It is known that $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}(BAM)$ phosphors currently used have a serious thermal degradation problem. We screened $SrO-B_2O_3-P_2O_5$ system by a solution combinatorial chemistry technique in an attempt to search for a thermally stable blue phosphor for PDPs. A Quantitative Structure Activity Relationship (QSAR) was also obtained using an artificial neural network trained by the result fiom the combinatorial screening. As a result, we proposed a promising composition range in the $SrO-B_2O_3-P_2O_5$ ternary library. These compositions crystallized into a single major phase, $Sr_6BP_5O_{20}:Eu^{2+}$. The structure of $Sr_6BP_5O_{20}:Eu^{2+}$ was clearly determined by ab initio calculation. The luminescent efficiency of $Sr_6BP_5O_{20}:Eu^{2+}$ was 2.8 times of BAM at Vacuum Ultra Violet (VUV) excitation. The thermal stability was also good but the CIE color chromaticity was slightly poor.
Magazine of the Korean Society of Agricultural Engineers
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v.6
no.2
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pp.816-825
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1964
1. Outline: The flow of the siphon spillway is very intricate and affected by vacuous condition. It is an intresting problem to make vacuum rapidly in_siphon, i.e, to provoke the perfect siphonaoge with the lowest water-level of overflow. The hydraulic experiments of siphon spillway have practiced at the Masan Lake, Haenam, the province of Junnam and gained rational and economical results which cannot be odtained by calculation. 2. Experiment: The model scale was a half of that of the prototype. 3. Results and discussion: In the experiments of 14 runs, washing, overflow water level, outlet, water level of cushion, phenomenon of water flying and water pressure of every part, etc. were studied. a) The relation of overflow water-level at siphon inlet and deflector When the elevation of the deflector is 10. 65m and the form of deflector O.4m long is the hypotenuse of an $45^{\circ}$ isosceles triangle, the over flow water-level is the minimum, i. e. the siphonage was excellent. There is no effect by the rising of overflow water-Ievel between 11.95m to 1O.65m of deflector elevation (in the first plan, it is 11.05m). But the overflow water-level rises remarkably in the outside region of the above limits. b) The relation of overflow water-level, the length of cushion and standard height of the base. The reduction of the length of cushion brings the rising of overflow waterlevel, and the rising of the standard height of the base brings the rising of overflow water level. For the long cushion length and low standard height of the base, it cannot be expeted to have the falling of overflow water-level. The most satisfactory data were obtained at 5.20m of the base standard height and 6.1m of the length of cushion. The first vah,le planned was 5.70 m and 4.30m.
In VARTM process where a sacrificial medium is used to facilitate the resin flow, the velocity of resin varies drastically between the sacrificial medium and the fiber preform. Although the thickness-to-length ratio of a VARTM product is usually small, a 3-D analysis is prerequisite to analyze the lead-lag flow in the two different media. The problem associated with the full 3-D analysis is the CPU time. A full 3-D numerical mesh comprising large number of nodes requires an impractical CPU time on average computer platforms. In this study, a dual-scale analysis technique was developed. The flow analysis for the entire calculation domain was conducted in 2.5-D, and the 3-D analysis was performed for a small area of special concern. In some numerical examples, the local 3-D analysis could discover an eccentric flow pattern as well as the lead-lag flow that will inevitably be neglected in 2.5-D simulations. The global-local analysis technique practiced in this study can be used to analyze the intricate flow of resin through non-uniform media in affordable CPU times.
It has been reported that plasma treatments are used to modify surface properties of polymers such as adhesivity hydrophobicity and hydrophilicity. Using plasma treatment, interfacial pro-perty can be introduced to a polymer surface without affecting the desired bulk properties of a material. In this study, commercial polyamide66 (PA66) /polyphenylene (PPE) polymer was modified by plasma treatment under a various gas specious for elimination of organic compound and polymer surface property with hvdrophilicity. PA66/PPE polymer with hydrophilicity was treated by RF plasma vacuum system under a various parameter such as gas specious, processing time and partial pressure. Hydrophilicity of PA66/PPE was confirmed by calculation of the surface free energy from contact angle measurement. The highest surface free energy of $50.03 mJ/m^2$ with the lowest contact angle of $14^{\circ}$ was obtained at plasma process power of 100 W, treatment time of 2 min and $Ar/O_2$ gases of 100 and 200 sccm. Moreover the change of organic compounds on the polymer surface was analyzed by fourier transforms infrared spectrometry (FTIR).
Kim, Man Gu;Sim, Ji Hui;Lee, Dong Su;Lee, Yong Geun
Journal of the Korean Chemical Society
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v.38
no.2
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pp.151-159
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1994
The portable gas chromatography system was developed which was consisted of ambient vapor sampler(AVS), short capillary column(3 m long, 0.32 mm i.d. GC(SCCGC), photoionization detector (PID) and vacuum pump which was operated at subambient pressure. The seletion of capillary column was based on the theoretical calculation from Golay equation. The pressure ratio of column inlet and outlet appropriated between 1.03 and 1.2 in the system. The available column flow were 0.87∼4.63 ml/min at the pressure ratios. The AVS consisted of three concentric tubes and enables rapid, repetitive introduction of vapor samples directly into capillary column and showed good reproducibility. The subambient column outlet pressure with PID resulted in a significant increase in the optimum column flow, permitting rapid analysis. The baseline separation of m-xylene and o-xylene was able to within 40 second with the system. Parameters affecting the column resolving power were sampling duration, column length and diameter, and the pressure ratio. Effects of these parameters were investigated using bezene derivative compounds.
The objective of this study is to evaluate the feasibility of Pumping-and-Treatment system (PTS) for remediation of the saturated zones contaminated with NAPLs. A simulation is carried out for the removal of DNAPLs (denser-than-water non-aqueous phase liquids) and LNAPLS (lighter-than-water non-aqueous phase liquids) distributing at and below the water table. In the study, LNAPL and DNAPL are assumed to be n-hexane and 1,1-dichloroacetone, respectively. The model system studied consists of four heterogeneous soil layers with different permeabilities. Groundwater flows through the bottom layer and a pumping well is located under the initial water table. The time-driven deformation of the water table and removal efficiency of contaminants are estimated after vacuum application to the inlet of the well. In the calculation, FVM (Finite Volumetric Method) with SIMPLEC algorithm is applied. Results show that removal efficiencies of both DNAPL and LNAPL are negligible for the first 5 days after the PTS operation. However, when the cone-shape water table is formed around the inlet of the pumping well, the rapid removal rate is obtained since NAPLs migrate rapidly through the curvature of the water table. The removal efficiency of DNAPL is estimated to be higher than that of LNAPL due to the gravity. The results also show that the fluctuation or cone-shaped depression of the water table enhances the removal efficiency of NAPLs in saturated zones. The simulation results could provide a basis of the PTS design for the removal of NAPLs in saturated zones.
The $Co_{90}Fe_{10}$ single layer films were deposited on various substrates (glass, Si, polymide) using high vacuum RF magnetron sputtering system and nominall 1000 $\AA$ thick $Co_{90}Fe_{10}$ alloy films had a good high frequency characteristic. $M_S$ and $H_{an}$ values obtained from the B-H characteristic of the $10{\times}[100 nm \;Co_{90}Fe_{10}/100 nm\; SiO_2]$ multilayers agreed well with those obtained by calculation. Complex relative permeability $(={\{\mu}_r={\mu}_r',-j{\mu}$\mu$_r")$ at frequency f was measured from the transmission characteristics $(S_{11},\; S_{21}\;parameters)$ of the microstrip line which has a stacked structure consisting of sample magnetic films and a conductor and is connected to a network analyzer. The ${\mu}_r'-f$ characteristic was abtained from the megnetic absorption, which was analyzed from the S-parameter characteristics of the microstrip line. The ${\mu}_r'-f$ characteristic was also calculated from the ${\mu}_r"-f$-f characteristic using the Kramers-Kronig relation. The measurement results were confirmed to agree well with those obtained by calculations.culations.
Over the last decade, the hafnium-based gate dielectric materials have been studied for many application fields. Because these materials had excellent behaviors for suppressing the quantum-mechanical tunneling through the thinner dielectric layer with higher dielectric constant (high-K) than $SiO_2$ gate oxides. Although high-K materials compensated the deterioration of electrical properties for decreasing the thickness of dielectric layer in MOSFET structure, their nano-mechanical properties of $HfO_2$ thin film features were hardly known. Thus, we examined nano-mechanical properties of the Hafnium oxide ($HfO_2$) thin film in order to optimize the gate dielectric layer. The $HfO_2$ thin films were deposited by rf magnetron sputter using hafnium (99.99%) target according to various oxygen gas flows. After deposition, the $HfO_2$ thin films were annealed after annealing at $400^{\circ}C$, $600^{\circ}C$ and $800^{\circ}C$ for 20 min in nitrogen ambient. From the results, the current density of $HfO_2$ thin film for 8 sccm oxygen gas flow became better performance with increasing annealing temperature. The nano-indenter and Weibull distribution were measured by a quantitative calculation of the thin film stress. The $HfO_2$ thin film after annealing at $400^{\circ}C$ had tensile stress. However, the $HfO_2$ thin film with increasing the annealing temperature up to $800^{\circ}C$ had changed compressive stress. This could be due to the nanocrystal of the $HfO_2$ thin film. In particular, the $HfO_2$ thin film after annealing at $400^{\circ}C$ had lower tensile stress, such as 5.35 GPa for the oxygen gas flow of 4 sccm and 5.54 GPa for the oxygen gas flow of 8 sccm. While the $HfO_2$ thin film after annealing at $800^{\circ}C$ had increased the stress value, such as 9.09 GPa for the oxygen gas flow of 4 sccm and 8.17 GPa for the oxygen gas flow of 8 sccm. From these results, the temperature dependence of stress state of $HfO_2$ thin films were understood.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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