Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.21
no.5
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pp.791-799
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1997
The wear characteristics and wear mechanisms of plasma sprayed Al/sub 2/ O/sub 3/-40%TiO/sub 2/ and Cr/sub 2/O/sub 3/ deposited on casting aluminum alloy(AC4C) were investigated. Specimens were processed for various coating thicknesses. Ball on disk type wear tester was used for wear test. The scratch test on plasma sprayed coating surface showed that critical load to break the coating layer was greater than 40 N. The critical load increase with the increase of coating thickness of specimens. The friction coefficient of Cr/sub 2/O/sub 3/ coating layer was less than that of Al/sub 2/O/sub 3/-40%TiO/sub 2/ coating layer. The wear resistance of Cr/sub 2/O/sub 3/ coating layer was greater than that of Al/sub 2/O/sub 3/-40%TiO/sub 2/ coating layer. Microscopic observation of worn surfaces was made by SEM. SEM observation showed that the main mechanism of wear for Al/sub 2/O/sub 3/-40%TiO/sub 2/ coating layer was abrasive wear under 50 N. For the case of Al/sub 2/O/sub 3/-40%TiO/sub 2/ coating layer, as the surface cracks perpendicular to sliding direction propagated, the wear debris was generated in wear track. However, the main mechanism of wear for Cr/sub 2/O/sub 3/ coating layer was brittle fracture under 150 N.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.36
no.2
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pp.116-121
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2003
Ti-Si-N coating layers were deposited onto WC-Co substrates by a hybrid system of arc ion plating (AIP) and sputtering techniques. The tribological behaviors of Ti-Si-N coating layers with various Si contents were investigated by the dry sliding wear experiments, which were conducted at three different sliding speeds, 0.1, 0.3, 0.5 m/s, against the steel and alumina balls. In the case of steel ball, the average friction coefficient slightly decreased with increasing the sliding speed regardless of Si content due to adhesive wear behavior between coating layer and steel ball. At constant sliding speed, the average friction coefficient decreased with increase of Si content. On the contrary, in the case of alumina ball, the average friction coefficient increased with increasing the sliding speed regardless of Si content, indicating that the abrasive wear behavior was more dominant when the coating layers slide against alumina ball. Through these experimental results, it was found that the tribological behaviors of Ti-Si-N coating layers were effected by factors such as Si content, sliding speed, and kinds of counterpart materials rather than the hardness of coating layer.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.43
no.6
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pp.260-265
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2010
STD 61 steel has been widely used for tools, metallic mold and die for press working because of its favorable mechanical properties such as high toughness, and creep strength as well as excellent oxidation resistance. The STD 61 tool steel coated with TiN and ZrN by sputtering results in improvement of wear and corrosion resistance. In this study, surface characteristics of TiN and ZrN film coated STD 61 by sputtering were studied by using FE-SEM, EDS, XRD, and XRR and nanoindentation tests. From the results of surface characteristics of coated specimen, the ZrN coated surface showed finer granular than that of TiN coated surface. The coated layer structures of ZrN and TiN were grown to (111) and (200) preferred orientation. From the results of XRR test for surface roughness, density and growth rate of coating film, surface roughness and growth rate of ZrN coated film revealed lower values those of TiN coated film, whereas density of ZrN coated film showed higher values than that of TiN coated film. From the nanohardness and elastic modulus test, nanohardness value and elastic modulus of ZrN coated film became higher than those of TiN coated film.
From isothermal and cyclic oxidation tests on thermomechanically treated Ti-5%Al, Ti47%Al-4%Cr, and Ti-48%Al-2%Cr-2%Nb alloys at 800, 900, 1000℃ in air, it was found that Ti-48%Al-2%Cr-2%Nb and Ti-47%Al-4%Cr had the best and the worst oxidation resistance, respectively. The oxide scales consisted primarily of TiO₂and Al₂O₃, with and without a small amount of dissolved Cr and 7b ions, depending on the alloy composition. These ions were slightly enriched inside the inner oxide layer, and strongly enriched around the scale-matrix interface. The outer TiO₂-rich layer was formed by the outward diffusion of Ti ions, while the inner (TiO₂+A1₂O₃,) mixed layer was formed by the inward transport of oxygen. The outward movement of Al ions farmed the intermediate Al₂O₃-rich Iayer, above talc prepared alloys.
The $TiN/TiSi_2$ bilayer has been studied for contact barrier layer at ULSI recently. The $TiN/TiSi_2$ bilayer was formed by RTA in $NH_3$ ambient simultaneously after the Ti film was deposited on silicon substrate. In this paper, properties of $TiN/TiSi_2$ bilayer was evaluated according to $BF_2$ dopant concentration and dopant redistribution in $TiN/TiSi_2$ bilayer was also analyzed. In this experiment, the composition and structure of $TiN/TiSi_2$ bilayer were constant even though dopant concentration increased but silicide growth rate decreased. Boron atoms were redistributed within TiN film and at $TiSi_2Si$ interface during the bilayer formation.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.4
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pp.378-383
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2004
Tungsten is widely used as a plug for the multi-level interconnection structures. However, due to the poor adhesive properties of tungsten(W) on SiO$_2$ layer, the Ti/TiN barrier layer is usually deposited onto SiO$_2$ for increasing adhesion ability with W film. Generally, for the W-CMP(chemical mechanical polishing) process, the passivation layer on the tungsten surface during CMP plays an important role. In this paper, the effect of oxidant on the polishing selectivity of W/Ti/TiN layer was investigated. The alumina(A1$_2$O$_3$)-based slurry with $H_2O$$_2$ as the oxidizer was used for CMP applications. As an experimental result, for the case of 5 wt% oxidizer added, the removal rates were improved and polishing selectivity of 1.4:1 was obtained. It was also found that the CMP characteristics of W and Ti metal layer including surface roughness were strongly dependent on the amounts of $H_2O$$_2$ oxidizer.
Park, Moon-Chan;Jung, Boo-Young;Hwangbo, Chang-Kwon
Journal of Korean Ophthalmic Optics Society
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v.6
no.2
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pp.31-35
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2001
The anti-reflective anti-static(ARAS) optical film Was designed using conducting layer $TiN_x$ by Essential Macleod program. From this results, [air ${TiN_x{\mid}SiO_2{\mid}$ glass] two layer shows wide-band AR coating in the wavelength range of 450~700 nm. The $TiN_x$ thin films were prepared on the glass substrate by RF(radio-freqency) magnetron sputtering apparatus from a Ti target in agaseous mixture of argon and nitrogen with the thickness of 7~10 nm. For the films obtained, the chemical binding energy of the films was investigated by x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) in order to analyze the chemical nature and composition of the films. In addition, we investigated the relationship between the surface resistance and the chemical nature the sheet resistance and XPS depth profiling the chemical binding of the films.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.34
no.5
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pp.414-420
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2001
A 30-kV plasma immersion ion implantation setup (P $I^3$) has been equipped with a self-developed 6'-magnetron to perform hard coatings with enhanced adhesion by P $I^3$D(P $I^3$ assisted deposition) process. Using ICP source with immersed Ti antenna and reactive magnetron sputtering of Ti target in $N_2$/Ar ambient gas mixture, the TiN films were prepared on Si substrates at different pulse bias and ion-to-atom arrival ratio ( $J_{i}$$J_{Me}$ ). Prior to TiN film formation the nitrogen implantation was performed followed by deposition of Ti buffer layer under A $r^{+}$ irradiation. Films grown at $J_{i}$$J_{Me}$ =0.003 and $V_{pulse}$=-20kV showed columnar grain morphology and (200) preferred orientation while those prepared at $J_{i}$$J_{Me}$ =0.08 and $V_{pulse}$=-5 kV had dense and eqiaxed structure with (111) and (220) main peaks. X-ray diffraction patterns revealed some amount of $Ti_{x}$$N_{y}$ in the films. The maximum microhardness of $H_{v}$ =35 GN/ $M^2$ was at the pulse bias of -5 kV. The P $I^3$D technique was applied to enhance wear properties of commercial tools of HSS (SKH51) and WC-Co alloy (P30). The specimens were 25-kV PII nitrogen implanted to the dose 4.10$^{17}$ c $m^{-2}$ and then coated with 4-$\mu\textrm{m}$ TiN film on $Ti_{x}$$N_{y}$ buffer layer. Wear resistance was compared by measuring weight loss under sliding test (6-mm $Al_2$$O_3$ counter ball, 500-gf applied load). After 30000 cycles at 500 rpm the untreated P30 specimen lost 3.10$^{-4}$ g, and HSS specimens lost 9.10$^{-4}$ g after 40000 cycles while quite zero losses were demonstrated by TiN coated specimens.s.
Transactions of the Korean Society of Machine Tool Engineers
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v.15
no.1
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pp.49-55
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2006
The effect of coating temperature with regard to surface properties of TiN-coated layer on hard metal(WC-Co) are experimentally investigated. Hardness, surface roughness, TiN coating thickness and adsorption force were measured in order to evaluate the effect of coating temperature. The two-way ANOVA method is used in order to evaluate the experimental data. In AIP processing, It is concluded that the furnace temperature in the range of $400^{\circ}C\~500^{\circ}C$ affected to a little increasing the number of production with the coating temperature.
In this paper, the influence of Si surface damage on the NiSi formation has been characterized. The silicon surface is damaged using ion beam type spotter. Then, the effect of H2 anneal and TiN capping layer on the damaged has also been analyzed. The sheet resistance of NiSi formed on damaged Si increased rapidly as the damaging time increases while thermal stability of damaged NiSi was stabler than the undamaged one. In the case when H\ulcorner anneal and TiN capping layer were applied together, the characteristics of NiSi shows a little improvement of the sheet resistance.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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