포 분화 조절과 비만관련 연구에 활용될 것이다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.253-253
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• 2013

본 실험에서는 전구체(Precursor)로 TMA (Tris methyl Aluminum)를 사용한 ALD (Atomic Layer Deposition)와 PEALD (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) 공정 중 발생하는 입자(particle)를 ISPM (In-Situ Particle Mornitor)로 관찰하였다. ALD과 PEALD 공정에서 Al2O3 박막을 형성하기 위해서 반응가스(Reactant)로 각 각 H2O와 O2 plasma를 사용하였다. 이러한 차이로 인해서 진공 챔버(Vacuum Chamber) 안에서의 각기 다른 매커니즘에 의해서 Al2O3의 박막이 형성된다. 또한 공정 중 발생할 수 있는 파티클(Particle) 생성 매커니즘의 차이점을 가진다. ALD의 경우 전구체와 반응가스 사이에 충분한 purge가 이루어지지 않거나 dead zone이 존재할 경우 라인과 챔버 상에 잔류한 전구체와 반응가스에 의해서 불완전한 반응물로 파티클이 생성될 수 있다. 반면 PEALD 경우는 반응가스(Reactant)로 O2 plasma를 극부(localization)적으로 형성하여 박막을 형성하므로 반응가스의 잔류의 영향은 없으나 고에너지의 플라즈마에 의해서 물리적 영향에 의한 파티클이 생성될 수 있다. 공정 중 발생하는 입자(Particle)은 수율 감소와 박막의 물성에 영향을 미칠 수 있다. 그러므로 두 공정 중 발생하는 파티클을 ISPM으로 관찰하였고, 각 공정에서 형성된 박막의 두께 균일도, 표면의 형상(morphology), 화학적 조성 및 전기적 특성을 측정하였다. 이를 통해서 ALD와 PEALD의 파티클과 박막특성을 비교하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2005.07a
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• pp.31-32
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• 2005

Ge 농도가 30%인 SiGe 위에 Ni-Pd 합금을 이용한 새로운 Ni-Germanosilicide의 방법을 제안하여 열안정성 향상에 대해 연구하였다. 새롭게 제안한 Ni-Pd 합금을 이용하여 3 가지 구조 (Ni-Pd, Ni-Pd/TiN, Ni-Pd/Co/TiN) 중 Cobalt 다층구조를 사용한 구조 (Ni-Pd/Co/TiN)가 면저항이 가장 낮고 안정한 silicide 특성을 갖는 것을 나타냈으며, 고온열처리 $700^{\circ}C$, 30분에서도 낮고 안정한 면저항 특성을 유지시켜 열안정성을 개선하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.08a
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• pp.122.2-122.2
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• 2013

플라즈마 전해산화(plasma electrolytic oxidation) 기술을 이용하여 제작한 산화 피막은 피막의 하층부(기지 금속과 접해 있는 부분)는 ${\alpha}$-phase의 산화물이 대부분을 이루고 있으며, 기지 금속과의 접착성도 뛰어나다. 하지만 피막의 표면이 거칠고, 다공성을 띄는 특징을 보인다. 본 연구에서는 피막의 거칠기와 다공성을 제어하기 위한 방법으로 전해액에 포함된 불순물(Si, P 등) 조성비의 변화에 초점을 맞췄으며, 불순물(Si, P 등)의 조성비를 변화시켜 가면서 실험을 진행하였다. 실험에는 60 Hz, 35 kW(700 V, 50 A)의 power supply가 사용되었다. 또한, 실험의 결과로 제작된 시편의 내전압(10 V/s), 내플라즈마(200 W, 10 min, Ar 5 sccm, 200 mTorr), 내화학성(HCl 36.46 wt%, 120 min) 테스트를 진행하였으며, 실험 결과를 바탕으로 ${\phi}300$ 대면적 시편의 제작도 완료하였다.

• Journal of Environmental Science International
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• v.32 no.5
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• pp.303-313
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• 2023

In this study, the hydraulic gradient was calculated using the groundwater level and rainfall observed in the Hyogyo-ri area for a year, and the change in the hydraulic gradient according to the rainfall was analyzed. It was found that the groundwater level increased as the rainfall increased in all groundwater wells in the research site, and the groundwater level rise decreased as the altitude of the groundwater well increased. The hydraulic gradient in the research site ranged from 0.016 to 0.048, decreasing during rainfall and increasing after the end of the rainfall. As the rainfall increased, the groundwater level rise in the low-altitude area was more than the high-altitude area, and the hydraulic gradient decreased due to the difference in groundwater level rise according to the altitude. Through this study, it was found that the influence of rainfall is dominant for the fluctuation of the hydraulic gradient in the unconfined aquifer.

• 한국생물공학회:학술대회논문집
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• 2002.04a
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• pp.351-354
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• 2002

This research discussed about the substrate transport phenomena in anaerobic biofilm. Three anaerobic fixed biofilm reactors were filled with the sludge of anaerobic digestor from Suyoung wastewater treatment plant. After 15 days of biofilm formation periods, suspended solids within the reactors were removed, and each fixed biofilm reactor was supplied with synthetic wastewater of different concentration of 8.00 mgTOC/L, 9.76 mgTOC/L and 18.97 mgTOC/L, respectively. The experimental results in conjunction with substrate transfer phenomena indicated that data - thickness, substrate removal rate. At the low influent substrate concentration(reactor 1 : 8.00 mgTOC/L, reactor 2 : 9.76 mgTOC/L), the rate of substrate utilization($k_v$), effective diffusivity($D_{eff}$) of substrate in biofilm were similar. While $k_v$ and $D_{eff}$ of the high influent substrate concentration(reactor 3 : 18.97 mgTOC/L) were higher than data in the reactors of the low influent substrate concentration.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.415-415
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• 2011

국제핵융합실험로(ITER)에 장착되는 한국형 헬륨 냉각 고체형 증식(Helium Cooled Solid Breeder : HCSB) 시험 블랑켓(Test Blanket Module : TBM)은 ITER 참여국 중 유일하게 중성자 반사 재료를 채택한 것이 특징이다. 중성자 반사재료로는 지름 1 mm 내외의 흑연 페블을 사용 할 예정이다. 흑연은 중성자 반사특성은 우수하지만 기계적 특성이 비교적 좋지 않다는 단점이있다. 뿐만 아니라, 산화나 화재 등에 대해서도 취약하기 때문에 흑연이 노출된 상태로 사용하는 것은 위험부담이 클 수밖에 없다. 따라서 흑연을 코팅해서 사용하기 위한 연구개발이 진행 중이며, 코팅 후보물질로는 저방사화 및 고경도의 특성을 갖는 SiC가 유력시 되고 있다. 흑연위에 SiC를 코팅하는 방법은 여러 가지가 있으며, 그 중에서 비교적 간단한 RF Sputtering, PECVD를 이용해서 SiC를 코팅하고 그 특성을 평가했다. RF Sputtering에서 흑연의 온도를 상온으로 두었을 때는 SiC가 결정으로 성장되지 않는 것을 확인할 수 있었으며, $900^{\circ}C$ 이상의 온도에서 열처리과정을 거친 후 결정이 형성되는 것을 확인할 수 있었다. 그리고 열처리 온도가 $1200^{\circ}C$ 부근에서는 SiC nano-wire가 형성되는 것을 확인할 수 있었다. PECVD의 경우 전구체 물질로 사용된 $SiH_4$와 $CH_4$의 비율에 따라서 SiC의 형성비율이 다른 것을 알 수 있었으며, 결정 상태는 성장시 기판온도에 크게 의존하는 것을 확인할 수 있었다. 최근에는 보다 효율적으로 SiC를 코팅하기 위하여 흑연페블을 spouting시키면서 코팅할 수 있는 CVD 장치를 설계-제작했으며, 전구체 물질로는 $SiH_4$, $Si(CH_3)_4$, $CH_3$ $SiCl_3$ 등이 사용될 예정이다.