• 자원리싸이클링
• /
• 제16권5호
• /
• pp.41-45
• /
• 2007

폐실리콘 슬러지로부터 테트라메틸오쏘실리케이트(TMOS)와 실리카 나노분말을 제조하였다. 먼저, 실리카 나노분말의 전구체인 TMOS를 폐실리콘 슬러지로부터 촉매 화학반응에 의해 합성하였다. TMOS의 합성실험에서 반응온도가 $130^{\circ}C$ 이상에서는 반응시간이 5시간 경과 시 반응온도에 무관하게 100%의 반응율을 나타내었다. 그러나 $150^{\circ}C$ 이상에서는 초기 반응속도가 빨라졌다. 메탄올 주입속도를 0.8 ml/min에서 1.4 ml/min로 증가시에는 3시간 경과 후에는 반응율이 변화하지 않았다. 이와 같이 합성된 TMOS로부터 화염분무열분해법에 의해 실리카 나노분말을 제조하였다. 제조된 실리카 나노분말은 구형이며, 무응집 형태이었다. 평균입자 크기는 전구체의 주입속도 및 농도변화에 따라 9 nm에서 30 nm로 변화하였다.

• 접착 및 계면
• /
• 제10권2호
• /
• pp.98-105
• /
• 2009

Tetramethylorthosilicate와 glycidol을 이용하여 액상의 에폭시 그룹을 함유한 실란 올리고머를 합성하고, p-PDA/ODA 그리고 PMDA/BPDA 단량체로부터 제조된 4성분계 폴리아믹산과 혼성화시켜 고점도의 폴리아믹산/실리카 혼성체를 합성하였다. 그리고 이를 열적 이미드화 공정을 거쳐 폴리이미드/실리카 혼성화 필름을 제조하였다. 혼성화 필름의 특성을 분석한 결과, 열팽창계수는 실리카 함량이 높을수록 최초 17 ppm/K에서 10 ppm/K까지 감소하였고, 탄성률은 증가하였으나 인장강도는 감소하는 경향을 보였다. 또한 유연성 동박 적층 필름을 제조하여 분석한 결과, 실리카 함량 변화에 따라 접착력은 $0.43kg_f/cm$에서 $1.02kg_f/cm$까지 증가하였다. 따라서 높은 접착력을 요구하는 유연성 동박 적층 필름 제조시에는 실리카와 혼성된 폴리이미드 필름이 효과적임을 알 수 있었다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
• /
• 제27권10호
• /
• pp.1562-1566
• /
• 2006

Mesoporous silica films with three different pore sizes were prepared by using cationic surfactant, non-ionic surfactant, or triblock copolymer as structure directing agents with tetramethylorthosilicate as silica source in order to control the pore size and wall thickness. They were synthesized by an evaporation-induced self-assembly process and spin-coated on Si wafer. Mesoporous silica films with three different pore sizes of 2.9, 4.6, and 6.6 nm and wall thickness ranging from $\sim$1 to $\sim$3 nm were prepared by using three different surfactants. These materials were optically transparent mesoporous silica films and crack free when thickness was less than 1 m m. The photoluminescence spectra found in the visible range were peaked at higher energy for smaller pore and thinner wall sized materials, consistent with the quantum confinement effect within the nano-sized walls of the silica pores.