Inorganic semiconductor compounds, e.g., CIGS and CZTS, are promising materials for thin film solar cells because of their high light absorption coefficient and stability. Research on thin film solar cells using this compound has made remarkable progress in the last two decades. Vacuum-based processes, e.g., co-evaporation and sputtering, are well established to obtain high-efficiency CIGS and/or CZTS thin film solar cells with over 20 % of power conversion. However, because the vacuum-based processes need high cost equipment, they pose technological barriers to producing low-cost and large area photovoltaic cells. Recently, non-vacuum based processes, for example the solution/nanoparticle precursor process, the electrodeposition method, or the polymer-capped precursors process, have been intensively studied to reduce capital expenditure. Lately, over 17 % of energy conversion efficiency has been reported by solution precursors methods in CIGS solar cells. This article reviews the status of non-vacuum techniques that are used to fabricate CIGS and CZTS thin films solar cells.
Dual mode ring resonators(DMRR) have been fabricated using laser ablated $YBa_2Cu_3O_{7-x}$ superconducting thin films. The transition temperature of YBCO thin films were 85 - 88 K and the film thicknesses were about 5,000 $\AA$. Dual mode ring resonators were patterned by standard photolithography process and wet-etching. Then two-layer metal thin films (Ti/Ag) have been deposited for the ground plane on the back side of substrate by e-beam and thermal evaporation. The input/output feedline angles of each resonator were $60^{\circ}$, $100^{\circ}$, $180^{\circ}$. A network analyzer was used for testing the performance of the resonators in the frequency range of 6-13 GHz at 77 K.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.147-152
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2002
A new theory of thin film growth was suggested, where charged clusters of nanometer size are generated in the gas phase and are a major flux for thin films. The existence of these hypothetical clusters was experimentally confirmed in the diamond and silicon CVD processes as well as in metal evaporation. These results imply new insights as to the microstructure control of thin films. Based on this new understanding, the low temperature deposition of crystalline and amorphous silicon can be approached systematically.
We have investigated the fabrication of Si nanoparticles and $C_{60}$ thin films by pulsed laser ablation. By atomic force microscopy(AFM), the laser-deposited $C_{60}$ thin film was verified to have surface far smoother than the surfaces of films produced by the conventional evaporation method. The Si deposited at a He atmosphere of 0.2 Torr was with about $60{\AA}$ height of the Si nanoparticles, suggesting that it was uniformly deposited. We observed visible green emissions spectra in the $Si/C_{60}$ multilayer films after laser annealing. It is considered that this green emissions is occurred from SiC particles, which is produced reaction of Si nanoparticles with $C_{60}$ by laser annealing.
Chalcogenide glassy semiconductors(CGS) can be obtained by the melt quenching technique. We have investigated the thin film heterostructures : metal-chalcogenide glassy semiconductors, where metal is copper, and chalcogenide glassy semiconductors are glasses of the system As-Se. Cu/CGS film heterostructure were produced in the vacuum evaporator by the method of vacuum thermal evaporation. Doped films are very sensitive to external actions, and this property allows developing supersensitive precision sensors of temperature, humidity, illumination, and etc. based on them. Cu/CGS film has shown that resistance strongly depend on the temperature. The slop of temperature and resistance shows linear.
Single phase $CuInS_2$ thin film with the highest diffraction peak (112) at diffraction angle $(2\theta)$ of $27.7^{\circ}$ and the second highest diffraction peak (220) at diffraction angle $(2\theta)$ of $46.25^{\circ}$ was well made with chalcopyrite structure at substrate temperature of $70^{\circ}C$, annealing temperature of $250^{\circ}C$, annealing time of 60 min. The $CuInS_2$ thin film had the greatest grain size of $1.2{\mu}m$ and Cu/In composition ratio of 1.03. Lattice constant of a and c of that $CuInS_2$ thin film was 5.60 A and 11.12 A respectively. Single phase $CuInS_2$ thin films were accepted from Cu/In composition ratio of 0.84 to 1.3. P-type $CuInS_2$ thin films were appeared at over Cu/In composition ratio of 0.99. Under Cu/In composition ratio of 0.96, conduction types of $CuInS_2$ thin films were n-type. Also, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of p-type $CuInS_2$ thin film with Cu/In composition ratio of 1.3 was 837 nm, $3.0{\times}104cm^{-1}$ and 1.48 eV respectively. When Cu/In composition ratio was 0.84, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of n-type $CuInS_2$ thin film was 821 nm, $6.0{\times}10^4cm^{-1}$ and 1.51 eV respectively.
Single phase CuInS$_2$ thin film with the highest diffraction peak (112) at diffraction angle (2$\theta$) of 27.7$^{\circ}$ and the second highest diffraction peak (220) at diffraction angle (2$\theta$) of 46.25$^{\circ}$ was well made with chalcopyrite structure at substrate temperature of 70 $^{\circ}C$, annealing temperature of 25$0^{\circ}C$, annealing time of 60 min. The CuInS$_2$ thin film had the greatest grain size of 1.2 ${\mu}{\textrm}{m}$ and Cu/In composition ratio of 1.03. Lattice constant of a and c of that CuInS$_2$ thin film was 5.60 $\AA$ and 11.12 $\AA$ respectively. Single phase CuInS$_2$ thin films were accepted from Cu/In composition ratio of 0.84 to 1.3. P-type CuInS$_2$ thin films were appeared at over Cu/In composition ratio of 0.99. Under Cu/In composition ratio of 0.96, conduction types of CuInS$_2$ thin films were n-type. Also, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of p-type CuInS$_2$ thin film with Cu/In composition ratio of 1.3 was 837 nm, 3.0x10 $^4$$cm^{-1}$ / and 1.48 eV respectively. When CuAn composition ratio was 0.84, fundamental absorption wavelength, the absorption coefficient and optical energy band gap of n-type CuInS$_2$ thin film was 821 nm, 6.0x10$^4$$cm^{-1}$ / and 1.51 eV respectively.
Nowadays, ZnO thin films are investigated as transparent conductive electrodes for use in optoelectronics devices including flat displays, thin films transistors, solar cells because of their unique optical and electrical properties. For the use as transparent conductive electrodes, a film has to have low resistivity, high absorption in the ultra violent light region and high optical transmission in the visible region. Different technologies such as electron beam evaporation, chemical vapor deposition, laser evaporation, DC and RF magnetron sputtering and have been reported to produce thin films of ZnO with adequate performance for applications. However, highly transparent and conductive doped-ZnO thin films deposited by a metal-organic decomposition method have not been reported before. In this work, the effect of dopant concentration, heating treatment and annealing in areducing atmosphere on the structure, morphology, electrical and optical properties of ZnO thin films deposited on glass substrates by a Sol-gel method are investigated.
MEMS technology with micro scale is complete system utilized as the sensor. micro electro device. The metallization of MEMS is very important to transfer the power operating the sensor and signal induced from sensor part. But in the MEMS structures local stress concentration and deformation is often happened by geometrical shape and different constraint on the metallization. Therefore. this paper studies the effect of supporting type and thickness ratio about thin film thickness of the substrate thickness for the residual stress variation caused by thermal load in the multi-layer thin film. Specimens were made from materials such as Al, Au and Cu and uniform thermal load was applied, repeatedly. The residual stress was measured by FEA and nano-indentation using AFM. Generally, the specimen made of Al induced the large residual stress and the 1st layer made of Al reduced the residual stress about half percent than 2nd layer. Specimen made of Cu and Au being the lower thermal expansion coefficient induce the minimum residual stress. Similarly the lowest indentation length was measured in the Au_Cu specimen by nano-indentation.
Kim, Dae-Yop;Lee, Jae-Hyuk;Kang, Dou-Youl;Choi, Jong-Sun;Kim, Young-Kwan;Shin, Dong-Myung
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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pp.69-70
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2000
There are currently considerable interest in the applications of conjugated polymers, oligomers, and small molecules for thin-film electronic devices. Organic materials have potential advantages to be utilized as semiconductors in field-effect transistors and light-emitting diodes. In this study, pentacene thin-film transistors (TFTs) were fabricated on glass substrate. Aluminums were used for gate electrodes. Silicon dioxide was deposited as a gate insulator by PECVD and patterned by reactive ion etching (R.I.E). Gold was used for the electrodes of source and drain. The active semiconductor pentacene layer was thermally evaporated in vacuum at a pressure of about $10^{-8}$ Torr and a deposition rate $0.3{\AA}/s$. The fabricated devices exhibited the field-effect mobility as large as 0.07 $cm^2/V.s$ and on/off current ratio as larger than $10^7$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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