• Title/Summary/Keyword: TiC-Mo

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InGaN/GaN Blue LED device 제조시 ALD (Atomic Layer Deposition) 방법으로 증착된 Al2O3 Film의 Passivation 효과

  • Lee, Seong-Gil;Bang, Jin-Bae;Yang, Chung-Mo;Kim, Dong-Seok;Lee, Jeong-Hui
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.211-212
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    • 2010
  • GaN 기반의 상부발광형 LED는 동작되는 동안 생기는 전기적 단락, 그리고 칩 위의 p-형 전극과 n-형 전극 사이에 생기는 누설전류 및 신뢰성 확보를 위하여 칩 표면에 passivation 층을 형성하게 된다. SiO2, Si3N4와 같은 passivation layers는 일반적으로 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)공정을 이용한다, 하지만 이는 공정 특성상 plasma로 인한 damage가 유발되기 때문에 표면 누설 전류가 증가 한다. 이로 인해 forward voltage와 reverse leakage current의 특성이 저하된다. 본 실험에서는 원자층 단위의 박막 증착으로 인해 PECVD보다 단차 피복성이 매우 우수한 PEALD(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition)공정을 이용하여 Al2O3 passivation layer를 증착한 후, 표면 누설전류와 빛의 출력 특성에 대해서 조사해 보았다. PSS (patterned sapphire substrate) 위에 성장된 LED 에피구조를 사용하였고, TCP(Trancformer Copled Plasma)장비를 사용하여 에칭 공정을 진행하였다. 이때 투명전극을 증착하기 위해 e-beam evaporator를 사용하여 Ni/Au를 각각 $50\;{\AA}$씩 증착한 후 오믹 특성을 향상시키기 위하여 $500^{\circ}C$에서 열처리를 해주었다. 그리고 Ti/Au($300/4000{\AA}$) 메탈을 사용하여 p-전극과 n-전극을 형성하였다. Passivation을 하지 않은 경우에는 reverse leakage current가 -5V 에서 $-1.9{\times}10-8$ A 로 측정되었고, SiO2와 Si3N4을 passivation으로 이용한 경우에는 각각 $8.7{\times}10-9$$-2.2{\times}10-9$로 측정되었다. Fig. 1 에서 보면 알 수 있듯이 5 nm의 Al2O3 film을 passivation layer로 이용할 경우 passivation을 하지 않은 경우를 제외한 다른 passivation 경우보다 reverse leakage current가 약 2 order ($-3.46{\times}10-11$ A) 정도 낮게 측정되었다. 그 이유는 CVD 공정보다 짧은 ALD의 공정시간과 더 낮은 RF Power로 인해 plasma damage를 덜 입게 되어 나타난 것으로 생각된다. Fig. 2 에서는 Al2O3로 passivation을 한 소자의 forward voltage가 SiO2와 Si3N4로 passivation을 한 소자보다 각각 0.07 V와 0.25 V씩 낮아지는 것을 확인할 수 있었다. 또한 Fig. 3 에서는 Al2O3로 passivation을 한 소자의 output power가 SiO2와 Si3N4로 passivation을 한 소자보다 각각 2.7%와 24.6%씩 증가한 것을 볼 수 있다. Output power가 증가된 원인으로는 향상된 forward voltage 및 reverse에서의 leakage 특성과 공기보다 높은 Al2O3의 굴절률이 광출력 효율을 증가시켰기 때문인 것으로 판단된다.

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THE COMPARISON OF DIFFERENT CANAL IRRIGATION METHODS TO PREVENT REACTION PRECIPITATE BETWEEN SODIUM HYPOCHLORITE AND CHLORHEXIDINE (차아염소산나트륨과 클로르헥시딘의 반응침전물 형성방지를 위한 여러 가지 근관세척 방법의 비교)

  • Choi, Moon-Sun;Park, Se-Hee;Cho, Kyung-Mo;Kim, Jin-Woo
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • v.35 no.2
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    • pp.80-87
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    • 2010
  • The purpose of this study was to compare the different canal irrigation methods to prevent the formation of precipitate between sodium hypochlorite (NaOCl) and chlorhexidine (CHX). Extracted 50 human single-rooted teeth were used. The root canals were instrumented using NiTi rotary file (Profile .04/#40) with 2.5% NaOCl and 17% EDTA as irrigants. Teeth were randomly divided into four experimental groups and one control group as follows; Control group: 2.5% NaOCl only, Group 1: 2.5% NaOCl + 2% CHX, Group 2: 2.5% NaOCl + paper points + 2% CHX, Group 3: 2.5% NaOCl + preparation with one large sized-file + 2% CHX, Group 4: 2.5% NaOCl +95% alcohol+ 2% CHX. The teeth were split in bucco-lingual aspect and the specimens were observed using Field Emission Scanning Electron Microscope. The percentages of remaining debris and patent dentinal tubules were determined. Statistical analysis was performed with one-way analysis of variance (ANOVA). Energy Dispersive x-ray Spectroscopy was used for analyzing the occluded materials in dentinal tubule for elementary analysis. There were no significant differences in percentage of remaining debris and patent tubules between all experimental groups at all levels (p > .05). In elementary analysis, the most occluded materials in dentinal tubule were dentin debris. NaOCl/CHX precipitate was detected in one tooth specimen of Group 1. In conclusion, there were no significant precipitate on root canal, but suspected material was detected on Group 1. The irrigation system used in this study could be prevent the precipitate formation.

Geochemistry and Genesis of the Guryonsan(Ogcheon) Uraniferous Back Slate (구룡산(九龍山)(옥천(決川)) 함(含)우라늄 흑색(黑色) 점판암(粘板岩)의 지화학(地化學) 및 성인(成因))

  • Kim, Jong Hwan
    • Economic and Environmental Geology
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    • v.22 no.1
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    • pp.35-63
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    • 1989
  • Geochemical characteristics of the Guryongsan (Ogcheon) uraniferous black slate show that this is an analogue to the conventional Chattanooga and Alum shales in occurrences. Whereas, its highest enrichment ratio in metals including uranium, among others, is explained by the cyclic sedimentation of the black muds and quartz-rich silts, and the uniform depositional condition with some what higher pH condition compared to the conditions of the known occurrences. The cyclic sedimentation, caused by the periodic open and close of the silled basin, has brought about the flush-out) of the uranium depleted water and the recharge with the new metal-rich sea water, which consequently contributed to the high concentration of metals in mud. The metal-rich marine black muds, which mostly occur in the early to middle Palaeozoic times, is attributed by the geologic conditions which related to the atmospheric oxygen contents, and these are scarcely met in the late Precambrian and/or with the onset of Palaeozoic era in the geologic evolution of the earth.

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