A new technology for reducing photolithography process from a four step to a three step process in the fabrication of TFT LCD is introduced. The core technology for 3-mask-TFT processes is the lift-off process [1], by which the PAS and PXL layers can be formed simultaneously. A different method of the lift-off process was developed in order to enhance the performance of efficiency with conventional positive and not negative PR which is the generally used in other lift-off process. In addition, the removal capacity of the ITO/PR in lift-off process was evaluated. The evaluation results showed that the new process can be run in conventional TFT production condition. In order to apply this new process in existing TFT process, several tests were conducted to ensure stability of the TFT process. It was found that the outgases from PR on the substrate in ITO sputtering chamber do not raise any problem, and the deposited ITO film beside the PR has conventional ITO qualities. Furthemore, the particles that were produced due to the ITO chips in PR strip bath could be reduced by the existing filtering system of stripper. With the development of total process and design of the structure for TFT using this technology, 3-mask-panels were achieved in TN and IPS modes, which showed the same display performances as those with the conventional 4mask process. The applicability and usefulness of the 3-mask process has already verified in the mass production line and in fact it currently being used for the production of some products.
In order to analyze the characteristics of complicated TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) circuits, it is indispensible to use simulation programs. In this study, we present a systematic method of extracting the input parameters of poly-Si TFT for Spice simulation. This method is applied to two different types of poly-Si TFTs fabricated in our group with good results. Among the Spice simulators, Pspice has the graphic user interface feature making the composition of complicated circuits easier. We added successfully a poly-Si TFT model on the Pspice simulator, which would contribute to efficient simulations of poly-Si TFT-LCD pixels and arrays.
Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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2003.12a
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pp.68-77
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2003
TFT-LCD 모니터 및 TV의 핵심부품인 TFT/Color Filter를 제조하는 공장라인에서 제품의 품질에 중요한 역할을 하는 것은 유리기판에 TFT와 Color Filter을 형성시키는 노광공정(Exposure)이다. 이러한 TFT/Color Filter를 생산하는 공정내에서 노광기는 핵심기술이므로 진동에 대하여 엄격하게 관리되어지고 있다. 그리고, TV 및 TFT-LCD 모니터의 크기가 큰 것을 사용자의 요구로 TFT/Color Filter 생산 공장은 세대가 거듭될수록 사용되어지는 유리기판의 크기도 따라서 커지고 있다. 이러한 유리기판의 크기 증가는 공정라인에서 진동에 더욱더 취약해지는 결과를 초래하므로 보다 엄격하게 진동관리가 필요하게 된다. 이에, 본 논문에서는 기존 세대인 1~5세대 TFT-LCD 공장 현장에서 노광기의 진동실태를 수집하여 파악하고 Maker에서 제시하는 자료와 비교/평가하고, 문제점을 확인한다. 이를 기초로 수정/보완되어야 할 사항을 검토하며, 차세대인 6∼7세대 노광기에 대한 진동저감 대책을 위한 시스템을 설계하는 절차서에 대한 예를 들었으며, 최적의 진동저감 대책에 대한 설계안의 방향을 제시하였다.
We developed a 4 inch (qVGA, 320x240) a-Si TFT LCD which has the function of color scanner. We have designed the novel pixel structure and got good scanning quality with minimum aperture loss. In this new pixel, the sensor capacitance was increased in double without decreasing the aperture loss.
TFT-LCD panel makers have been enlarging size of TV screens, and 50-inch TFT-LCD is one of the main stream products already. To have more improved resolution, productivity and lower manufacturing cost, new TFT-LCD factories adopt large mother glass, new TFT structure and new process/materials. Along with these technology evolution, laser repair system should equip with upgraded performance and additional functions on user's demand. Laser repair technology is reviewed and newly developed repair technology is being introduced.
TFT-LCD is widely used for flat panel display. The large-size TFT-LCD panel requires a high speed driving and various driving methods because of signal delay, which is responsible for the shading effects. In this work, the floating and double driving methods are applied to Pixel Design Array Simulation Tool(PDAST) and the pixel characteristics of TFT-LCD array is simulated. Also, we have implemented the semi-empirical TFT model to PDAST, which makes to obtain a more accurate pixel characteristics.
Park, Jae-Woo;Kim, Tae-Hyung;Noh, Won-Yoel;Choi, Jong-Sun
Proceedings of the KIEE Conference
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2000.11c
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pp.452-454
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2000
In recent years, the Thin Film Transistor Liquid Crystal Display (TFT-LCD) is used in a variety of products as an interfacing device between human and them. Since TFT-LCDs have trend toward larger Panel sizes and higher spatial and/or gray-scale resolution, pixel charging characteristic is very important for the large panel size and high resolution TFT-LCD pixel characteristics. In this paper, both data line precharging method and line time extension (LiTEX) method is applied to Pixel Design Array Simulation Tool (PDAST) and the pixel charging characteristics of TFT-LCD array were simulated, which were compared with the results calculated by both PDAST In which the conventional device model of a-Si TFTs and gate step method is implemented.
We have developed a novel driving method, Six times Rate Driving(SRD) for the purpose of making cost competitive TFT-LCD. By applying SRD method to an a-Si TFT-LCD, the driving rate was increased six times as it was named but the number of data lines and so its D-Ics were reduced to one sixth of the conventional one which resulted in the cost saving of that much. We also newly designed the gate driver in order to avoid any expansion of the bezel width caused by applying SRD. Our newly developed driving technology, SRD was successfully applied to 7.0-inch WSVGA (1024 ${\times}$ 600) TFT-LCD which can be driven with only one data D-IC and here introduced.
2.22-inch qVGA $(240{\times}320)$ amorphous silicon thin film transistor liquid active matrix crystal display (a-Si TFT-AMLCD) panel has been successfully demonstrated employing a 2.5 um fine-patterning technology by a wet etch process. Higher resolution 2.22-inch qVGA LCD panel with an aperture ratio of 58% can be fabricated as the 2.5 um fine pattern formation technique is integrated with high thermal photo-resist (PR) development. In addition, a novel concept of unique a-Si TFT process architecture, which is advantageous in terms of reliability, was proposed in the fabrication of 2.22-inch qVGA LCD panel. Overall results show that the 2.5 um fine-patterning is a considerably significant technology to obtain higher aperture ratio for higher resolution a-Si TFT-LCD panel realization.
Proceedings of the Korean Operations and Management Science Society Conference
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2000.04a
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pp.94-98
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2000
본 논문은 TFT-LCD 모듈 조립 공정에서의 스케줄링 시스템을 제안한다. TFT-LCD 모듈 조립 공정은 선행 공정인 액정 공정에서 넘어오는 LCD 판넬과 기타 부품들을 조립하여 최종 완제품을 만드는 공정이다. 본 연구에서 다루고 있는 문제는 주문량으로부터 구해지는 일일 생산 계획량이 주어졌을 때 각 라인에서 생산되어질 제품을 배정하는 문제이다. 본 논문의 목적은 주어진 실제 공정 환경에서 일일 생산 계획량을 최대로 만족하기 위한 스케줄링 휴리스틱을 개발하는 것이다. 이를 위해 relaxed LP 모형을 제시하였고 제시된 LP 모형을 이용한 알고리즘을 개발하였다. 제안된 알고리즘은 제품 우선 배정 조건, 현 보유 자재량과 대략적인 라인의 생산 능력을 고려한 LP 프로시져 부분과 제품 간 셋업 시간을 고려한 설비 배정 휴리스틱의 두 부분으로 구분된다. 알고리즘의 성능 검사를 위해 실제 TFT-LCD 모듈 공정에서의 데이터를 이용하여 과거에 실제 이루어진 생산 결과와 비교를 하였으며 제안된 알고리즘의 효율성을 실험 결과를 통해 보였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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