본 연구는 기존의 광촉매 산화 기술에서 주로 사용된 자외선램프의 단점을 보완할 수 있는 대체 광원인 자외선 LED를 사용하여 자유 시안을 폐수로부터 제거하는 공정을 평가하고자 수행되었다. 특히 광촉매 산화 공정의 다양한 영향 인자들에 대해 살펴보았다. 연구 결과, 자외선 LED는 기존의 광원인 자외선램프를 대체할 수 있는 적용성을 확인할 수 있었다. 뿐만 아니라 LED 개수를 증가할수록 광촉매 산화 반응의 효율은 증가하였으나, 공정의 경제성과 효율성을 동시에 만족시키기 위해서는 최적의 LED의 개수를 선정할 필요가 있다는 것을 확인하였다. 광촉매로 이용된 아나타제(anatase), 루틸(rutile), Degussa P25 등 세 종류의 $TiO_2$ 중 Degussa P25가 가장 높은 성능을 보였으며, 아나타제(anatase)와 루틸(rutile)을 특별한 전처리 과정없이 단순하게 혼합하였을 때는 Degussa P25 만큼의 공정의 효율은 얻지 못했다. 또한 $TiO_2$의 입자 크기가 작을수록 광촉매 산화 반응이 더욱 활발하게 이루어졌다. 그리고 광촉매 산화 반응에 있어 주로 전자 수용체 역할을 수행하는 산소를 주입함으로써 공정의 효율이 증진되는 효과를 얻을 수 있었다.
광산에서 순도 높은 금은을 추출하기 위해 청화법을 이용해 왔다. 이러한 광산 활동에서 많은 양의 시안이 사용되어 왔으며 이에 따라 고농도의 시안을 함유한 광산폐수가 발생되어 광산 주변 지역의 수계를 오염시킬 수 있다. 본 연구에서는 이러한 시안함유 광산폐수 및 침출수로부터 시안을 제거하기 위하여 $TiO_2$ 광촉매와 UV-LED 광원을 이용한 광산화 공정에 대하여 연구하였다. 기존 광산화 공정에서는 주로 UV 램프가 광원으로 많이 사용되었지만 여러 가지 단점으로 인하여 본 연구에서는 그 대체 광원으로 UV-LED의 적용 가능성을 평가하였다. 세 종류의 $TiO_2$의 광산화 효율을 평가한 결과, 아나타제와 루틸이 혼합된 Degussa P25가 광산화 효율이 가장 좋은 것으로 확인되었다. 또한 형태와 파장이 다른 네 종류의 UV-LED를 비교 평가한 결과, 365 nm 램프형 > 365 nm 캔형 > 280 nm 캔형 > 420 nm 램프형 순으로 제거효율이 좋은 것으로 나타났다. 본 연구는 UV-LED는 기존의 UV 램프의 단점을 극복할 수 있는 대체광원으로서 광산화 공정에 적용 가능하다는 것을 입증하였으며, 시안의 광산화 효율은 $TiO_2$ 광촉매의 종류에도 영향을 받는다는 것을 확인하였다.
냉장고내 공기의 청정장치로 자외선 공기순환식 살균장치를 개발할 목적으로 6 watt 자외선 램프와 순환 fan을 사용하여 공기 청정장치를 설계, 제작하였다. 자외선량은 Bacillus subtilis 포자의 D value의 5배에 이르게 하였으며 순환공기의 유속은 0.785 m/s이었으며 공기의 살균부 체류시간은 0.382 s이었다. 동 장치를 실내공기, 부패 건초 분말과 Bacillus subtilis 포자 현탁액으로 오염시킨 공기를 실온에서 80% 청정시키는 살균효과를 거두어 냉장고용 공기청정기를 설계하는데 필요한 자료를 얻었다.
International Journal of Computer Science & Network Security
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제22권1호
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pp.175-182
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2022
This work presents a simulation model for a specific UV disinfection system (UVDS) powered by a Photovoltaic System. The global UVDS also includes the electronic converters, Electronic Ballast, UV Lamp and Motor Pump. The equations that model the physical components' behaviour are connected to obtain a dynamic global model. The latter is converted in a Simulink/Matlab model, which allows to carry out simulation series concerning the entire UVDS. The physical parameters: the irradiation G and the temperature T, are considered as inputs. series of measurements carried out in order to show how these parameters affect the current, the voltage of the PVs and especially the value of the current of the UV lamp, on the other hand a study on the behavior and the evolution of the parameters of the motor pump such as the armature current, motor torque, speed of rotation and the water flow. The purpose of all this is to realize how important are the two parameters concerning the lamp current and the water flow because they are two very important factors to keep an adequate water quality.
UV technology is widely used in water and wastewater treatment. Many researches have been conducted on microbial disinfection and micro pollutant reduction with UV treatment. However, the study on NOM with UV has limited because low/medium pressure UV lamp is not sufficient to affect refractory organics such as NOM. Pulsed UV treatment using UV flash lamp can be operated in the pulsed mode with much greater peak intensity. The pulse duration is typically in microseconds, whereas the interval between pulses is in the order of milliseconds. The high intensity of pulsed UV would mineralize NOM itself as well as change the characteristics of NOM. Chlorine demand and DBPs formation is affected on the changed amounts and properties of NOM. The objective of this study is to investigate the effect on NOM, chlorine residual, and chlorinated DBPs formation with pulsed UV treatment.
Ultraviolet light(UV-C, wavelength: 200~280nm) is employed profitably for sterilizing drinking water. For most water serving apparatus such as a water purifier, a water cooler and heater, a coffee vending machine and etc., pre-sterilized water may be contaminated secondarily with bacillary inhabitation in a container before serving. In consideration of this problem, a household water tap which is equipped with a sterilization/Purification device in combination with non-contact UV-lamp, was designed to sterilize and purify water at the last outlet just before serving. Hopefully this simple but creative item may be commercialized for household and public use.
UV photolysis process is little known in parts of air pollution treatment, so there are not many applications in field. Therefore we have to do more experiment and study application possibility for treatment of VOCs(Volatile organic compounds). To solve these problems, we have been studying for simultaneous application of this technology. It has shown that concentration of TCE and B.T.X., diameter of reactor and wavelength of lamp have effected on decomposition efficiency. Analysis of TCE and B.T.X. concentration was carried out by GC-FID. A cylinderical reactor consisting of a quartz tube and a centrally located lamp(${\psi}25mm$) was used. The length and diameter of reactor were 1800mm, 75mm. It has shown that the generated ozone concentration goes up 250ppm when using 64watt ozone lamp. When using Photolysis process only, the rates of fractional conversion of each material are TCE 79%, Benzene 65%, Toluene 68%, Xylene 76%. This phenomenon can be rationalized in terms of the different bond energy that indicates how easily VOCs species can be decomposed.
Deterministic and probabilistic approaches to the design of ultraviolet (UV) disinfection system for water reclamation are reviewed and discussed. The high inactivation of TC, FC and E. coli by UV disinfection was demonstrated and the inactivations of TC, FC and E. coli were 97%, 98% and 99%, respectively. Within the range of 0.3-4.5mWs/cm, the effect of UV does on the inactivation ratio was not observed. However, in the highest wattage of UV lamp, 39W, the inactivation ratio of TC, FC and E. coli was 100%, regardless of the UV does so the UV density was more effective on inactivation ratio of TC, FC and E. coli rather than UV does. Under the 0.4 mWs/cm and 16W of UV lamp, the effect of dissolved organic matter and turbidity on the inactivations of TC, FC and E. coli could not be observed in this study within the range of 0-60mg/L and 0-40 NTU respectively.
This study evaluated the applicability of UV-AOP process using medium-pressure UV lamp and H2O2 to remove TOC and emerging micropollutants in the effluent from a sewage treatment plant. The UV lamp with higher output(1.6~8.0 kW) showed slightly higher amount of power in removing TOC of 1 mg/L(0.09 kWh/mg/L~0.11 kWh/mg/L), however it was found that there was no significant difference for each cases. In addition, under the condition that the H2O2 concentration is sufficient, as the power consumption of the UV lamp increases, the unit TOC removal concentration per unit H2O2 decomposition concentration also increases, resulting in effective removal of TOC. The removal rate of 7 new trace contaminants, such as antibiotics by the UV-AOP tested, was at least 89.4%, and the ability to remove the emerging micro pollutants in the process was very effective. But, it was judged that it could not be excluded that the probablity of transforming to oxidated by-product in the case of a low TOC removal efficiency. Depending on the operating conditions of the UV and H2O2 processes, a higher BOD concentration is found in the treated water than in the influent, and it is necessary to review the UV power and proper injection conditions of H2O2 to maintain the BOD concentration increase below a certain level.
This study shows an air-purification test by the UV lamp on which TiO2 catalyst is deposited with glass fiber in the reactor chamber. This test was based on the fundamental data of air-purifier as assessing a removing ability on various contaminants such as CH3COOH, NH3, NO and SO2 as variation of the TiO2 coating, the wave of UV lamp, and the additive CaO. As a result, the highest decomposing removal ratio was shown when 5-times coated glass fiber was used. It can be due to the recombination reaction of electrons and electron-hole in the loaded CaO. Thus, the decomposing removal ratio increased as the recombination ratio decreased. In addition, it was confirmed that the decomposing removal ratio lowered when CaO was considerably deposited because it hided the lamp of OH-1 radical.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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