• 제목/요약/키워드: V-곡선

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PSS/E를 이용한 P-V, Q-V 곡선 제작용 IPLAN 개발 (Develop P-V & Q-V Curve Used by IPLAN of PSS/E)

  • 박철무;김건중;박헌경;신만철;김재철;장경철
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2002년도 추계학술대회 논문집 전력기술부문
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    • pp.154-156
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    • 2002
  • PSS/E의 내부 시퀀스인 IPLAN을 이용하여 반복 조류계산을 함으로서 P-V, Q-V 곡선의 P, Q, V 값을 계산하는 IPLAN을 작성하였다. 작성된 곡선들은 유효전력 및 무효전력 예비력을 판단하는 지표, 전압안정도를 판별하는 지표 등 여러 방면에서 사용될 수 있다.

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BTS 측정 분석을 통한 MLCC 소자의 결함 여부 판단

  • 최평호;김상섭;최병덕
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.298-298
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    • 2012
  • 본 연구에서는 Bias Temperature Stress (BTS) 측정을 통한 다층세라믹커패시터(Multi-Layer Ceramic Capacitor, MLCC) 소자 분석에 대한 연구를 진행하였다. BTS 분석은 소자 내부에 존재하는 Na+, K+ 등의 mobile charge 검출을 위한 방법으로 positive bias와 negative bias stress에 따른 C-V 특성 곡선으로부터 mobile charge의 정량적 해석이 가능하다. 실험 결과 positive bias stress 후의 C-V 특성 곡선이 stress 전 C-V 특성 곡선과 비교해 negative bias 영역으로 0.0376 V 만큼 shift 하였다. 또한 수식(QM = $Cox{\cdot}{\triangle}V$)으로부터 $1.7{\times}1,011$개의 mobile charge가 존재함을 확인하였다. 본 연구는 MLCC 소자 내의 금속 오염물 존재 여부에 따른 소자의 전기적 특성 변화 분석을 위해 진행되었으며, BTS 분석은 반도체 소자 뿐 아니라 본 연구에서와 같이 커패시터 소자의 결함 여부 판단에도 이용 가능함을 확인하였다.

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LiF:Mg, Cu, Na, Si TL 물질의 열자극발광스펙트럼 측정 및 분석 (The Measurement and Analysis of LiF:Mg, Cu, Na, Si TL Material by Thermoluminescence Spectrum)

  • 이정일;문정학;김덕훈
    • 한국안광학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.149-153
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    • 2001
  • LiF:Mg, Cu, Na, Si TL 물질의 열자극발광을 온도대 파장대 발광강도의 3차원으로 측정하여 분석하였다. 온도대 발광강도곡선(glow curve)은 각 온도에서 파장별 발광강도데이터를 적분하여 구성하였고, 이를 분석하여 트랩에 관계되는 여러가지 파라미터들을 결정하였다. 발광곡선의 분석은 일반차 모델의 TL 강도 표현식을 기본함수로 하여 컴퓨터화된 발광곡선 분해(Computerized Glow Curve Deconvolution: CGCD)기법을 이용하였고, 그 결과 LiF:Mg, Cu, Na, Si TL 물질의 열자극발광곡선은 정점온도 333 K, 374 K 426 K, 466 K, 483 K 그리고 516 K를 갖는 6개의 개별적인 발광곡선들로 구성되어 있음을 확인하였다. 주 피크(main peak)인 456 K 발광곡선에 대하여 활성화에너지는 2.06 eV, 발광차수는 1.05로 밝혀졌다. 발광스펙트럼 분석결과 LiF:Mg, Cu, Na, Si TL 물질은 3개의 재결합준위 1.80 eV, 2.88 eV 그리고 3.27 eV를 가지는 것으로 판명되었다. 이 중 약 2.88 eV 준위가 지배적이고 다음으로 3.27eV 준위에서 발광이 일어나며 1.80 eV 준위는 극히 미약하나 분명한 존재를 확인하였다.

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접촉쌍성의 광도와 시선속도곡선의 분석에 의한 절대 물리량과 거리의 결정 -1. V417 Aquilae (DETERMINATIONS OF ITS ABSOLUTE DIMENSIONS AND DISTANCE BY THE ANALYSES OF LIGHT AND RADIAL-VELOCITY CURVES OF THE CONTACT BINARY - I. V417 Aquilae)

  • 이재우;김천휘;이충욱;오규동
    • Journal of Astronomy and Space Sciences
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    • 제21권2호
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    • pp.73-82
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    • 2004
  • Samec et al.(1997)의 UBV 광도곡선과 Lu & Rucinski(1999)의 시선속도곡선을 2003년에 개정한 Wilson-Devinney 쌍성모델을 적용하여 W형 과접촉쌍성 V417 Aql의 측광 및 분광학적 해를 새롭게 산출하였다. 광도곡선 분석에서 Qian(2003)이 제안한 제3천체의 광도를 광도곡선 분석에서 고려한 결과, 삼체의 광도가 U, B, V 필터에서 각각 2.7%, 2.2%, 0.4% 존재하고, 삼체의 광도를 고려한 경우가 그렇지 않은 경우보다 이론치와 관측치가 극심 부근에서 더 잘 일치하였다. 우리의 해로부터 V417 Aql의 절대 물리량을 $M_1$= 0.53 $M_{ }$, $M_2$= 1.45 $M_{*}$, $R_1$= 0.84 $R_{*}$, 그리고 $R_2$= 1.31 $M_{*}$으로, 거리를 216pc으로 산출하였다. 우리가 구한 거리는 Rucinski & Duerbeck(1997)의 관계식 $M_{v}$ = $M_{v}$(log P, B-V)으로부터 계산한 거리(204pc)와 잘 일치하는 반면, Hipparcos 삼각시차에 의한 거리(131$\pm$40pc)보다 멀다. 그 차이는 Hipparcos 시차의 비교적 큰 오차 때문에 생긴 것일 수 있다. 수 있다.

δ Scuti형 변광성 BO Lyn의 근적외선 광도곡선 분석 (An Analysis of Near-infrared Light Curves of δ Scuti Variable BO Lyn)

  • 임지혜;손정주
    • 한국지구과학회지
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    • 제37권7호
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    • pp.389-397
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    • 2016
  • ${\delta}$ Scuti형 변광성 BO Lyn의 파장에 따른 광도곡선 차이를 알아보기 위해서 보현산천문대의 1.8m 반사망원경과 적외선 검출기 KASINICS를 이용한 측광 관측을 수행하였다. 2011년 3월 26일부터 4월 1일까지 총 7일간의 관측 자료로 J, H, Ks필터 광도곡선을 얻어 기존에 보고된 V필터에서의 광도곡선과 비교하여 주기, 극대점, 진폭, 형태에 대한 차이를 알아보았다. 적외선 광도곡선의 주기 분석 결과 단일 주파수해 $f_1=10.712cycle/day$, 주기$P=0.09335{\pm}0.00002days$의 값을 얻었으며, 파장에 따른 주기의 차이는 나타나지 않았다. 적외선에서는 $2f_1$에 해당하는 주파수가 검출되었는데, 이는 고진폭 ${\delta}$ Scuti형 변광성의 특징인 비대칭적인 광도곡선의 형태를 잘 설명해준다. 극대점의 위치를 비교한 결과 계산된 V필터의 예상 극대점보다 관측된 적외선 극대점이 전체 주기의 약 0.3에 해당하는 만큼 더 늦게 나타났다. 진폭은 ${\Delta}J/{\Delta}V=0.328$, ${\Delta}H/{\Delta}V=0.216$, ${\Delta}Ks/{\Delta}V=0.211$로 파장이 길어질수록 변광의 폭이 더 작게 나타났다. 파장에 따른 극대점의 지연과 변광폭의 차이는 맥동변광성의 밝기 변화가 주로 온도변화에 기인하기 때문인 것으로 여겨진다.

전력분석 공격에 대응하는 타원곡선 상의 결합 난수 스칼라 곱셈 알고리즘 (A Combined Random Scalar Multiplication Algorithm Resistant to Power Analysis on Elliptic Curves)

  • 정석원
    • 사물인터넷융복합논문지
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    • 제6권2호
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    • pp.25-29
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    • 2020
  • 타원곡선 암호 알고리즘은 RSA 공개키 알고리즘에 비해 짧은 키의 길이와 적은 통신 부하 때문에 IoT 환경에서 인증용으로 많이 사용되고 있다. 타원곡선 암호 알고리즘의 핵심연산인 스칼라 곱셈이 안전하게 구현되지 않으면, 공격자가 단순 전력분석이나 차분 전력분석을 사용하여 비밀 키를 찾을 수 있다. 본 논문에서는 스칼라 난수화와 타원곡선점 가리기를 함께 적용하고, 연산의 효율성이 크게 떨어지지 않으며 전력분석 공격법에 대응하는 결합 난수 타원곡선 스칼라 알고리즘을 제안한다. 난수 r과 랜덤 타원곡선 점 R에 대해 변형된 Shamir의 두 배 사다리 알고리즘을 사용하여 타원곡선 스칼라 곱셈 kP = u(P+R)-vR을 계산한다. 여기에서 위수 n=2l±c일 때, 2lP=∓cP를 이용하여 l+20 비트 정도의 u≡rn+k(modn)과 ν≡rn-k(modn)를 구한다.

V-t 도시 결과에 의한 각종 물리 흡착 등온식의 평가 (The Estimation of Standard Physisorption Isotherms based on the V-t Plots of Physisorption on Various Inorganic Adsorbents)

  • 안운선;조현우;이광순
    • 대한화학회지
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    • 제38권1호
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    • pp.26-33
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    • 1994
  • 현재까지 본인 등이 여러 흡착제를 가지고 측정한 질소 및 아르곤의 물리흡착 등온곡선을 가지고 각종 표준흡착 등온곡선에 맞추어서 V-t도시를 하고, 이 도시 결과로부터 이들 표준흡착 등온곡선들의 타당성을 음미하여 보았다. 이 중에서 FHH식이 광범위한 종류의 흡착제에 대하여 표준 등온식으로 적합함을 확인할 수 있었다.

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자원이 제약된 장치에서 효율적인 타원곡선 다중 상수배의 구현을 위한 유연한 접근 (A Flexible Approach for Efficient Elliptic Curve Multi-Scalar Multiplication on Resource-constrained Devices)

  • 서석충;김형찬;라마크리시나
    • 정보보호학회논문지
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    • 제16권6호
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    • pp.95-109
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    • 2006
  • 타원곡선 암호시스템은 작은 키 길이로 인하여 스마트카드, 센서 모트와 같은 메모리, 계산 능력이 제약된 장치에서 사용하기에 적합하다. 본 논문에서는 이러한 장치에서 타원곡선 서명 알고리즘 검증 (uP+vQ, u, v: 상수, P, Q: 타원곡선 위의 점)의 주된 계산인 다중 상수배를 효율적으로 계산하기 위한 알고리즘을 제안한다. 제안 알고리즘은 부분 윈도우와 Interleave 방법에 기반을 둔 것으로서 어떠한 크기의 사전계산 테이블이라도 이용할 수 있을 뿐만 아니라, 해당 테이블에서 최적의 nonzero 밀도를 제공한다. 또한 상수 리코딩이 테이블 조회를 사용하지 않고 상수배 계산과 함께 진행되기 때문에 기존의 다른 알고리즘에 비하여 더욱 메모리를 절약할 수 있다. 실험을 통하여 163비트의 u, v와, 233 비트의 u, v에 대하여 uP+vQ를 수행하는 데 필요한 계산량을 사전계산 테이블의 크기에 따라 비교함으로써 최적의 테이블 크기는 각각 7, 15임을 알아낼 수 있었다.

EB형 식쌍성 V388 CYG의 측광학적 연구 (A PHOTOMETRIC STUDY OF EB-TYPE ECLIPSING BINARY V388 CYG)

  • 오규동;김호일;이우백
    • Journal of Astronomy and Space Sciences
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    • 제14권1호
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    • pp.33-43
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    • 1997
  • 소백산 천문대의 61cm 망원경을 사용하여 1995년 10월부터 12월 사이의 10일 동안 CCD 측광관측에 의하여 EB형 식쌍성 V388 Cyg의 3색 (B, V&R)의 광도곡선을 얻었다. 새로운ㄴ 3색의 광도곡선을 Wilson-Devinney model에 동시에 적용하여 이 별의 궤도요소를 얻었다. 그 결과 현재로서는 V388 Cyg이 접촉형인지 준분리형인지를 판단하지 못하였다. 한편, 지금까지 발표된 이 별의 극심시각을 수집하여 주기변화를 조사하였으며, 그 결과 일정한 주기 감소를 나타내는 $-4.83{\times}10^{-10}$의 2차 함수를 포함하는 새로운 광도요소를 계산하였다.

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DC 스트레스에 의해 노쇠화된 LDD MOSFET에서 문턱 전압과 Subthreshold 전류곡선의 변화 (The Shift of Threshold Voltage and Subthreshold Current Curve in LDD MOSFET Degraded Under Different DC Stress-Biases)

  • 이명복;이정일;강광남
    • 대한전자공학회논문지
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    • 제26권5호
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    • pp.46-51
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    • 1989
  • DC 스트레스에 의해 노쇠화된 짧은 채널 LDD NMOSFET에서 문턱전압과 subthreshold 전류곡선의 변화를 관측하여 hot-carrier 주입에 의한 노쇠화를 연구하였다. 포화영역에서 정의된 문턱전압의 변화 ${Delta}V_{tex}$를 trapped charge에 기인한 변화성분 ${Delta}V_{ot}$와 midgap에서 문턱전압 영역에 생성된 계면상태에 의한 변화성분${Delta}V_{it}$로 분리하였다. 게이트 전압이 드레인 전압보다 큰 positive oxid field ($V_g>V_d$) 조건에서는 전자들이 게이트 산화막으로 주입되어 문턱전압이 증가되었으나 subthreshold swing은 크게 변화하지 않고 subthreshold 전류곡선만 높은 게이트 전압으로 평행 이동하였다. 게이트 전압이 드레인 전압보다 낮은 negative oxide field ($V_g) 조건에서는 hole이 주입되고 포획된 결과를 보였으나 포획된 positive charge수 보다 더 많은 계면상태가 동시에 생성되어 문턱전압과 subth-reshold swing이 증가되었다.

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