Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.03a
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pp.191-191
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2003
가시광선영역에서 높은 광학적 투명도를 갖는 n-type 반도체인 ZnO 박막은 넓은 범위에서 응용되고 있다. 현재 ZnO 박막의 특성 향상을 위하여 여러 원소(Al, Ga)의 도핑을 시도하고 있다. 특히 Al-doped ZnO 박막은 sol-gel dip coating에 의해서도 높은 전기전도도와 투과율로 활발히 연구되고 있다 본 논문에서는 여러 도핑농도를 갖는 Al-doped ZnO 박막이 sol-gel dip coating법에 의해 준비되었다. Al-doped ZnO 박막은 zinc acetate [Zn($CH_3$COO$_2$)ㆍ2$H_2O$] powder 와 여러 도핑농도를 갖는 aluminum nitrate (Al(NO$_3$)$_3$ㆍ9$H_2O$) powder를 알코올에 용해하여 $H_2O$, Ethylene glycol, Ethylene diamine 등을 첨가하여 제조하였다 XRD와 SEM (Scanning electron microscope)이 막의 상형성 분석을 위해 이용되었으며, 가시광선 영역 투과율(UV/VIS spectrophotometer)과 표면전기저항(four point probe)이 주요 특성으로 분석되었다.
Tungsten trioxide thin films are successfully synthesized by a sol-gel method using tungsten hexachloride as precursors. The structural, chemical, and optical properties of the prepared films are characterized by scanning electron microscopy, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, and UV-Vis spectrophotometry. The electrochemical and electrochromic properties of the films before and after heat treatment are also investigated by cyclic voltammetry, chronoamperometry, and in situ transmittance measurement system. Compared to as-prepared films, heat-treated tungsten trioxide thin films exhibit a higher electrochemical reversibility of 0.81 and superior coloration efficiency of $65.7cm^2/C$, which implies that heat treatment at an appropriate temperature is a crucial process in a sol-gel method for having a better electrochromic performance.
ZnO thin films with preferred orientation along the (0 0 2) plane were fabricated by a sol-gel method. The effects of the annealing temperature, time, and thickness were studied by investigating UV-visible spectra, FT-IR spectra, and XRD of ZnO films. The films were dried and annealed ed at $100^{\circ}C,\;200^{\circ}C$, and $300^{\circ}C$ for 1hr, 2hrs, and 3hrs, respectively. The film showed the preferred (0 0 2) orientation and high transmittance near 90% in the visible range. Also, SEM images of the films exhibited very smooth surfaces without holes and cracks. Schottky diodes were fabricated by using ZnO sol-gel material. Au and Al were used as electrodes to make Ohmic and Schottky contacts, respectively. The annealing temperature, time and the thickness dependent I-V characteristics were presented in this article.
Kim, Byoung-Suhk;Li Chen;Gong, Jian-Ping;Yoshihito Osada
Macromolecular Research
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v.8
no.3
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pp.116-119
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2000
The doping behaviors of water-soluble poly(3-thiopheneacetic acid) (P3TAA) and ie gel using I$_2$and concentrated HCIO$_4$aqueous solutions were investigated by UV-Visible absorption spectrometer. Electrical conductivity of tile doped polyhiophene gel was also studied. I$_2$-doping of water-soluble P3TAA gave rise to a new broad polaron peak at around 749 nm, which corresponds to localization of electron. It was found that doping ability of P3TAA gel was strikingly dependent on the concentration of HCIQ solution.
Jeeho Park;Young-Seok Song;Sukang Bae;Tae-Wook Kim
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.30
no.3
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pp.56-63
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2023
In this paper, we studied the effect of electron beam irradiation on sol-gel indium-gallium-zinc oxide (IGZO) thin films under air and nitrogen atmosphere and carried out the electrical characterization of the s ol-gel IGZO thin film transistors (TFTs). To investigate the optical properties, crystalline structure and chemical state of the sol-gel IGZO thin films after electron beam irradiation, UV-Visible spectroscopy, X-ray diffraction (XRD), and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) were carried out. The sol-gel IGZO thin films exhibited over 80% transmittance in the visible range. The XRD analysis confirmed the amorphous nature of the sol-gel IGZO films regardless of electron beam irradiation. When electron beam irradiation was conducted in a nitrogen (N2) atmosphere, we observed an increased proportion of peaks related to M-O bonding contributed to the improved quality of the thin films. Sol-gel IGZO TFTs subjected to electron beam exposure in a nitrogen atmosphere exhibited enhanced electrical characteristics in terms of on/off ratio and electron mobility. In addition, the electrical parameters of the transistor (on/off ratio, threshold voltage, electron mobility, subthreshold swing) remained relatively stable over time, indicating that the electron beam exposure process in a nitrogen atmosphere could enhance the reliability of IGZO-based thin-film transistors in the fabrication of sol-gel processed TFTs.
Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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v.31
no.10
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pp.927-932
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2009
Toxic and recalcitrant organic pollutants in wastewaters can be effectively treated when advanced oxidation and biodegradation are combined, ideally with intimate coupling, in which both processes occur simultaneously in the same system. One means to achieve intimate coupling is to coat nanoscale $TiO_2$ on the outside of macroporous biofilm carriers. This study investigated the kinetics of photocatalysis with $TiO_2$-coated porous carriers. The carriers were made of polyvinyl alcohol (PVA) and coated with $TiO_2$ using a low-temperature sol-gel process. The $TiO_2$-coated carriers catalyzed the oxidation of methylene blue (MB) effectively under irradiation of UV light. The overall reaction rate with adsorption and photolysis saturated at high MB concentration, and approached the adsorption rate, which was first order for all MB concent rations. This result indicates that adsorbed MB may have slowed photocatalysis by blocking active sites for photocatalysis. The overall kinetics could be described by a quasi-Langmuir model. The estimated maximum specific (per unit mass of $TiO_2$) transformation rate of MB by the $TiO_2$-coated carriers was four times larger than that obtained from slurry-$TiO_2$ reactors. This observation demonstrated that the $TiO_2$ present as a coating on the carriers maintained high efficiency for transforming recalcitrant organic matter via photocatalysis. These findings serve as a foundation for advancement of an intimate coupling of photocatalysis to biodegradation.
In the last decade, there has been an exponential increase of scientific interest in smart additive manufacturing (AM) technology. Among the different AM techniques, one of the most commonly applied processes is digital light processing (DLP). DLP uses a digital projector screen to flash an ultraviolet light which cures photopolymer resins. The resin is cured to form a solid to produce parts with precise high dimensional accuracy. During the curing process, there are several process parameters that need to be optimized. Among these, the exposure time affects the quality of the 3D printed specimen such as mechanical strength and dimensional accuracy. This study examines optimal exposure times and their impact on printed part. It was found that there is optimal exposure time for printed part to have appropriate mechanical strength and accurate dimensions. The gel fraction and TGA test results confirmed that the improvement of mechanical properties with the increasing UV exposure time was due to the increase of crosslinked network formation with UV exposure time in acrylic resins. In addition, gel fraction and thermogravimetric analysis were employed to microscopically investigate how this process parameter impacts mechanical performance.
A series of UV-curable powder coatings with different contents of photoinitiator (0.5 wt%, 1 wt%, 2 wt%) were formulated and measured gel content, tensile strength of cured film. Heat-sensitive substrates such as MDF, plywood and PVC were coated UV-curable powder and cured coatings were measured physical properties by pendulum hardness tester, glossmeter, pull-off adhesion tester. With increasing photoinitiator content, adhesion force between coating and substrate decreased because of crosslinking density increasing. The results of pendulum hardness was not significantly changed but gloss was changed according to different substrates. Adhesion of UV-curable coatings was enough to apply for heat-sensitive substrates. From these results, we concluded that contents of photoinitiator was a effective factor in UV-curable powder coatings. UV-curable coatings was a portential candidate for heat-sensitive substrates.
Park, Young Min;Park, Chung Seo;Lee, Heum-Sook;Park, Mijung
Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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v.12
no.1
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pp.9-15
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2007
The aim of this study was to find the proper UV-A blocking percentage that could protect the denaturation of ribonuclease A (RNase A), one of protein enzymes in eye, induced by UV-A. RNase A was irradiated at 365 nm for 1, 3, 6, 24, 48, 72, 96 hr and the extent of denaturation was monitored by polyacrylamide gel electrophoresis. Furthermore, it was investigated whether blocking of UV-A by 20, 50, 80 and 99% eyeglass lens could protect the denaturation of RNase A or not. The denaturation of RNase A was induced by only 1 hr UV-A irradiation and the extent of denaturation became severe depending on UV-A irradiation time. The mild denaturation of RNase A induced by irradiation for 1 hr could be sufficiently protected by 20% UV-A blocking lens. When RNase A was irradiated for 3 hr, more that 50% blocking of UV-A needed to prevent the denaturation. Even though 99% UV-A blocking lens was used, the denaturation of RNase A induced by 6 hr irradiation could not be prevented perfectly. However, 99% UV-A blocking lens could dramatically decrease the severe denaturation of RNase A induced by irradiation for 96 hr.
Park, Mijung;Lee, Keum Hee;Lee, Eun Kyung;Park, Sang Hee;Kim, So Ra;Lee, Heum Sook
Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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v.13
no.4
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pp.43-49
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2008
Purpose: The current study was conducted to evaluate the compatibility of UV-A blocking contact lens on eye protection with regular contact lens. Methods: The protective activity of regular contact lens (UV-A blocking: 20%) and UV-A blocking contact lens (UV-A blocking: 85%) on the denaturation of RNase A, catalase, and superoxide dismutase (SOD) induced UV-A irradiation were compared by acrylamide gel electrophoresis. The enzyme solutions were irradiated with UV-A for 1, 3, 6, 24 and 96 hours at the wavelength of 365 nm. Covering area with contact lenses were varied as 50%, 70% and 100% according to the calculation of blocking areas of anterior eye that could be covered with RGP lens, soft contact lens, and eye glasses, respectively. Results: Denaturations of RNase, catalase and SOD were exaggerated when they were exposed to UV-A for a longer period. The denaturation was effectively prevented by UV-A blocking contact lens compared to regular contact lens. The capability of UV-A blocking contact lens was considerably reduced when the covering area with contact lens decreased and exposure time to UV-A extended. Conclusion: Therefore, it would be suggested that wearing contact lens for a long time under sunlight is carefully considered since the activity of UV-A blocking contact lens against UV-A irradiation may not be enough to protect enzymes presented in eyes when exposure time to UV-A increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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