Formation of amorphous Ga2O3 thin films on Ti metal substrates by MOCVD and characteristics of diodes (MOCVD에 의한 Ti 금속 기판 위의 비정질 Ga2O3 박막 형성과 다이오드 특성)
-
- Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
- /
- v.33 no.4
- /
- pp.125-131
- /
- 2023