• 제목/요약/키워드: Transmission Gate

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아몰퍼스실리콘의 결정화에 따른 복합티타늄실리사이드의 물성변화 (Property of Composite Titanium Silicides on Amorphous and Crystalline Silicon Substrates)

  • 송오성;김상엽
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제13권1호통권38호
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    • pp.1-5
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    • 2006
  • 반도체 메모리 소자의 스피드 향상을 위해 저저항 배선층을 채용하는 방안으로 70 nm-두께의 아몰퍼스실리콘과 폴리실리콘 기판부에 $TiSi_2$ 타켓으로 각각 80 nm 두께의 TiSix 복합실리콘을 스퍼터링으로 증착한 후 RTA $800^{\circ}C$-20sec 조건으로 실리사이드화 처리하고 사진식각법으로 선폭 $0.5{\mu}m$의 배선층을 만들었다. 배선층에 대해 다시 각각 $750^{\circ}C-3hr,\;850^{\circ}C-3hr$의 부가적인 안정화 열처리를 실시하였으며, 이때의 면저항의 변화는 four-point probe로 실리사이드층의 미세구조와 수직단면 두께 변화를 주사전자현미경과 투과전자현미경으로 관찰하였다. 아몰퍼스실리콘 기판인 경우 후속열처리에 따른 결정화 진행과 함께 급격한 면저항의 증가가 확인되었고, 이 원인은 결정화 과정에서 실리콘과 복합티타늄실리사이드 층과의 상호확산으로 표면 공공(void)을 형성한 것으로 미세구조 관찰에서 확인되었다. 따라서 복합티타늄실리사이드의 하지층의 종류와 열처리 조건을 바꾸어 저저항 또는 고저항 실리사이드를 조절하여 제작하는 것이 가능하여 복합 $TiSi_2$를 저저항 배선층 재료로 채용할 수 있음을 확인하였다.

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CHARACTERISTICS OF HETEROEPITAXIALLY GROWN $Y_2$O$_3$ FILMS BY r-ICB FOR VLSI

  • Choi, S.C.;Cho, M.H.;Whangbo, S.W.;Kim, M.S.;Whang, C.N.;Kang, S.B.;Lee, S.I.;Lee, M.Y.
    • 한국표면공학회지
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    • 제29권6호
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    • pp.809-815
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    • 1996
  • $Y_2O_3$-based metal-insulator-semiconductor (MIS) structure on p-Si(100) has been studied. Films were prepared by UHV reactive ionized cluster beam deposition (r-ICBD) system. The base pressure of the system was about $1 \times 10^{-9}$ -9/ Torr and the process pressure $2 \times 10^{-5}$ Torr in oxygen ambience. Glancing X-ray diffraction(GXRD) and in-situ reflection high energy electron diffracton(RHEED) analyses were performed to investigate the crystallinity of the films. The results show phase change from amorphous state to crystalline one with increasingqr acceleration voltage and substrate temperature. It is also found that the phase transformation from $Y_2O_3$(111)//Si(100) to $Y_2O_3$(110)//Si(100) in growing directions takes place between $500^{\circ}C$ and $700^{\circ}C$. Especially as acceleration voltage is increased, preferentially oriented crystallinity was increased. Finally under the condition of above substrate temperature $700^{\circ}C$ and acceleration voltage 5kV, the $Y_2O_3$films are found to be grown epitaxially in direction of $Y_2O_3$(1l0)//Si(100) by observation of transmission electron microscope(TEM). Capacitance-voltage and current-voltage measurements were conducted to characterize Al/$Y_2O_3$/Si MIS structure with varying acceleration voltage and substrate temperature. Deposited $Y_2O_3$ films of thickness of nearly 300$\AA$ show that the breakdown field increases to 7~8MV /cm at the same conditon of epitaxial growing. These results also coincide with XPS spectra which indicate better stoichiometric characteristic in the condition of better crystalline one. After oxidation the breakdown field increases to 13MV /cm because the MIS structure contains interface silicon oxide of about 30$\AA$. In this case the dielectric constant of only $Y_2O_3$ layer is found to be $\in$15.6. These results have demonstrated the potential of using yttrium oxide for future VLSI/ULSI gate insulator applications.

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MPI 집합통신을 위한 프로세싱 노드 상태 기반의 메시지 전달 엔진 설계 (Design of Message Passing Engine Based on Processing Node Status for MPI Collective Communication)

  • 정원영;이용석
    • 한국통신학회논문지
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    • 제37권8B호
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    • pp.668-676
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    • 2012
  • 본 논문은 MPI 집합 통신 함수가 처리 레벨 (transaction level) 에서 변환된다는 가정 하에 MPI 집합 통신 중 방송 (Broadcast), 확산 (Scatter), 취합 (Gather) 함수를 최적화한 알고리즘을 제안하였다. 또한 제안하는 알고리즘이 구동되는 MPI 전용 하드웨어 엔진을 설계하였으며, 이를 OCC-MPE (Optimized Collective Communication - Message Passing Engine) 라 명명하였다. OCC-MPE는 표준 송신 모드 (standard send mode)로 점대점 통신 (point-to-point communication) 을 하며, 집합 통신 중 가장 빈번하게 사용되는 방송, 취합, 확산을 제안하는 알고리즘에 의해 전송 순서를 결정한 후 통신하여 전체 통신 완료 시간을 단축시켰다. 제안한 알고리즘들의 성능을 측정하기 위하여 OCC-MPE를 SystemC 기반의 BFM(Bus Functional Model)을 제작하였다. SystemC 기반의 시뮬레이터를 통한 성능 평가 후에 VerilogHDL을 사용하여 제안하는 OCC-MPE를 포함한 MPSoC (Multi-Processor System on a Chip)를 설계하였다. TSMC 0.18 공정으로 합성한 결과 프로세싱 노드가 4개일 때 각 OCC-MPE가 차지하는 면적은 약 1978.95 이었다. 이는 전체 시스템에서 약 4.15%를 차지하므로 비교적 작은 면적을 차지함을 확인하였다. 본 논문에서 제안하는 OCC-MPE를 MPSoC에 내장하면, 비교적 작은 하드웨어 자원의 추가로 높은 성능향상을 얻을 수 있다.

CMOS 소자 응용을 위한 Plasma doping과 Silicide 형성

  • 최장훈;도승우;서영호;이용현
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.456-456
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    • 2010
  • CMOS 소자가 서브마이크론($0.1\;{\mu}m$) 이하로 스케일다운 되면서 단채널 효과(short channel effect), 게이트 산화막(gate oxide)의 누설전류(leakage current)의 증가와 높은 직렬저항(series resistance) 등의 문제가 발생한다. CMOS 소자의 구동전류(drive current)를 높이고, 단채널 효과를 줄이기 위한 가장 효율적인 방법은 소스 및 드레인의 얕은 접합(shallow junction) 형성과 직렬 저항을 줄이는 것이다. 플라즈마 도핑 방법은 플라즈마 밀도 컨트롤, 주입 바이어스 전압 조절 등을 통해 저 에너지 이온주입법보다 기판 손상 및 표면 결함의 생성을 억제하면서 고농도로 얕은 접합을 형성할 수 있다. 그리고 얕은 접합을 형성하기 위해 주입된 불순물의 활성화와 확산을 위해 후속 열처리 공정은 높은 온도에서 짧은 시간 열처리하여 불순물 물질의 활성화를 높여주면서 열처리로 인한 접합 깊이를 얕게 해야 한다. 그러나 접합의 깊이가 줄어듦에 따라서 소스 및 드레인의 표면 저항(sheet resistance)과 접촉저항(contact resistance)이 급격하게 증가하는 문제점이 있다. 이러한 표면저항과 접촉저항을 줄이기 위한 방안으로 실리사이드 박막(silicide thin film)을 형성하는 방법이 사용되고 있다. 본 논문에서는 (100) p-type 웨이퍼 He(90 %) 가스로 희석된 $PH_3$(10 %) 가스를 사용하여 플라즈마 도핑을 실시하였다. 10 mTorr의 압력에서 200 W RF 파워를 인가하여 플라즈마를 생성하였고 도핑은 바이어스 전압 -1 kV에서 60 초 동안 실시하였다. 얕은 접합을 형성하기 위한 불순물의 활성화는 ArF(193 nm) excimer laser를 통해 $460\;mJ/cm^2$의 에니지로 열처리를 실시하였다. 그리고 낮은 접촉비저항과 표면저항을 얻기 위해 metal sputter를 통해 TiN/Ti를 $800/400\;{\AA}$ 증착하고 metal RTP를 사용하여 실리사이드 형성 온도를 $650{\sim}800^{\circ}C$까지 60 초 동안 열처리를 실시하여 $TiSi_2$ 박막을 형성하였다. 그리고 $TiSi_2$의 두께를 측정하기 위해 TEM(Transmission Electron Microscopy)을 측정하였다. 화학적 결합상태를 분석하기 위해 XPS(X-ray photoelectronic)와 XRD(X-ray diffraction)를 측정하였다. 접촉비저항, 접촉저항과 표면저항을 분석하기 위해 TLM(Transfer Length Method) 패턴을 제작하여 I-V 특성을 측정하였다. TEM 측정결과 $TiSi_2$의 두께는 약 $580{\AA}$ 정도이고 morphology는 안정적이고 실리사이드 집괴 현상은 발견되지 않았다. XPS와 XRD 분석결과 실리사이드 형성 온도가 $700^{\circ}C$에서 C54 형태의 $TiSi_2$ 박막이 형성되었고 가장 낮은 접촉비저항과 접촉저항 값을 가진다.

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한국 문화유산 교육의 정보디자인 적용 방법 고찰 (A Study on the Application of Information Design to Korean Cultural Heritage Education)

  • 방기정
    • 예술인문사회 융합 멀티미디어 논문지
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    • 제9권11호
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    • pp.475-489
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    • 2019
  • 본 연구는 문화유산 교육에서 창의적이고 새로운 생각을 통한 이미지화 방법과 교육의 중요성에 대해서 가장 효과적인 교육 모델을 알아보고자 한다. 연구방법은 문헌고찰, 인터넷 탐색, 선행연구의 방법으로 구성 하였다. 한국 문화유산의 차별화된 교육의 필요성을 깨닫고 우리의 정체성을 담기 위한 노력을 기대한다. 이러한 과정의 일환으로 정보의 전달 측면에서의 흐름 변화라고 할 수 있고, 시각화는 복잡하고 많은 양의 데이터를 거시적인 모습으로 파악할 수 있고, 흥미 있는 데이터만을 보다 심화되게 탐색할 수 있다. 정보의 시각화 과정에서 구조분석, 특징분석, 그리고 패턴과 트렌드 분석, 이형분석의 상관관계 파악에 중심을 두고, 특징을 고려하여 제작되어져야 한다. 교육 모델의 정보 시각화를 위해서 다양한 미디어를 사용하게 되는데, 문자, 그래픽, 사운드, 애니메이션, 조명 그리고 네이게이션은 정보 시각화의 표현 요소로써 많이 사용되어진다. 문화유산 교육에 학습자의 이해를 돕고 쉽도록 하기 위해서는 정확한 정보전달 가능한 시각자료 제시와 그 해답으로 적용될 인포그래픽의 활용 등 적절한 멀티미디어 시각자료 개발이 필요하다. 이러한 작업들은 단순히 연구의 차원에 그치는 것이 아니라, 실제 문화유산 교육 콘텐츠의 개발에 도움을 주고자 하는 목적으로 추진이 되어야 한다.

울산쇠부리소리의 전승 양상 (A Study on the Transmission of 'Soeburi-Song' in Ulsan)

  • 양영진
    • 공연문화연구
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    • 제37호
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    • pp.157-186
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    • 2018
  • 울산 쇠부리소리는 1981년 8월 달천철장의 마지막 불매대장인 고(故) 최재만(1987년 별세)의 구술과 소리를 바탕으로 1980년대에 재연된 소리이다. 본 고는 1981년 영상 등 총 13종의 자료를 바탕으로 쇠부리소리를 음악적 측면에서 분석하고, 전승 과정에서의 변화 양상을 확인하는데 목적을 둔 논문이다. 도출된 결과를 정리하면 다음과 같다. 2017년 쇠부리소리 자료를 살펴본 결과, 풍물패는 상쇠, 부쇠, 징2, 북4, 장구4, 태평소1로 구성되어 있고, 장단은 질굿, 자진모리, 다드래기, 덧배기, 자진덧배기의 5종을 친다. 가창곡은 3소박 4박자의 덧배기 자진덧배기 장단에 맞추어, 또는 무장단으로 부른다. 구성음은 대부분 Mi-La-do의 3음 또는 Mi-La-do-re의 4음으로, 음역은 1옥타브를 넘지 않는다. 종지음은 모두 La로 동일하다. 1981년 발굴 이후 오늘날까지의 쇠부리소리 연행을 살펴본 결과, 크게 4가지의 변화를 발견할 수 있었다. 먼저 악곡의 구성이 '긴-자진'으로 분화되고, <금줄소리>, <애기 어르는 소리>, <성냥간 불매소리>가 첨가되었다. 둘째 가창 방식은 1980년대 재연 이후 '1인 선창자+다인 후창자'를 기본으로, 1인 후창자를 별도로 지정하기도 하였다. 더불어 2013년 연행된 <자진불매소리>는 <성냥간 불매소리>의 토대가 되었다. 셋째 <긴-자진 불매소리>의 선율적 변화가 관찰되었다. 박자구조는 모두 3소박 4박자이나, 속도가 느려지고, Mi-La-do의 3음을 골격으로 높은 re와 낮은 Sol이 첨삭되어 메나리토리의 특성이 명확히 드러난다. 마지막으로 풍물 악기는 꽹과리, 징, 장구, 북의 사물이 주로 쓰이며, 공연에 따라 소고, 태평소, 요령 등을 첨가하기도 한다. 장단은 자진모리, 다드래기, 덧배기, 자진덧배기 장단을 처음부터 연주했으며, 이후 질굿 장단이 추가되었다. 이와 같은 결과를 통하여 최초 발굴 당시, <애기 어르는 소리>와 같은 단순한 형태의 <불매소리>가 남성 노동요로 목적이 바뀌고 연희성이 강해지며 하나의 공연 예술로 변화되었음을 확인하였다.

부록 3. 모션캡쳐를 이용한 무형문화재의 기록작성 - 국가지정 중요무형문화재 승무·살풀이·태평무를 중심으로 - (Documentation of Intangible Cultural Heritage Using Motion Capture Technology Focusing on the documentation of Seungmu, Salpuri and Taepyeongmu)

  • 박원모;고중일;김용석
    • 헤리티지:역사와 과학
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    • 제39권
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    • pp.351-378
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    • 2006
  • 매체의 발달과 함께 무형문화재에 대한 기록도 여러 가지 방법으로 시도되고 있는데, 과거에는 문자 기록에만 의존하던 것에서 최근에는 사진, 음원 및 영상 등을 많이 활용하게 되었고, 그 방식에 있어서도 아날로그 방식에서 디지털 방식으로 이행하고 있는 추세이다. 이러한 변화의 과정에서 모션캡쳐를 이용한 무형문화재의 기록은 3차원적 기록을 필요로 하는 무용종목 등에서 주목을 받고 있다. 모션캡쳐란 움직이는 물체에 공간상의 위치를 표시하는 센서를 부탁시키고 시간의 흐름에 따라 센서의 위치를 컴퓨터의 좌표공간에 치환하여 기록하는 시스템으로, 모션캡쳐를 이용한 무형문화재의 기록은 형체가 없이 사람의 기예에 의해서 전승되고 있는 무형문화재의 신체적 표현을 디지털화 된 데이터로 나타내줌으써 무형문화재의 보존을 위한 과학적 자료를 제공해 준다. 국립문화재연구소는 멀티미디어 및 디지털 시대에 대응하기 위해 무형문화재에 대한 새로운 기록방안 개발을 목적으로 영화 및 게임 등의 CG제작 현장에서 널리 사용되고 있는 모션캡쳐(Motion Capture) 장비를 이용하여 국가지정의 중요무형문화재에 대한 기록 작업을 실시하고 있다. 본 사업은 복권기금을 사용하여 2005년부터 2007년까지 3개년에 걸쳐서 국가지정의 중요무형문화재 중 신체적 동작이 중요하게 표현되고 있는 무용 7개 종목 11건의 모션캡쳐 작업을 실시할 예정이다. 이미 1차 년도인 2005년에는 승무, 살풀이춤, 태평무 등 기술적 난이도가 낮은 독무(獨舞)를 중심으로 데이터 축적작업을 실시하였고, 2차 년도인 2006년에는 진주검무, 승전무, 처용무 등 군무(群舞)의 데이터를 축적할 예정이며, 3차 년도인 2007년에는 학연화대합설무의 데이터 축적과 함께 축적된 데이터를 이용한 무형문화재의 비교 분석 및 전승을 위한 교육용 프로그램과 대국민 서비스를 위한 3차원 콘텐츠 등을 개발할 계획이다. 본 보고서에서는 사업 초년도인 2005년도에 실시된 보유자 이매방, 이애주, 정재만의 승무, 이매방의 살풀이춤, 강선영의 태평무 등의 모션캡쳐 작업에 대하여 기술하고 있다. 이를 통하여 무형문화재에 대한 새로운 기록 방안을 모색하기 위한 시도를 소개하려고 한다. 이번 사업에서는 기술적으로 다음과 같은 두 가지 문제가 제기되었다. 첫 번째, 장시간(20~30분 가량)의 보유자의 춤을 끊김 없이 모션캡쳐 받을 수 있는가라는 문제였다. 수 차례의 사전 모의테스트를 통해 사업수행 적합성 판단을 마쳤고, 결국 사업수행을 무사히 마칠 수 있었다. 두 번째, 리타겟팅(RE-Targeting)이 없이 정확한 모션캡쳐 동작을 가공해 낼 수 있는가라는 문제였다. 모션캡쳐 데이터에서 국내 최초로 보유자의 골격구조 역추출 방식을 도입하여 최대한 정확한 보유자의 춤 동작을 구현해낼 수 있었다. 이번 작업에서는 이매방, 이애주, 정재만, 강선영 네 보유자의 전신 삼차원 스캔을 통해 정확한 삼차원 신체 모델링을 얻었고, 보유자 본인의 춤사위 동작을 그대로 모션캡쳐에 적용함으로써 최대한 정확도를 유도할 수 있었다.