고밀도 플라즈마를 이용한 TaN/$HfO_2$ 게이트 구조의 식각 특성
(Etching properties of TaN/$HfO_2$ gate structure by using high density plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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- pp.158-159
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- 2007