• 제목/요약/키워드: UV trends

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Solar Ultraviolet Irradiance Incident on a Horizontal Surface At taegu In Korea During 1995-1998 : (I) Ultraviolet -A

  • Suh, Kye-Hong
    • Journal of Photoscience
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    • 제6권1호
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    • pp.1-3
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    • 1999
  • Solar ultraviolet-A (UV-A) irradiances indicent on a horizontal surface at Taegu of Korea during 1995-1998 were calculated with 5 min averages of measurements taken every 30 seconds by a broadband UV- A sensor. The maximum and minimum of monthly averages of daily UV-A dose were 499.37 KJ m-2 day-1 inJuly and 171.09 KJ m--2 day-1 in December for 4 years of the observation period. The maxima of daily UV-A dose and instandaneous UV-A were observed as 846.46KJ m-2 day-1 June 7, 1998 and 37.22 W m-2 at 12 : 15, July 16, 1998, respectively. Increasing trends in annual maxima of daily UV-A dose and instantaneous UV-A were averaged to 6.4% and 6.7% , respectively, per year during 1995-1998 at Taegu, Korea.

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자외선 광을 활용하는 화학기계적 연마에 관한 연구 동향 (Research Trends on Chemical Mechanical Polishing Using Ultraviolet Light)

  • 이현섭
    • Tribology and Lubricants
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    • 제38권6호
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    • pp.247-254
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    • 2022
  • Chemical mechanical polishing (CMP) is a hybrid surface-polishing process that utilizes both mechanical and chemical energy. However, the recently emerging semiconductor substrate and thin film materials are challenging to process using the existing CMP. Therefore, previous researchers have conducted studies to increase the material removal rate (MRR) of CMP. Most materials studied to improve MRR have high hardness and chemical stability. Methods for enhancing the material removal efficiency of CMP include additional provision of electric, thermal, light, mechanical, and chemical energies. This study aims to introduce research trends on CMP using ultraviolet (UV) light to these methods to improve the material removal efficiency of CMP. This method, photocatalysis-assisted chemical mechanical polishing (PCMP), utilizes photocatalytic oxidation using UV light. In this study, the target materials of the PCMP application include SiC, GaN, GaAs, and Ru. This study explains the photocatalytic reaction, which is the basic principle of PCMP, and reviews studies on PCMP according to materials. Additionally, the researchers classified the PCMP system used in existing studies and presented the course for further investigation of PCMP. This study aims to aid in understanding PCMP and set the direction of future research. Lastly, since there have not been many studies on the tribology characteristics in PCMP, research on this is expected to be required.

피부미용 관련 천연 자외선 차단 소재 연구동향 분석 (A Study on the Trends of the Natural UV Protection Materials Related to Skin Beauty)

  • 김현숙
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제38권1호
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    • pp.107-117
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    • 2021
  • 본 연구의 목적은 천연 소재를 이용한 자외선 차단 제품 개발의 기초 자료로 제공하는 것을 목적으로 하였다. 연구 방법은 피부미용 관련 자외선 차단제의 국내외 산업 현황과 천연 소재 연구 동향, 그리고 특허 현황을 조사하여 분석하였다. 연구 결과 자외선 차단제는 미국 시장이 전 세계의 약 21%를 차지하는 가장 큰 시장이며 중국 시장이 급격하게 성장하고 있다. 기능성 화장품 주요 4종의 국내 생산실적 1위는 복합기능제품이며, 주름개선과 자외선 차단제, 미백의 순으로 나타났으며 세계시장 및 국내시장 모두 지속적으로 성장하고 있다. 최근 10년간 천연 자외선 차단 소재 연구동향을 조사하여 분석한 결과 황금, 홉, 감초, 핑거루트, 녹차, 야관문 추출물 등이 효능이 있으며 그 이외에도 광노화, 항산화, 항염, 항균, 미백, 주름개선 등의 효능도 있는 것으로 나타났다. 특허 등록 현황은 건수가 증가하는 추세이며 식물이나 해조류에서 성분을 확보하고 있었다. 본 연구의 결론은 향후 세계적 트렌드에 맞춰 안전하고 효능이 증명된 천연 자외선 차단 소재들을 개발해 간다면 다기능 천연 기능성 화장품 소재로 충분히 활용 가능할 것으로 전망된다.

질화물 반도체 기반 자외선광원 기술동향 (Trends of UV Light Sources Based on Nitride Semiconductor)

  • 김성복;임영안
    • 전자통신동향분석
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    • 제30권6호
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    • pp.42-49
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    • 2015
  • 질화물 반도체 기반 가시광 청색 Light Emitting Diode(LED) 기술은 디스플레이의 Back Light Unit(BLU)뿐 아니라 일반 조명에 활용되며 우리 실생활에서 매우 밀접하게 사용하고 있다. 가시광보다 짧은 파장을 가지는 자외선 LED의 경우 경화기 및 위폐감지기에 기존의 유해 가스를 사용하는 자외선 램프를 대체하고 있다. 자외선 광원의 또 다른 거대 시장으로 살균 및 정화, 의료 및 바이오 응용 시장에서 자외선 램프를 대체할 수 있는 자외선 LED 기술이 활발히 발전하고 있다. 본고에서는 이들 자외선광원 시장동향과 국내외 자외선 LED의 기술동향을 파악하므로 앞으로 연구개발의 방향을 모색하고자 한다.

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고분자형 자외선 안정제를 함유한 SBR과 NR의 UV 노화 거동에 관한 연구 (A Study on UV Degradation of SBR and NR Containing Polymeric UV Stabilizer)

  • 강신영;남경태;홍창국;채규호
    • Elastomers and Composites
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    • 제41권3호
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    • pp.182-193
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    • 2006
  • 본 연구에서는 고분자형 자외선 안정제 DGEBA-HALS의 광분해 억제 효과를 평가하기 위해 SBR과 NR 고무를 사용하여 광안정제 첨가에 따른 UV 조사 영향을 고찰하였다. 이를 위해 광안정제를 첨가하지 않은 배합고무, 상용화된 광안정제인 Cyabsorb UV-3529를 첨가한 배합고무, 그리고 고분자형 DGEBA-HALS를 첨가한 배합고무의 영율, 인장강도, blow-off 변형, 가교밀도 측정을 통한 시편의 물리적 특성변화 등을 관찰하였다. UV 조사 후 모든 시편에서 영율이 증가하였으며 인장강도는 광안정제를 첨가한 시편이 첨가하지 않은 시편보다 우수했다. 특히 NR의 경우 DGEBA-HALS 첨가 시 인장강도가 향상되었다. Blow-off 변형 실험결과도 영율 실험 결과와 비슷하였다. UV-vis transmission spectra를 통한 SBR 배합고무의 투과도를 조사한 결과 광안정제를 첨가함으로써 약 4%의 향상된 투과도를 보였다. Cyabsorb UV-3529와 DGEBA-HALS의 첨가는 비슷한 경향의 투과도를 나타내었다. SEM을 통해 시편의 표면을 관찰한 결과 광안정제를 첨가함으로써 UV 조사에 의한 균열의 크기가 작아짐을 알 수 있었고, 특히 DGEBA-HALS는 상용화된 Cyabsorb UV-3529 보다 더 좋은 광분해 안정효과를 갖는 것을 확인할 수 있었다.

Surface Discoloration of Ultraviolet (UV)-Irradiated Phyllostachys bambusoides Bamboo

  • Hyoung-Woo LEE;Eun-Ju LEE;Yoon-Jung SHIN;Ha-Yeong JO;Dae-Yeon SONG
    • Journal of the Korean Wood Science and Technology
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    • 제51권3호
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    • pp.173-182
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    • 2023
  • Color is an attribute of visual perception and can be an important factor that affects the preference of customers toward bamboo and wood products. Solar radiation can discolor bamboo surfaces and initiate cracking. The purpose of this study is to investigate the effects of an ultraviolet (UV)-protective coating on the photodiscoloration of untreated and heat-treated Phyllostachys bambusoides bamboo surfaces. Artificial UVA radiators are set at a UVA irradiance of 2,000 W/m2 to accelerate the aging of the outer surfaces of hot-air-dried and heat-treated bamboo samples. Half of the samples are coated with transparent UV-protective paint. As the UVA radiation progresses, the discoloration prevention efficiency (DPE) of the UV-protective coating on all samples decreases gradually. The DPEs of the hot-air-dried samples are estimated to be 31.4% and 18.8% after 21 and 72 hours of artificial UVA radiation, respectively. The heat-treated samples exhibit similar trends (29.0% after 21 hours and 10.3% after 72 hours). Recoating the UV-protective paint periodically every six months is expected to minimize the discoloration of the bamboo's outer surface.

허니컴방식 UV 살균기를 이용한 살균 탁주의 저장 중 품질변화 (Changes in Quality of UV Sterilized Takju during Storage by Honeycomb Type-UV Sterilizer)

  • 이장운;정진주;최은주;강성태
    • 한국식품과학회지
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    • 제41권6호
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    • pp.652-656
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    • 2009
  • 탁주를 효과적으로 살균하기 위해서 110가닥의 테프론 튜브와 9개의 자외선(UV) 램프(1,335W)로 구성된 허니컴방식의 UV 살균기를 제작하고 탁주를 순환시켜 살균하여 미생물 살균효과 및 저장 중의 품질변화를 평가하였다. 허니컴방식의 UV 살균기에서 유속 2 L/min에서 4분 동안 탁주를 순환시킨 조건은, 일반세균 및 진균을 2-3 log cycle 감소시키면서 관능적으로 양호한 품질을 얻을 수 있는 최적의 살균조건으로 판단되었다. 이 조건에서 살균 처리한 탁주를 $30^{\circ}C$에서 8일간 저장하면서 pH, 아미노태질소 함량, 환원당 함량, 산도, 그리고 일반세균수 및 진균수의 변화를 측정하였다. pH, 산도, 아미노태 질소 함량은 저장 중에 생탁주와 UV 살균탁주에서 모두 증가하는 경향을 나타낸 반면 환원당 함량은 감소하는 경향을 나타내었다. 또한 생탁주와 UV살균탁주의 L, a, b 값은 저장 중에 매우 유사한 경향을 나타내었다. 저장 중에 UV 살균탁주의 진균은 생육이 억제되었으며 일반세균은 저장 4일째에 생탁주 수준에 도달하였다.

친환경 UV/EB 경화형 기능성 코팅 기술 (Environment-friendly Coating Technology of UV/EB Radiation Curing)

  • 이정복;이진휘;성기천
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제29권1호
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    • pp.159-173
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    • 2012
  • UV 경화기술은 라디칼 경화와 양이온 경화로서 크게 2 종류로 분류할 수 있다. 이 기술은 플라스틱과 금속간의 여러 기재에 대한 기능성을 개선하기 위해서 표면처리기술에 주로 초점이 맞추어져 왔다. 반면에, Electron beam 기술은 새로운 기능성 재료들을 창출하기 위해 중합공정뿐만 아니라 가교반응들을 다루었다. 이들 두 기술들은 종래의 열경화성 코팅과 비교할 때, 에너지이용 효율과 환경 친화적이어서, 건조와 경화 공정으로 부터 배출되는 탄산가스와 휘발성 유기물을 대폭 감소시킨다. 이 논문에서는 UV 경화 코팅에서 흔히 사용되는 라디칼 경화기술과, 최근의 있는 양이온 경화와 관련된 기술을 다룬 리뷰 논문이다.

UV NIL공정에서 액적의 양과 도포방법에 따른 기포형성 연구 (A Study on the Formation of Air Bubble by the Droplet Volume and Dispensing Method in UV NIL)

  • 이기연;김국원
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제14권9호
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    • pp.4178-4184
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    • 2013
  • 최근 나노임프린트 리소그래피 공정이 마이크로/나노 스케일의 소자 개발에 있어서 경제적으로 대량 생산할 수 있는 기술로 주목 받고 있다. 최근 나노임프린트 기술은 공정의 고속화 및 대면적화를 통한 대량생산 기술로의 전환을 목표로 하고 있다. 자외선경화 방식의 나노임프린트의 경우 상온 및 저압의 장점과 함께 비진공 환경에서 공정이 가능하다면 진공챔버 및 고압 스테이지 등과 같은 고가의 장비가 필요 없게 됨으로써 설비비용을 낮추고 공정시간을 단축하는데 큰 기여를 할 수 있다. 그러나 비진공 환경에서는 기포결함이 종종 발생하게 된다. 본 연구에서는 비진공 환경에서의 자외선경화 방식의 나노임프린트 공정 중 레지스트의 액적도포 방법에 따른 기포형성을 연구하였다. 액적의 양과 액적의 수를 달리하여 도포한 레지스트에 대하여 충전 후 기포결함 발생을 분석하였다.

서울의 최근 자외선 복사의 변화 2004~2010 (Recent Variations of UV Irradiance at Seoul 2004~2010)

  • 김준;박상서;조나영;김우경;조희구
    • 대기
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    • 제21권4호
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    • pp.429-438
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    • 2011
  • The climatology of surface UV radiation for Seoul, presented in Cho et al. (1998; 2001), has been updated using measurement of surface erythemal ultraviolet (EUV) and total ultraviolet (TUV) irradiance (wavelength 286.5~363.0 nm) by a Brewer Spectrophotometer (MK-IV) for the period 2004~2010. The analysis was also carried out together with the broadband total (global) solar irradiance (TR ; 305~2800 nm) and cloud amount to compare with the UV variations, measured by Seoul meteorological station of Korean Meteorological Agency located near the present study site. Under all-sky conditions, the day-to-day variability of EUV exhibits annual mean of 98% in increase and 31% in decrease. It has been also shown that the EUV variability is 17 times as high as the total ozone in positive change, whereas this is 6 times higher in negative change. Thus, the day to day variability is dominantly caused rather by the daily synoptic situations than by the ozone variability. Annual mean value of daily EUV and TUV shows $1.62kJm^{-2}$ and $0.63MJm^{-2}$ respectively, whereas mean value of TR is $12.4MJm^{-2}$ ($143.1Wm^{-2}$). The yearly maximum in noon-time UV Index (UVI) varies between 9 and 11 depending on time of year. The highest UVI shows 11 on 20 July, 2008 during the period 2004~2010, but for the period 1994~2000, the index of 12 was recorded on 13 July, 1994 (Cho et al., 2001). A 40% of daily maximum UVI belongs to "low (UVI < 2)", whereas the UVI less than 5% of the maximum show "very high (8 < UVI < 10)". On average, the maximum UVI exceeded 8 on 9 days per year. The values of Tropospheric Emission Monitoring Internet Service (TEMIS) EUV and UVI under cloud-free conditions are 1.8 times and 1.5 times, respectively, higher than the all-sky measurements by the Brewer. The trend analysis in fractional deviation of monthly UV from the reference value shows a decrease of -0.83% and -0.90% $decade^{-1}$ in the EUV and TUV, respectively, whereas the TR trend is near zero (+0.11% $decade^{-1}$). The trend is statistically significant except for TR trend (p = 0.279). It is possible that the recent UV decrease is mainly associated with increase in total ozone, but the trend in TR can be attributed to the other parameters such as clouds except the ozone. Certainly, the cloud effects suggest that the reason for the differences between UV and TR trends can be explained. In order to estimate cloud effects, the EUV, TUV and TR irradiances have been also evaluated for clear skies (cloud cover < 25%) and cloudy skies (cloud cover ${\geq}$ 75%). Annual mean values show that EUV, TUV and TR are $2.15kJm^{-2}$, $0.83MJm^{-2}$, and $17.9MJm^{-2}$ for clear skies, and $1.24kJm^{-2}$, $0.46MJm^{-2}$, and $7.2MJm^{-2}$ for cloudy skies, respectively. As results, the transmission of radiation through clouds under cloudy-sky conditions is observed to be 58%, 55% and 40% for EUV, TUV and TR, respectively. Consequently, it is clear that the cloud effects on EUV and TUV are 18% and 15%, respectively lower than the effects on TR under cloudy-sky conditions. Clouds under all-sky conditions (average of cloud cover is 5 tenths) reduced the EUV and TUV to about 25% of the clear-sky (cloud cover < 25%) values, whereas for TR, this was 31%. As a result, it is noted that the UV radiation is attenuated less than TR by clouds under all weather conditions.