• 한국세라믹학회지
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• 제41권5호
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• pp.359-363
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• 2004

Photoluminescence excitation (PLE) spectroscopy studies were performed for anodically etched porous Zn, which exhibited a PL in the blue/violet spectral range peaking at 420 nm (2.95 eV), and oxidzed porous Zn at 380$^{\circ}C$ for 10 min and 12 h. A broad absorption band was observed at 4.07 eV (305 nm), 3.49 (355 nm) for anodically etched porous Zn. In contrast, both the oxidized porous Zn and sintered ZnO exhibited an almost identical one broad absorption band at 3.85 eV (322 nm), when PLE spectra were measured at 378 nm (3.28 eV). The oxidized porous Zn and sintered ZnO, which displayed both UV and green luminescence band, showed an additional absorption band at 389 nm (3.19 eV) and 467 nm (2.66 eV). In contrast, no significant absorption band was detected for a 10-min oxidized porous Zn, which only displayed one UV luminescence void of deep-level luminescence. These absorption bands determined by PLE studies enabled a clear understanding of an emission mechanism for the UV and green luminescence from ZnO.

• 센서학회지
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• 제16권4호
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• pp.307-312
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• 2007

The films of Er-doped ZnO (ZnO:Er) were prepared onto MgO wafers by ultrasonic spray pyrolysis at $550^{\circ}C$. The concentration of Er in the deposition source varied from 0.5 wt% to 3.0 wt%. The crystallographic properties and surface morphologies of the films were investigated by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscope (SEM), respectively. The properties of photoluminescence (PL) for the films were investigated by dependence of PL spectra on the Er concentration in the films. The films were grown as polycrystalline with a dominant direction of [002]. The grain size of the films were reduced by Er-doping. Er-doping enhanced the ultraviolet emission of ZnO:Er films. The ZnO:Er films prepared with the deposition source of 2.0 wt% Er showed the strongest ultraviolet light emission peak among the films in this study.

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2008년도 추계학술발표대회 및 제15회 신소재 심포지엄
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• pp.24.1-24.1
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• 2008

• 한국안광학회지
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• 제13권3호
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• pp.73-77
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• 2008

목적: 본 논문은 저온열처리로 비결정 또는 결정 ZnO 박막의 UV emission 가능하다는 것이다. 방법: 화학적 용액법을 이용하여 소다-라임-실리카 유리 위에 100, 150, 200, 250 및 $300^{\circ}C$로 열처리하여 비정질 및 나노 결정질 ZnO 박막을 제조하였으며, 박막의 성장 특성 및 광학적 특성을 X-선 회절 분석법, 자외선-가시광선-근적외선 분광법 및 발광분석법을 통하여 분석하였다. 결과: $100^{\circ}C{\sim}200^{\circ}C$에서 60분간 열처리된 박막은 비정질 특성을 나타내고 있었으며, $250^{\circ}C$ 및 $300^{\circ}C$로 열처리된 박막에서는 ZnO 결정상이 나타났다. 비정질 ZnO 박막의 PL분석에 의하면 매우 강한 Near-band-edge emission이 나타났으며, Green emission은 거의 검출되지 않았다. 결론: 앞으로는 저온에서 ZnO 광전자소자를 쉽게 제조할 수 있을 것이다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2007년도 춘계학술발표회 초록집
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• pp.47-48
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• 2007

본 실험에서는 MgO (99.999%)와 ZnO (99.999%)의 두가지 타겟을 사용한 RF co-스퍼터링법을 이용하여 p-type Si (100) 기판 위에 $Zn_{1-x}Mg_xO$ 박막을 증착 하였다. ZnO 타겟의 RF-power은 고정시키고 MgO 타겟의 RF-power를 조절함으로써 Mg 함량을 조절하였다. EDX분석을 통해 MgO RF-power의 증가에 따라 고용되는 Mg의 함량이 증가함을 알 수 있었다. 또한 MgZnO내 Mg 함량이 높아짐에 따라 c-축 격자상수가 감소하는 것을 XRD분석을 통해 알 수 있었고, MgO기반의 2차상은 형성되지 않았다. PL 측정을 통해 Mg함량이 증가 할수록 UV 영역의 파장의 강도는 감소하고 UV 파장의 위치는 blueshift되는 것을 관찰 할 수 있었다.

• Elastomers and Composites
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• 제52권2호
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• pp.131-135
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• 2017

Zinc nitrate hexahydrate [$Zn(NO_3){\cdot}6H_2O$] and sodium hydroxide [NaOH] were used as source reagents in the preparation of ZnO nanoparticles in an aqueous solution containing deionized water and ethanol in a ratio of 2:5 (v/v). ZnO nanoparticles were heated in an electric furnace at $700^{\circ}C$ for 2 h under an atmosphere of inert argon gas. The morphological and structural properties of the nanoparticles were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and powder X-ray diffractometry (XRD). UV-vis spectrophotometry was used to analyze the photocatalytic degradation of 3-nitrophenol with ZnO nanoparticles as photocatalyst under ultraviolet irradiation at 254 nm. Evaluation of the kinetic of the photo-catalytic degradation of 3-nitrophenol indicated that the degradation of 3-nitrophenol with ZnO nanoparticles obeyed the pseudo-first order reaction rate model.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.640-640
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• 2013

본 연구에서는 유리 기판과 Si 기판에 Ag-doped ZnO 나노로드를 수열합성법을 이용하여 성장하였다. ZnO는 UV 영역에서 exciton 발광을 하며, 가시광선에서도 발광을 하는 것으로 알려져 있다. 그리고 Ag 금속은 입자형태로 ZnO 박막에 도포되었을 때 UV영역의 발광 세기를 강화시킨다는 사실이 알려져 있다. 이러한 내용을 바탕으로 ZnO 나노로드 합성 용액에 Ag powder의 양을 변화시켜 첨가하고, 유리와 Si기판을 넣고 80도에서 30분간 성장하였다. XRD, XPS를 통해 구조적 특성 변화를 보았고 SEM을 통해 나노로드의 형태를 확인하였다. 또한 PL, 투과도 측정을 통해 Ag 도핑에 따른 광학적 특성 변화를 확인하였다. SEM 측정으로 샘플의 단면을 확인한 결과 Ag 도핑 농도에 따른 차이가 거의 없음을 알았다. ZnO 나노로드가 성장된 유리 기판은 본래의 유리기판보다 투과도가 높았으며, Ag를 많이 첨가할수록 투과도가 낮아졌다.

• 대한화학회지
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• 제50권6호
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• pp.440-446
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• 2006

액체상태에 분산된 ZnO 분말을 레이저 ablation 시켜 ZnO 나노입자를 생성하였고, 계면활성제에 따른 생성된 나노입자의 특성을 비교하였다. 생성된 나노 입자는 UV-VIS 흡광 스펙트럼과 X-ray 회절 스펙트럼으로 순수한 ZnO 결정 상태를 나타냄을 확인하였으며, 전자투과 현미경 사진으로 나노입자의 크기, 크기 분포 및 모양을 관찰하였다. 순수한 물에서 얻어진 ZnO 나노입자의 밴드 갭 에너지는 3.35 eV로 bulk ZnO와 비슷한 값을 나타내었으며, 평균 크기는 27 nm로 막대모양의 입자들이 주로 생성되었다. SDS 용액에서 얻어진 ZnO 나노입자는 입자 크기가 평균 28 nm인 주로 구형에 가까운 형태를 가졌으며 CTAB 용액에서 나노입자는 막대 모양의 형태가 많으며 평균 크기가 40 nm 이었다. CTAB 용액에서 만들어진 ZnO 나노입자는 SDS 용액에서 만들어진 ZnO 나노입자 보다 더 안정하였다. 이러한 계면활성제에 따른 ZnO 나노입자의 크기 및 모양, 그리고 안정성의 차이는 ZnO와 계면활성제 사이의 전하 극성 차이로 인한 정정기적 인력과 용매화 차이로 설명할 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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• pp.145-146
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• 2006

The most Important research topic in the development of ZnO LED and LD is the production of p-type ZnO thin film that has minimal stress with outstanding stoichiometric ratio. In this study, Phosphorus diffused into the undoped ZnO thin films using the ampoule-tube method for the production of p-type znO thin films. The undoped ZnO thin films were deposited by RF magnetron sputtering system on $GaAs_{0.6}P_{0.4}$/GaP and Si wafers. 4N Phosphorus (P) was diffused into the undoped ZnO thin films in ampoule-tube which was performed and $630^{\circ}C$ during 3hr. We found the diffusion condition of the conductive ZnO films which had p-type properties with the highest mobility of above 532 $cm^2$/Vs compared with other studies PL spectra measured at 10K for the purpose of analyzing optical properties of p-type ZnO thin film showed strong PL intensity in the UV emission band around 365nm ~ 415nm and 365nm ~ 385nm.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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• pp.370-371
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• 2007

To investigate the ZnO thin films which are interested in the next generation of short wavelength LEDs and Lasers and UV photodetector with p-type inversion layer, the ZnO thin films were deposited by. RF sputtering system. Substrate temperature and work pressure is $100^{\circ}C$ and 15 mTorr, respectively, and the purity of ZnO target is 5N. The ZnO thin films were deposited at $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, and $400^{\circ}C$. For sample deposited at $300^{\circ}C$, we observed full width at half maximum (FWHM) of 0.240 and good surface morphology.