Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.200-200
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2012
We investigated a flexible transparent film using the spinning multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs). Spin-capable MWCNTs on iron catalyzed on a SiO2 wafer was grown by chemical vapor deposition, which was performed at $780^{\circ}C$ using C2H2 and H2 gas. The average diameter and length of MWCNTs grown on the substrate were ~15 nm and $250{\sim}300{\mu}m$, respectively. The MWCNT sheets were produced by continuously pulling out from well-aligned MWCNTs on a substrate. The MWCNT sheet films were produced simply by direct coating on the flexible film or grass. The thickness of sheet film was remarkably decreased by alcohol spraying on the surface of sheet. The alcohol splay increased transmittance and decreased electrical resistance of MWCNT sheet films. Single and double sheets were produced with sheet resistance of ~699 and ${\sim}349{\Omega}/sq$, respectively, transmittance of 81~85 % and 67~72%, respectively. The MWCNT sheet films were heated through the application of direct current power. The flexible transparent heaters showed a rapid thermal response and uniform distribution of temperature. In addition, MWCNT yarns were prepared by spinning a bundle of MWCNTs from vertically super-aligned MWCNTs on a substrate, and field emission from the tip and side of the yarns was induced in a scanning electron microscope. We found that the field emission behavior from the tip of the yarn was better than the field emission from the side. The field emission turn-on voltages from the tip and side of MWCNT yarns were 1.6 and $1.7V/{\mu}m$, respectively, after the yarn was subjected to an aging process. Both the configuration of the tip end and the body of the yarn were changed remarkably during the field emission. We also performed the field emission of the sheet films. The sheet films showed the turn on voltage of ${\sim}1.45V/{\mu}m$ during the field emission.
Hong, Min Ji;Park, Min Ji;Kim, Jong Hwa;Rokade, Ashish A.;Jin, Young Eup;Lee, Gun-Dae;Park, Seong Soo
Applied Chemistry for Engineering
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v.28
no.5
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pp.587-592
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2017
Uniform and optimum sized silver nanoplates were synthesized through the liquid phase reduction method by using silver nitrate solution as a starting chemical, dimethylformmide (DMF) as a reducing solvent, and polyvinylpyrrolidone (PVP) as reducing and surfactant agents. Synthesized and also film samples were characterized by using SEM, TEM, UV-Vis-NIR spectroscopy, particle size analyzer (PSA), and XRD. Triangle nanoplates with the size of 100~200 nm were found from the sample synthesized at $70^{\circ}C$ for 72 h using silver nitrate, DMF and 26 wt% PVP. The sample could reflect near-infrared light because it showed the maximum absorbing peak at about 1,000 nm. When the content or particle size of silver nanoplates increased in coating solutions, the transmittance decreased and the reflectance increased in film samples.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2016.11a
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pp.173.1-173.1
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2016
전이금속 디칼코게나이드는 서로 다른 전이 금속원소와 칼코겐 원소의 결합으로 이루어진 층상 구조의 물질로서, 그래핀과 비슷한 2D 결정성 구조를 지니면서도, 그래핀과는 달리 밴드갭을 가지는 반도체적 성질 때문에 최근 많은 연구가 진행되고 있다. 특히 $WS_2$는 촉매, 전자, 광전자, 센서와 같은 반도체등 다양한 소자에 적용된다. $WS_2$ 합성 방법에는 기계적 박리법, 화학기상증착법, 용액법 등이 있다. 기계적 박리법은 방법이 간단하나 수율이 낮고 균일하게 얻어지지 않으며, 화학기상증착법은 고가의 고온공정이라는 한계점을 가지고 있다. 반면에 용액법은 제조공정이 쉬우며, 저가 대량생산이 가능하다는 이점이 있다. 더욱이 본래 용액법에서는 $WS_2$를 합성하기 위해 $WO_3$를 추가적으로 합성 후 진행하였지만, 쉽게 제조 가능한 $WO_3$ colloidal 용액을 이용하면 sulfurization을 진행하여 $WS_2$를 합성할 수 있다. colloidal 용액을 이용한 합성법은 입자크기 조절이 가능하기 때문에 균일한 나노입자를 uniform 하게 형성할 수 있는 장점이 있다. 본 연구에서는 $WO_3$ colloidal 용액을 spin coating 과 sulfurzation 공정을 거쳐 2D triangle $WS_2$의 합성 및 특성을 분석하였다. 2D $WS_2$의 나노결정구조, 입자 형상 및 광학 특성을 주사전자현미경, 라만 분광기, x-ray 회절분석기 등을 통해 확인하였다. 또한, 합성된 $WS_2$를 이용하여 트랜지스터를 제작하여 전기적 특성을 확인하였다.
Jurng, Sunhyung;Park, Sangjin;Ryu, Ji Heon;Oh, Seung M.
Journal of the Korean Electrochemical Society
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v.18
no.3
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pp.130-135
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2015
The rate capability and low-temperature characteristics of graphite electrode are investigated after surface treatment with copper phthalocyanine (CuPc) or phthalocyanine (Pc). Uniform coating layers comprising amorphous carbon or copper are generated after the treatment. The rate performance of graphite electrodes is enhanced by the surface treatment, which is more prominent with CuPc. The resistance of the graphite electrode estimated from electrochemical impedance spectroscopy and pulse resistance measurement is the smallest for the CuPc-treated graphite. It is likely that the amorphous carbon layer formed by the decomposition of Pc facilitates $Li^+$ diffusion and the metallic copper derived from CuPc improves the electrical conductivity of the graphite electrode.
NiO-coated YSZ powder was prepared using heterogeneous precipitation of Ni hydroxides on YSZ particle surface and high energy milling. The powders were characterized by TG/DTA, XRD, XPS, and SEM. Amorphous Ni precipitate completely decomposed into NiO at $500^{\circ}C$ and the growth of NiO crystallites was constrained by the core particles. Nanocrystalline NiO-coated YSZ core-shell structure powder could be obtained after calcination at $800^{\circ}C$ for 2 h. A core-shell powder compact, due to high sinterability, showed a near theoretical density at $1350^{\circ}C$. After reduction at $900^{\circ}C$, interpenetrating Ni-YSZ microstructure with very uniformly distributed fine Ni and YSZ grains and pores was observed. In contrast, the mechanically mixed oxide sample showed less uniform distribution of pores and larger discontinuous We particles as compared with the core-shell samples.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.48
no.6
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pp.7-14
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2011
This paper is related to a roll-type micro-contact printing process. The proper parameters such as coating velocity, inking velocity, printing velocity and printing pressure as well as Ag contents of Ag ink were extracted to perform the fine patterning of Ag electrodes. Additionally we developed a process for PDMS with high uniform thickness. Finally, we obtained the Ag fine electrodes on $4.5cm\;{\times}\;4.5cm$ plastic substrate with the line width of 10 um, thickness less than 300 nm, surface roughness less than 40 nm, and the specific resistance of $2.08\;{\times}\;10^{-5}{\Omega}{\cdot}cm$.
Han, Moon-Ki;Kim, Taehwan;Cha, Ju-Hong;Kim, Dong-Hyun;Lee, Hae June;Lee, Ho-Jun
Applied Science and Convergence Technology
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v.26
no.2
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pp.34-41
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2017
A 2.45 GHz microwave plasma with linear antenna has been prepared for hydrophobic and wear-resistible surface coating of carbon steel. Wear-resistible properties are required for the surface protection of cutting tools and achieved by depositing a hydrogenated amorphous carbon film on steel surface through linear microwave plasma source that has $TE_{10}-TEM$ waveguide. Compared to the existing RF plasma source driven by 13.56 MHz, linear microwave plasma source can easily generate high density plasma and provide faster deposition rate and wider process windows. In this study, $Ar/CH_4$ gas mixtures are used for hydrogenated amorphous carbon film deposition. When microwave power of 1000 W is applied, 40 cm long uniform $Ar/CH_4$ plasma could be obtained in gas pressure of 200~400 mTorr. The Vickers hardness measurement of hydrogenated amorphous carbon film on steel surface was evaluated. It was found the optimized deposition condition at $Ar:CH_4=25:25$ sccm, 300 mTorr with microwave power of 1000W and RF bias power of 100W. By deposition of hydrogenated amorphous carbon film, contact angle on steel surfaces increases from $43.9^{\circ}$ to $93.2^{\circ}$.
To achieve the fabrication of high-quality Ag-coated Cu particles through a wet chemical process, we reported herein pretreatment conditions using an ammonium-based mixed solvent for the removal of a $Cu_2O$ layer on Cu particles that were oxidized in air for 1 hr at $200^{\circ}C$ or for 3 days at room temperature. Furthermore, we discussed the results of post-Ag plating with respect to removal level of the oxide layer. X-ray diffraction results revealed that the removal rate of the oxide layer is directly proportional to the concentration of the pretreatment solvent. With the results of Auger electron spectroscopy using oxidized Cu plates, the concentrations required to completely remove 50-nm-thick and 2-nm-thick oxides within 5 min were determined to be X2.5 and X0.13. However, the optimal concentrations in an actual Ag plating process using Cu powder increased to X0.4 and X0.5, respectively, because the oxidation in powder may be accelerated and the complete removal of oxide should be tuned to the thickest oxide layer among all the particles. Back-scattered electron images showed the formation of pure fine Ag particles instead of a uniform and smooth Ag coating in the Ag plating performed after incomplete removal of the oxide layer, indicating that the remaining oxide layer obstructs heterogeneous nucleation and plating by reduced Ag atoms.
$TiB_2$-TiN double-layer coating have been prepared by ion beam enhanced deposition. AES, XRD, TEM and HRTEM were employed to characterize the $TiB_2$ layer. The microhardness of the coatings was evaluated by an ultra low-load microhardness indenter system, and the tribological behavior was examined by a ball-on-disc tribology wear tester. It was found that in a single titanium diboride layer, the composition is uniform along the depth of the film, and it is mainly composed of nanocrystalline $TiB_2$ with hexagonal structure, which resulted from the ion bombardment during the film growth. The hardness of the $TiB_2$ films increases with increasing ion energy, and approaches a maximum value of the $TiB_2$ films increases with increasing ion energy, and approaches a maximum value of 39 Gpa at ion energy of 85 keV. The tribological property of the TiB2 films is also improved by higher energy of 85keV. The tribological property of the $TiB_2$ films is also improved by higher energy ion beam bombardment. There is no major disparity in the mechanical properties of double-layer $TiB_2$/TiN coatings and TiN/$TiB_2$ coatings. Both show an improved wear resistance compared with single-layer $TiB_2$ films. The adhesion of double-layer coatings is also superior to that of single-layer films.
Polysilazane and polymethylsilazane based precursor films were deposited on Si-substrate by spin-coating, subsequently annealed at $150{\sim}850^{\circ}C$, and characterized. Structural analysis, shrink, compositional change, etch rate, and gap-filling were observed. Annealing the precursor films led to formation of spin-on dielectric films. C-containing precursor films showed that less loss of N, H, and C while less gain of O than that of C-free precursor films at $400^{\circ}C$, but more loss of N, H, and C while more gain of O at $850^{\circ}C$. Thus polysilazane based precursor films exhibited less reduction in thickness of 14.5% than silazane based one of 15.6% at $400^{\circ}C$ but more 37.4% than 19.4% at $850^{\circ}C$. FTIR indicated that C induced smaller amount of Si-O bond, non-uniform property, and lower resistance to chemical etching.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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