• 대한치과보철학회:학술대회논문집
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• 대한치과보철학회 1999년도 Asian Academy of Prosthodntics. Korean Academy of Prosthodontics
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• pp.97-97
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• 1999

• 한국융합학회논문지
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• 제9권4호
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• pp.93-98
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• 2018

본 연구는 시력교정용 안경렌즈의 재질에 따른 자외선 차단 성능을 확인하고자 하였다. 안경렌즈 Acryl, CR-39, NK-55, MR-8 재질의 렌즈에 대하여 흠집 방지와 반사방지 코팅을 한 렌즈 Group A와 여기에 자외선 차단 코팅을 추가한 렌즈 Group B, 그리고 자외선 차단 전용렌즈 Group C에 대하여 자외선 투과율을 측정하였다. 그 결과, UV-A 파장에서 Group A는 CR-39 렌즈가 7.726 %, NK-55 렌즈, 0.043 %, MR-8과 Acryl 렌즈, 0.007 % 순 이었으며 Group B는 CR-39 렌즈가 0.038 %, NK-55 렌즈, 0.037 %, MR-8과 Acryl 렌즈, 0.007 % 순으로 나타나 CR-39 렌즈의 자외선 차단 성능이 크게 개선되었다. Group C는 굴절률이 1.60과 1.67에서 각각 0.005 %, 0.004 %로 나타나 자외선 차단 성능이 가장 우수하였다. 저 도수의 렌즈와 썬글라스의 경우, CR-39 렌즈를 가장 많이 사용하는 현실에서 자외선 차단을 위한 새로운 재질 또는 자외선 흡수제, 자외선 차단코팅 기술 등의 융 복합적 기술개발이 요구된다고 하겠다.

• 대한화장품학회지
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• 제41권3호
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• pp.189-199
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• 2015

본 연구에서는 유기 자외선 흡수제와 오일들 간의 용해도에 따른 자외선 차단제의 안정성과 유기 자외선 흡수제의 조합에 따른 이들의 자외선 차단 효율 변화를 조사하여 보다 안정하고 효율이 높은 자외선 차단제품 개발에 도움이 되고자 하였다. 그 결과 오일의 종류, 농도 그리고 보관 조건에 따라서 유기 자외선 흡수제의 용해도 및 안정성이 다양하게 관찰되었으며, 이러한 현상은 에멀젼상에서도 자외선 차단지수에 영향을 나타냄을 확인하였다. 또한 유기 자외선 흡수제의 조합에 따라 다양한 자외선 흡광도가 측정되었으며, 조합 시 각각의 자체 흡광도보다 높은 시너지 효과를 나타내는 성분이 있었고, 특정 성분과의 조합 시에만 시너지 효과가 나타나는 경우도 있었다. 보관 조건에 따라서도 자외선 흡광도는 상이하게 측정되어, 자외선 차단 효율에 영향을 나타내는 다양한 변수가 있음을 확인할 수 있었다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제35권2호
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• pp.392-396
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• 2014

New organic-inorganic composite of 2,4-dihydroxybenzophenone (BP-1) encapsulation into dodecylbenzenesulfonate (DBS) modified layered double hydroxide (LDH) was successfully prepared. The surface, structural, thermal and absorption properties of the BP-1/DBS-LDH nanohybrid was characterized by BET analysis, scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), thermogravimetric analysis (TG) and diffuse reflectance UV-Vis absorbance spectra (DRUV-vis). The interlayer configuration of composite and the adsorption mechanism of BP-1 on MgAl-DBS-LDH were discussed. It was suspected that DBS anions located in the form of monolayer arrangement with a $75^{\circ}$ anti parallel angle between dodecylbenzenesulfonate chain axis. The diffuse reflectance UV-Vis absorbance results revealed that the UV absorbing wavelength of BP-1/DBS-LDH evidently extends to about 400 nm, which shows that the BP-1/DBS-LDH has the potential application as a UV absorber.

• 대한화장품학회지
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• 제31권3호
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• pp.237-244
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• 2005

오랫동안 사용되어진 Sunscreen 제품들은 '화상없이 보기 좋게 태우기'라는 목적으로 발전을 거듭해 왔다. 최근 태양 자외선이 피부암을 유발시키는 주요 원인이며, 화상과 무관한 UVA에 의해서도 피부암이 유발된다는 보고와 함께 '보기좋게 태우기'에서 '태양광선으로부터 보호'라는 목적으로 제품의 진화를 계속해 오고 있다. 최근 이러한 동향과 함께 유럽에서 수년간 유기 UV 차단제가 개발되었으며, 본 보고에서 이들에 대한 발전과정을 논의하고자 한다. 이들 UV 차단제들은 UVB는 물론 UVA를 충분히 잘 흡수할 수 있으며, 어떤한 formulation에도 잘 포함될 수 있는 성질을 가지고 있다. 또한, 이들은 부작용 없는 안전한 물질들이다. 이들 차단제들은 290 nm에서 400 nm의 넓은 범위의 UV를 차단할 수 있어 다른 차단제들과 병용할 필요성을 감소시켜 준다.

• Journal of the Korean Wood Science and Technology
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• 제23권3호
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• pp.23-27
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• 1995

Several characteristic results of physical and optical properties of paper treated by UV light were obtained in the previous papers(Kim et al. 1988). In this paper, folding endurance and brightness of paper prepared by spraying photostabilizer were examined in order to elucidate photodegradation phenomena, UV light absorber and radical scavenger were most effective in preventing of folding endurance decrease. These results may be indicated that depolymerization of cellulose and hemicellulose chains leading to degradation of paper mechanical properties mainly caused by radical reaction. Ineffective hydroperoxide decomposer may be explained because of auto-oxidation reactions before forming stable compound from hydroperoxide.

• 대한기계학회논문집A
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• 제30권10호
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• pp.1314-1319
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• 2006

This paper describes the novel fabrication method of the high-aspect-ratio nano structure which is impossible by conventional method using a shadow mask and a Deep X-ray Lithography (DXRL). The shadow mask with $1{\mu}m-sized$ apertures is fabricated on the silicon membrane using a conventional UV-lithography. The size of aperture is reduced to 200nm by accumulated low stress silicon nitride using a LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) process. The X-ray mask is fabricated by depositing absorber layer (Au, $3{\mu}m$) on the back side of nano shadow mask. The thickness of an absorber layer must deposit dozens micrometers to obtain contrast more than 100 for a conventional DXRL process. The thickness of $3{\mu}m-absorber$ layer can get sufficient contrast using a central beam stop method, blocking high energy X-rays. The nano circle and nano line, 200nm in diameter in width, respectively, were demonstrated 700nm in height with a negative photoresist of SU-8.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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• pp.267-267
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• 2009

Solar cells with CIGS absorber layers have proven their suitability for high efficiency and stable low cost solar cells. We prepared and characterized particle based CIGS thin film using a non-vacuum processing. CIGS powder were obtained at $240^{\circ}C$ for 6 hours from the reaction of $CuCl_2$, $InCl_3$, $GaCl_3$, Se powder in solvent. The nanoparticle precursors were mixed with binder material. The CIGS thin film deposited on a sodalime glass. The CIGS thin film were identified to have a typical chalcopyrite tetragonal structure by using UV/Visible-spectroscopy, X-ray diffraction(XRD), Auger Electron Spectroscopy(AES), Scanning Electron Microscopy(SEM).

• 한국레이저가공학회지
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• 제6권1호
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• pp.33-40
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• 2003

The ablative decomposition mechanism of PMMA(polymethyl methacrylate) and PET(polyethylene terephthalate) with KrF excimer laser(λ : 248nm, pulse duration: 5㎱) is investigated. The UV/Vis spectrometer analysis showed that PMMA is a weak absorber and PET is a strong absorber at the wavelength of 248nm. The results(surface debris, melt, etch depth, etching shape) from drilling and direct writing experiments imply that ablation mechanism of PMMA is dominated by photothermal process, while that of PET is dominated by photochemical process.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.1857-1860
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• 2003

The ablative decomposition mechanism of PMMA(polymethyt methacrylate), PET(polyethylene terephthalate) and PC(polycarbonate) with KrF excimer laser(λ: 248nm, pulse duration: 5ns) is investigated. The UV/Vis spectrometer analysis showed that PMMA is a weak absorber and PET, PC are a strong absorber at the wavelength of 248nm. The results(surface debris, melt, etch depth, etching shape) from drilling and direct writing experiments imply that ablation mechanism of PMMA is dominated by photothermal process, while that of PET, PC are dominated by photochemical process.